公开(公告)号：KR1020120034280A

公开(公告)日：2012-04-12

申请号：KR1020100095723

申请日：2010-10-01

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 김진백 ,  우승아 ,  박지영

IPC: C08G77/60 ,  C08L83/16 ,  G03F7/075 ,  H01L21/027

CPC classification number: C08G77/60 ,  C08L83/16 ,  G03F7/0754 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/0274

Abstract: PURPOSE: Silicon-containing photoresist material is provided to restrain the deterioration of contrast and deformation of resist profile, and to obtain resist patterns of high aspect ratio and high resolution. CONSTITUTION: A silicon-containing polymer comprises an amine group, a hydroxyl group, or a thiol group, and is in chemical formula 1. In chemical formula 1, R1 is C1-20 hydrocarbon, Z is an amine group, a hydroxyl group, or thiol group, and x and y is an integer. A photo resist composition comprises a first polymer containing a first polymer containing diazoketo group, and a silicone-containing second polymer comprising an amine group, a hydroxyl group, or thiol group as a functional group. The first polymer contains the diazoketo group in a side chain.

Abstract translation: 目的：提供含硅光致抗蚀剂材料，以抑制对比度的劣化和抗蚀剂轮廓的变形，并获得高纵横比和高分辨率的抗蚀剂图案。 构成：含硅聚合物包含胺基，羟基或硫醇基，并且在化学式1中。在化学式1中，R 1是C 1-20烃，Z是胺基，羟基， 或硫醇基，x和y是整数。 光致抗蚀剂组合物包含含有含有二唑酮基的第一聚合物的第一聚合物和包含胺基，羟基或硫醇基作为官能团的含硅氧烷的第二聚合物。 第一种聚合物在侧链中含有二唑酮基。

公开(公告)号：KR1020120040578A

公开(公告)日：2012-04-27

申请号：KR1020100102076

申请日：2010-10-19

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 박지영 ,  유현정 ,  메리캐서린톰슨 ,  앤드류조지브룩스

IPC: B66B11/02 ,  B66B9/16 ,  B66B13/14 ,  B65G13/02

CPC classification number: B66B9/187 ,  B66B11/0226 ,  B66B2201/307

Abstract: PURPOSE: An elevator having a cargo transporting function, and cargo transporting system and method using thereof are provided to transport cargoes by using energy moving by the movement of users. CONSTITUTION: An elevator having a cargo transporting function includes a first space(110), a second space(120), and a cargo transporting unit. The first space is for users to ride the elevator. The second space is separated from the first space, and loaded with cargoes. The first and second spaces have first and second doors(111,121). The cargo transporting unit is located on the outside of the elevator, and is connected to the second space.

Abstract translation: 目的：提供具有货物运输功能的电梯，以及使用它的货物运输系统及其方法，用于通过使用者移动的能量来运送货物。 构成：具有货物运送功能的电梯包括第一空间（110），第二空间（120）和货物运输单元。 第一个空间是用户乘坐电梯。 第二个空间与第一个空间分开，装满货物。 第一和第二空间具有第一和第二门（111,121）。 货物运输单元位于电梯的外部，并连接到第二空间。

公开(公告)号：KR1020110101993A

公开(公告)日：2011-09-16

申请号：KR1020100021409

申请日：2010-03-10

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 김범준 ,  전석우 ,  박지영 ,  강기석

IPC: H01L51/42 ,  H01L51/50

CPC classification number: Y02E10/549 ,  H01L51/0034 ,  E06B2009/2476 ,  H01L27/3225 ,  Y02E10/50

Abstract: 본 발명은 에너지 충전 모드인 유기 태양 전지와 광 발광 모드인 유기 발광 다이오드의 2가지 모드로 작용할 수 있는 윈도우 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 태양광이 있을 때는 에너지 충전 모드인 유기 태양 전지로 작용하여 태양광을 흡수하여 전력을 생산하면서 동시에 다양한 색깔로 발광하여 입사 태양광량을 조절할 수 있고, 태양광이 없을 때는 광 발광 모드인 유기 발광 다이오드로 작용하여 에너지 충전 모드일 때 저장된 전력을 인가하여 발광할 수 있는 전도성 고분자를 포함하는 막을 포함하는 윈도우 장치에 관한 것이다.

公开(公告)号：KR100837409B1

公开(公告)日：2008-06-12

申请号：KR1020060120080

申请日：2006-11-30

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  한국과학기술원

Inventor： 김규식 ,  김진백 ,  하용웅 ,  박병하 ,  박지영 ,  김수민

IPC: G03F7/004 ,  C07D305/06 ,  C07D305/08

CPC classification number: C07D305/06 ,  C08L61/06 ,  G03F7/038 ,  Y10S430/115

Abstract: 본 발명은 하기 화학식 1또는 2를 갖는 옥세탄-함유 화합물, 이를 포함한 포토레지스트 조성물, 상기 포토레지스트 조성물을 이용한 패턴 형성 방법 및 상기 옥세탄-함유 화합물의 중합 결과물을 포함한 잉크젯 프린트 헤드에 관한 것이다:


상기 화학식 1 중, Q
1 , Q
2 , Q
3 , Q
4 , Q
5 , Q
6 , Q
7 , Q
8 , L
1 , L
2 , a, b, c, d, e, f, g, h 및 n은 발명의 상세한 설명을 참조한다. 본 발명을 따르는 옥세탄-함유 화합물은 중합성이 우수하여 포토레지스트로 이용될 수 있으며, 이의 중합 결과물은 내열성, 내화학성, 접착성, 내구성 등이 우수하다.
포토레지스트

