나노전사 프린팅 방법 및 이를 이용하여 제작되는 SERS 기판, SERS 바이얼 및 SERS 패치
    6.
    发明申请
    나노전사 프린팅 방법 및 이를 이용하여 제작되는 SERS 기판, SERS 바이얼 및 SERS 패치 审中-公开
    NANOTRANSFER印刷方法和SERS基材,SERS VIAL和SERS PATCH制造使用相同

    公开(公告)号:WO2016068538A1

    公开(公告)日:2016-05-06

    申请号:PCT/KR2015/011082

    申请日:2015-10-20

    CPC classification number: G03F7/0002 B82Y10/00 B82Y40/00

    Abstract: 일실시예에 따른 나노전사 프린팅 방법은 표면 패턴이 형성된 템플릿 기판 상에 고분자 박막을 코팅하는 단계; 상기 고분자 박막 및 접착 필름을 이용하여 상기 고분자 박막을 복제 박막 몰드로 제작하는 단계; 상기 복제 박막 몰드 상에 나노구조체를 형성하는 단계; 상기 접착 필름과 상기 복제 박막 몰드간 접착력을 선택적으로 약화시키는 단계; 및 상기 나노구조체를 대상 물체에 전사하는 단계를 포함한다.

    Abstract translation: 根据实施方案的纳米转印印刷方法包括以下步骤:用聚合物薄膜涂覆其上形成有表面图案的模板基材; 使用聚合物薄膜和粘合膜从聚合物薄膜制造复制薄膜模具; 在复制薄膜模具上形成纳米结构; 选择性地削弱粘合膜和复制薄膜模具之间的粘合力; 并将纳米结构转移到目标物体上。

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