Abstract:
본 발명은 전기 절연성 유연 케이블; 상기 유연 케이블 표면상에 형성된 1개 이상의 P형 열전 인쇄층; 및 상기 유연 케이블 표면상에 상기 P형 열전 인쇄층과 상호 이격되도록 형성된 1개 이상의 N형 열전 인쇄층;를 포함하는 유연 케이블형 열전소자에 관한 것이다. 이에 의하여, 인체에 적용하기에 적절할 뿐 아니라, 인체 외에 불규칙한 곡면에 있는 물체에 적용할 수 있어 활용도가 매우 높은 유연 케이블형 열전소자를 제공하며, 열전 잉크를 유연 케이블에 직접 인쇄하는 방식으로 공정 효율이 우수하다.
Abstract:
다공성 아라미드 나노섬유 박막, 이의 제조방법, 및 이를 포함하는 이차전지를 제공한다. 다공성 아라미드 나노섬유 박막의 제조방법은 아라미드 나노씨드 현탁액을 기판 상에 도포하여 아라미드 나노씨드 현탁액층을 형성하는 것을 포함한다. 상기 현탁액층을 알코올-함유 양성자성 용매 내에 침지시켜 1차 용매 교환하여 자기조립에 의한 아리미드 나노섬유 박막을 제조한다. 상기 아라미드 나노섬유 박막을 물에 침지시켜 2차 용매 교환시켜 아라미드 나노섬유 하이드로겔 박막을 형성한다. 상기 아라미드 나노섬유 하이드로겔 박막을 동결 건조하여 다공성 아라미드 나노섬유 박막을 제조한다.
Abstract:
본단결정의금속박막; 및상기단결정의금속박막상에형성된그래핀층;을포함하는플라즈모닉도파관용적층체에관한것이다. 이에의하여, 본발명의플라즈모닉도파관용적층체는단결정금속박막과그래핀을이용하여표면플라즈몬폴라리톤의전파길이를유지하면서도우수한내식성을가질수 있다. 또한, 본발명의플라즈모닉도파관또는이를포함하는플라즈모닉소자는이와같은적층체를사용함으로써성능의신뢰성을확보할수 있다.
Abstract:
본단결정의금속박막; 및상기단결정의금속박막상에형성된그래핀층;을포함하는플라즈모닉도파관용적층체에관한것이다. 이에의하여, 본발명의플라즈모닉도파관용적층체는단결정금속박막과그래핀을이용하여표면플라즈몬폴라리톤의전파길이를유지하면서도우수한내식성을가질수 있다. 또한, 본발명의플라즈모닉도파관또는이를포함하는플라즈모닉소자는이와같은적층체를사용함으로써성능의신뢰성을확보할수 있다.
Abstract:
The present invention relates to the boron-doped reduction graphene capable of adjusting the physical properties of a semiconductor and conductivity and a manufacturing method thereof and, preferably, to a mass production method. The boron-doped reduction graphene according to the present invention exhibits excellent conductivity and improved stability and is usefully used in a graphene semiconductor since the boron-doped reduction graphene shows p-type properties. The manufacturing method for the reduction graphene according to the present invention is environment-friendly, simplifies a process method, reduces production costs, facilitates mass production and adjusts the physical properties of a semiconductor and conductivity, thereby being usefully used in the production of the graphene semiconductor. [Reference numerals] (AA) Manufacturing the dispersion of graphene oxides and boron oxides;(BB) Manufacturing graphene oxide-boron oxide solid mixtures;(CC) Reducing and doping through heat treatment;(DD) Washing and drying residual boron oxides