반도체 소자 및 그 제조 방법
    1.
    发明公开
    반도체 소자 및 그 제조 방법 审中-实审
    半导体装置及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020170079082A

    公开(公告)日:2017-07-10

    申请号:KR1020150189263

    申请日:2015-12-30

    Abstract: 본발명은수소가채널내로확산되는정도를최소화하기위하여, 배리어층이코팅된기판; 상기기판상의활성층; 상기활성층상의게이트절연막패턴; 상기게이트절연막패턴상의게이트전극; 상기게이트패턴, 상기활성층상에형성된수소제공층; 상기수소제공층을모두덮도록형성된수소유입방지막; 및상기수소유입방지막상의층간절연막, 소스/드레인전극그리고소자패시베이션막을구비하는, 반도체소자를제공한다.

    Abstract translation: 本发明涉及涂覆有阻挡层的基底,以便使氢扩散到通道中的程度最小化。 衬底上的有源层; 有源层上的栅极绝缘膜图案; 栅绝缘膜图案上的栅电极; 栅极图案,形成在有源层上的供氢层, 形成为覆盖全部供氢层的氢流入抑制膜; 以及氢气流入防止膜上的层间绝缘膜,源极/漏极电极和元件钝化膜。

    반도체 소자 및 그 제조 방법

    公开(公告)号:KR101819214B1

    公开(公告)日:2018-01-17

    申请号:KR1020150189263

    申请日:2015-12-30

    Abstract: 본발명은수소가채널내로확산되는정도를최소화하기위하여, 배리어층이코팅된기판; 상기기판상의활성층; 상기활성층상의게이트절연막패턴; 상기게이트절연막패턴상의게이트전극; 상기게이트패턴, 상기활성층상에형성된수소제공층; 상기수소제공층을모두덮도록형성된수소유입방지막; 및상기수소유입방지막상의층간절연막, 소스/드레인전극그리고소자패시베이션막을구비하는, 반도체소자를제공한다.

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