公开(公告)号：KR1020130017189A

公开(公告)日：2013-02-20

申请号：KR1020110079483

申请日：2011-08-10

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 전영민 ,  황정민 ,  장지웅 ,  박민철 ,  우덕하 ,  김선호 ,  이석 ,  김재헌 ,  이택진

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/0274 ,  G03F7/70608 ,  G03F7/70616 ,  H01L22/12 ,  H01L22/30

Abstract: PURPOSE: A 3-dimensional image acquisition system for mask pattern inspection and a method thereof are provided to effectively inspect defects by tilting a stage for mounting a mask. CONSTITUTION: A moving unit(500) moves a stage to the X-, Y- or Z-axis. A tilting unit(600) tilts an angle of the stage to acquire the 3D height information of a mask. A CCD(Charged Coupled Device) camera(700) acquires a diffraction image reflected from the mask. A control device(800) performs inverse fast Fourier transform on the diffraction image to recover a pattern image of the mask and controls the moving unit and the tilting unit. [Reference numerals] (800) Control device

Abstract translation: 目的：提供一种用于掩模图案检查的三维图像采集系统及其方法，通过倾斜安装掩模的台架来有效地检测缺陷。 构成：移动单元（500）将平台移动到X轴，Y轴或Z轴。 倾斜单元（600）倾斜台的角度以获得掩模的3D高度信息。 CCD（电荷耦合器件）相机（700）获取从掩模反射的衍射图像。 控制装置（800）对衍射图像进行快速傅立叶逆变换，以恢复掩模的图案图像，并控制移动单元和倾斜单元。 （附图标记）（800）控制装置

公开(公告)号：KR101262269B1

公开(公告)日：2013-05-08

申请号：KR1020110079483

申请日：2011-08-10

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 전영민 ,  황정민 ,  장지웅 ,  박민철 ,  우덕하 ,  김선호 ,  이석 ,  김재헌 ,  이택진

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/66

Abstract: 본발명은마스크패턴검사용 3차원영상획득시스템및 그방법에관한것으로, 극자외선(Extreme Ultra-Violet, EUV)을방사하는광원부와, 상기광원부로부터방사된극자외선을반사하여집광하는오목거울과, 상기오목거울에의해집광된극자외선을측정대상마스크를향하여반사하는반사거울과, 상기측정대상마스크를안착시키는스테이지와, 상기스테이지의일측에구비되며, 상기측정대상마스크의전체이미지를스캔할수 있도록상기스테이지를 X축, Y축및 Z축방향으로이동시키기위한이동수단과, 상기측정대상마스크의 3차원높이정보를획득할수 있도록상기스테이지의 X축및 Y축중 적어도하나의축을기준으로일정각도좌/우측방향으로틸팅(tilting)시키기위한틸팅수단과, 상기측정대상마스크로부터반사된회절이미지를획득하는 CCD(Charged Coupled Device) 카메라와, 상기 CCD 카메라로부터획득된회절이미지를역 고속퓨리에변환(Inverse Fast Fourier Transform, IFFT)을수행하여상기측정대상마스크의패턴이미지를복원함과아울러상기이동수단및 상기틸팅수단의동작을제어하기위한구동제어신호를출력하는제어장치를포함함으로써, 극자외선(EUV) 광원으로만들어진차세대반도체공정에서사용되는 3차원구조의마스크패턴에존재하는미세결함(Defect) 등을효과적으로검사할수 있다.