나노전사 프린팅 방법 및 이를 이용하여 제작되는 SERS 기판, SERS 바이얼 및 SERS 패치
    2.
    发明申请
    나노전사 프린팅 방법 및 이를 이용하여 제작되는 SERS 기판, SERS 바이얼 및 SERS 패치 审中-公开
    NANOTRANSFER印刷方法和SERS基材,SERS VIAL和SERS PATCH制造使用相同

    公开(公告)号:WO2016068538A1

    公开(公告)日:2016-05-06

    申请号:PCT/KR2015/011082

    申请日:2015-10-20

    CPC classification number: G03F7/0002 B82Y10/00 B82Y40/00

    Abstract: 일실시예에 따른 나노전사 프린팅 방법은 표면 패턴이 형성된 템플릿 기판 상에 고분자 박막을 코팅하는 단계; 상기 고분자 박막 및 접착 필름을 이용하여 상기 고분자 박막을 복제 박막 몰드로 제작하는 단계; 상기 복제 박막 몰드 상에 나노구조체를 형성하는 단계; 상기 접착 필름과 상기 복제 박막 몰드간 접착력을 선택적으로 약화시키는 단계; 및 상기 나노구조체를 대상 물체에 전사하는 단계를 포함한다.

    Abstract translation: 根据实施方案的纳米转印印刷方法包括以下步骤:用聚合物薄膜涂覆其上形成有表面图案的模板基材; 使用聚合物薄膜和粘合膜从聚合物薄膜制造复制薄膜模具; 在复制薄膜模具上形成纳米结构; 选择性地削弱粘合膜和复制薄膜模具之间的粘合力; 并将纳米结构转移到目标物体上。

    나노전사 프린팅 방법 및 이를 이용하여 제작되는 SERS 기판, SERS 바이얼 및 SERS 패치
    8.
    发明授权
    나노전사 프린팅 방법 및 이를 이용하여 제작되는 SERS 기판, SERS 바이얼 및 SERS 패치 有权
    使用该方法制造纳米转印印刷方法和SERS基底,SERS小瓶和SERS贴剂

    公开(公告)号:KR101761010B1

    公开(公告)日:2017-07-25

    申请号:KR1020150129896

    申请日:2015-09-14

    Abstract: 일실시예에따른나노전사프린팅방법은표면패턴이형성된템플릿기판상에고분자박막을코팅하는단계; 상기고분자박막및 접착필름을이용하여상기고분자박막을복제박막몰드로제작하는단계; 상기복제박막몰드상에나노구조체를형성하는단계; 상기접착필름과상기복제박막몰드간접착력을선택적으로약화시키는단계; 및상기나노구조체를대상물체에전사하는단계를포함한다.

    Abstract translation: 根据本发明的一个实施例,提供了一种纳米转印印刷方法,包括:在其上形成有表面图案的模板基板上涂覆聚合物薄膜; 使用聚合物薄膜和粘合膜制造聚合物薄膜作为复制薄膜模具; 在复制薄膜模具上形成纳米结构; 选择性地弱化粘合剂膜和复制薄膜模具之间的粘合力; 并将纳米结构转移到目标物体上。

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