公开(公告)号：KR1019940001227B1

公开(公告)日：1994-02-17

申请号：KR1019910011402

申请日：1991-07-05

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 박경현 ,  김동환 ,  김선호 ,  최상삼 ,  이규행 ,  변영태

IPC: H01L21/30

Abstract: The focusing method for a laser lithographic device uses the interference pattern. The laser beam from a light source (10) passes a collimater (11) to go to a beam splitter (12), where the laser beam is splitted into two ways, one for a mirror (13) and the other for an object (19) on a reflector (18). The two different passes of the laser beam form the interference pattern on the CCD (15) to be monitored. The focal length adjustable lens are adjusted to have the interference pattern straightened.

Abstract translation: 激光光刻设备的聚焦方法使用干涉图案。 来自光源（10）的激光束通过准直器（11）去到分束器（12），其中激光束被分成两种方式，一个用于反射镜（13），另一个用于物体（ 19）在反射器（18）上。 激光束的两个不同通道在待监测的CCD（15）上形成干涉图案。 调整焦距可调镜头以使干涉图案矫直。

公开(公告)号：KR100073984B1

公开(公告)日：1994-05-26

申请号：KR1019910011402

申请日：1991-07-05

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 박경현 ,  김동환 ,  김선호 ,  최상삼 ,  이규행 ,  변영태

IPC: H01L21/30

公开(公告)号：KR1019930003251A

公开(公告)日：1993-02-24

申请号：KR1019910011402

申请日：1991-07-05

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 박경현 ,  김동환 ,  김선호 ,  최상삼 ,  이규행 ,  변영태

IPC: H01L21/30

Abstract: 내용 없음.