公开(公告)号：WO2013027900A1

公开(公告)日：2013-02-28

申请号：PCT/KR2011/009928

申请日：2011-12-21

Applicant: 한국과학기술원 ,  양민양 ,  강봉철 ,  이주형 ,  김건우 ,  노지환

Inventor： 양민양 ,  강봉철 ,  이주형 ,  김건우 ,  노지환

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70408

Abstract: 본 발명은 헤테로다인 간섭 리소그래피 장치 및 그 장치를 이용한 미세패턴 형성방법에 대한 것이다. 두 개 또는 그 이상의 각기 다른 파장을 생성할 수 있는 레이저를 이용하여 간접 현상을 일으켜 나노패턴을 형성하고, 맥놀이 현상에 의한 마이크로 패턴을 동시에 형성할 수 있는 간섭 리소그래피 장치 및 패턴 형성방법에 관한 것이다. 이를 위해 서로 다른 파장을 갖는 레이저 빔을 발생시키는 멀티 레이져 광원부 (100); 레이저 빔을 투과시키거나 반사시키는 빔 분리기 (200); 투과된 레이저 빔의 편광성분을 반전시키는 편광 반전수단 (300); 반전된 레이저 범을 확장시키는 빔 확장기 (400); 및 확장된 레이저 빔과 확장된 레이저 빔의 반사에 의해 서로 간섭을 일으킴으로써 제 1패턴을 형성하고, 서로 다른 파장에 의한 파동의 간섭에 의해 새로운 합성파를 생성함으로써 제 2패턴을 형성하는 패턴 생성부 (500);를 포함하는 것을 특징으로 하는 헤테로다인 간섭 리소그래피 장치가 개시된다.

Abstract translation: 外差干涉光刻设备技术领域本发明涉及一种外差干涉光刻设备以及使用其形成微图案的方法。 更具体地说，本发明涉及一种干涉光刻设备和一种形成图案的方法，其中该设备通过使用能够产生两个或更多个波长的激光产生干扰而形成纳米图案，并且通过拍子同时形成微图案 现象。 为此，公开了外差干涉光刻设备，其包括：用于产生具有不同波长的激光束的多激光光源部分（100） 用于传输或反射激光束的分束器（200）; 偏振反转装置（300），用于使发射的激光束的偏振分量反转; 用于扩展反转的激光束的光束扩展器（400） 以及用于通过使扩大的激光束和扩大的激光束的反射彼此干涉来形成第一图案的图案生成部分（500），并且由于波浪干扰而产生新的复合波形成第二图案 通过不同的波长。

公开(公告)号：KR101105670B1

公开(公告)日：2012-01-18

申请号：KR1020100100177

申请日：2010-10-14

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 양민양 ,  강봉철 ,  노지환

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01L21/0275 ,  G03F7/2006

Abstract: PURPOSE: A heterodyne interference lithography apparatus and a method for forming a micro-pattern using the same are provided to form various micro-patterns by generating an indirect phenomenon using laser which erupts various wavelengths. CONSTITUTION: A multi laser light source part(10) erupts laser having different wavelength more than 2 at the same time. A beam expander(50) exaggerates an illumination area of the laser which is erupted. A rotational stage(100) is composed of a base part(110), a reflecting part(120) and rotating part(130). A specimen what is exposed by the laser is installed in the base part. A light amount controller(60) controls the quantity of light of the laser which is income in the rotational stage.

Abstract translation: 目的：提供外差干涉光刻设备和使用其形成微图案的方法以通过使用喷射各种波长的激光产生间接现象来形成各种微图案。 构成：多激光光源部（10）同时喷射不同波长的激光。 光束扩展器（50）夸大激光的照射区域，该照明区域被喷射。 旋转台（100）由基部（110），反射部（120）和旋转部（130）构成。 激光器暴露的样本安装在基座部分。 光量控制器（60）控制在旋转阶段收入的激光的光量。

公开(公告)号：KR101114256B1

公开(公告)日：2012-03-05

申请号：KR1020100068120

申请日：2010-07-14

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 양민양 ,  강봉철 ,  이성근 ,  노지환

IPC: H01L21/268 ,  H01L21/027 ,  B23K26/351 ,  B23K26/361

CPC classification number: H05K3/105 ,  H05K1/097 ,  H05K3/1283 ,  H05K2201/0257 ,  H05K2203/013 ,  H05K2203/107 ,  H05K2203/121

Abstract: 본발명의패턴제조방법은, 기판상에은 이온이유기물과이온결합되어투명한상태를유지하고있는금속유기화합물잉크층을박막으로형성하는제1 단계; 기판을가열하는것에의하여, 은이온을환원시켜상기금속유기화합물잉크층을반고상상태로경화시키고, 또한금속유기화합물잉크층에서유기물을증발시키는제2 단계; 유기물이증발되어금속유기화합물잉크층의두께가제1 단계에서형성된때보다얇아진상태에서, 반고상상태의금속유기화합물잉크층에레이저광을조사하여, 조사된부위가고상상태로경화되어패턴이형성되는제3 단계; 및반고상상태의금속유기화합물잉크층을제거하여패턴만을남기는제4 단계를포함한다.

公开(公告)号：KR1020120007381A

公开(公告)日：2012-01-20

申请号：KR1020100068120

申请日：2010-07-14

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 양민양 ,  강봉철 ,  이성근 ,  노지환

IPC: H01L21/268 ,  H01L21/027 ,  B23K26/351 ,  B23K26/361

CPC classification number: H05K3/105 ,  H05K1/097 ,  H05K3/1283 ,  H05K2201/0257 ,  H05K2203/013 ,  H05K2203/107 ,  H05K2203/121 ,  H01L21/0275 ,  G03F7/2018 ,  H01L21/2683

Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a pattern is provided to improve laser absorption by hardening an organic ink layer into a semi-solid state. CONSTITUTION: A metal organic ink layer is formed on a substrate. The metal organic ink layer is hardened into a semi-solid state. A pattern is formed by irradiating laser light on the metal organic ink layer of the semi-solid state. The metal organic ink layer of the semi-solid state is removed.

Abstract translation: 目的：提供一种用于制造图案的方法，以通过将有机油墨层硬化成半固体来改善激光吸收。 构成：在基板上形成金属有机油墨层。 金属有机油墨层硬化成半固态。 通过在半固态的金属有机油墨层上照射激光来形成图案。 去除半固态的金属有机油墨层。

公开(公告)号：KR101229786B1

公开(公告)日：2013-02-05

申请号：KR1020110084000

申请日：2011-08-23

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 양민양 ,  강봉철 ,  이주형 ,  김건우 ,  노지환

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70408 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/2008 ,  H01L21/0275

Abstract: PURPOSE: A hetero-dyne interference lithography device, a method for forming a fine pattern using the same, a wafer, and a semiconductor device are provided to mass-produce the fine pattern by simultaneously forming a nanopattern and a micropattern. CONSTITUTION: A multi laser source(100) generates a laser beam. The laser beam has a different wavelength. A polarization beam splitter(200) reflects and projects the laser beam. A spatial beam splitter(300) splits an optical path of the laser beam. A beam expander(400) expands the inverted laser beam. [Reference numerals] (100) Multi laser source

Abstract translation: 目的：提供异晶体干涉光刻设备，使用其制造精细图案的方法，晶片和半导体器件，以通过同时形成纳米图案和微图案大量生产精细图案。 构成：多激光源（100）产生激光束。 激光束具有不同的波长。 偏振分束器（200）反射并投影激光束。 空间分束器（300）分裂激光束的光路。 光束扩展器（400）扩展反转的激光束。 （附图标记）（100）多重激光源