公开(公告)号：KR1020080049475A

公开(公告)日：2008-06-04

申请号：KR1020060120080

申请日：2006-11-30

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  한국과학기술원

Inventor： 김규식 ,  김진백 ,  하용웅 ,  박병하 ,  박지영 ,  김수민

IPC: G03F7/004 ,  C07D305/06 ,  C07D305/08

CPC classification number: C07D305/06 ,  C08L61/06 ,  G03F7/038 ,  Y10S430/115 ,  G03F7/085

Abstract: An oxetane-containing compound, a photoresist composition containing the compound, a pattern formation method using the composition, and an inkjet print head using the compound are provided to improve the polymerization property of the compound and to enhance the heat resistance, chemical resistance, adhesion and durability of the polymer of the compound. An oxetane-containing compound is represented by the formula 1 or 2, wherein Q1 to A8 are independently H a hydroxyl group, a carboxyl group, a substituted or unsubstituted C1-C30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C2-C30 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C2-C30 alkynyl group, a substituted or unsubstituted C1-C30 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C4-C30 aliphatic hydrocarbon ring, a substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, a substituted or unsubstituted C3-C30 heteroaryl group, a substituted or unsubstituted C6-C30 aryloxy group, a substituted or unsubstituted c6-C30 acyl group, or a substituted or unsubstituted ether bond-containing monovalent group; a is 1, 2, 3 or 4; b is 1, 2, 3, 4 or 5; c and e are independently a, 2 or 3; d is 1 or 2; f, g and h are independently 1, 2, 3 or 4; L1 to L3 are independently a substituted or unsubstituted C1-C30 alkylene group, a substituted or unsubstituted C2-C30 alkenylene group, a substituted or unsubstituted C2-C30 alkynylene group, a substituted or unsubstituted C6-C30 arylene group, a substituted or unsubstituted C3-C30 hetero arylene group, or a substituted or unsubstituted ether bond-containing divalent group; and n is an integer of 0-10.

Abstract translation: 提供含有氧杂环丁烷的化合物，含有该化合物的光致抗蚀剂组合物，使用该组合物的图案形成方法和使用该化合物的喷墨打印头，以提高化合物的聚合性能并提高耐热性，耐化学性，粘附性 和化合物的聚合物的耐久性。 含氧杂环丁烷的化合物由式1或2表示，其中Q1至A8独立地为H，羟基，羧基，取代或未取代的C 1 -C 30烷基，取代或未取代的C 2 -C 30烯基， 取代或未取代的C 2 -C 30炔基，取代或未取代的C 1 -C 30烷氧基，取代或未取代的C 4 -C 30脂族烃环，取代或未取代的C 6 -C 30芳基，取代或未取代的C 3 -C 30杂芳基， 取代或未取代的C 6 -C 30芳氧基，取代或未取代的C 6 -C 30酰基或取代或未取代的含醚键的一价基团; a是1,2,3或4; b为1,2,3,4或5; c和e独立地为a，2或3; d为1或2; f，g和h分别为1,2,3或4; 取代或未取代的C 1 -C 30亚芳基，取代或未取代的C 6 -C 30亚芳基，取代或未取代的C 3 -C 30亚芳基，取代或未取代的C 2 -C 30亚炔基， -C30杂亚芳基或取代或未取代的含醚键的二价基团; n为0〜10的整数。

公开(公告)号：KR101339408B1

公开(公告)日：2013-12-10

申请号：KR1020100095723

申请日：2010-10-01

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 김진백 ,  우승아 ,  박지영

IPC: C08G77/60 ,  C08L83/16 ,  G03F7/075 ,  H01L21/027

Abstract: 실리콘 함유 포토레지스트 물질 및 포토레지스트 조성물이 제공된다.
본 발명에 따른 실리콘 함유 포토레지스트 물질은 하기 식 (1)이며,
(1)
(상기 식에서 R
1 은 탄소수 1 내지 20의 탄화수소이며, Z는 아민기, 히드록실기, 또는 티올기이며, x, y 는 정수임)
본 발명에 따른 포토레지스트는 레지스트 내부로 실릴화 물질이 흡수되지 않고 노광부의 표면에서만 화학반응을 일으키므로, 기존의 TSI 방법의 단점인 레지스트 프로파일 변형 및 콘트라스트(contrast) 악화를 방지할 수 있고, 또한 고해상도와 고종횡비의 레지스트 패턴을 얻을 수 있다. 즉, 본 발명에 따른 포토레지스트는 기존 TSI 방법에서 사용되는 헥사메틸실라잔 등의 실릴화제 대신, 실리콘 자체를 함유하는 고분자를 사용하며, 실리콘이 함유된 고분자 레지스트를 하부 레지스트 위에 스핀코팅하고, 노광부에서만 선택적으로 계면 상호반응이나 가교화 반응을 시키는 방식으로 미세 패턴을 형성한다. 또한, 본 발명은 빛에 의해서 반응하는 비화학증폭형 레지스트와 실리콘이 함유되어있는 고분자의 간단한 블렌딩 방법(blending method)을 통하여 패턴을 형성하므로, 실리콘의 함량 제한이 없이 실리콘을 일정한 비율로 사용할 수 있고, 단순한 레지스트 디자인이 가능하다. 더 나아가, 비화학증폭형 레지스트를 사용하므로, 화학증폭형 포토레지스트의 산의 손실이나 확산 등으로 인한 문제점을 해결할 수 있고, 베이킹 과정 없이 패턴을 형성할 수 있으므로 패턴화 공정수가 줄어드는 장점을 가지고 있다. 또한, 본 발명에 따른 디아조케토기를 포함하는 비화학증폭형 레지스트는 그 감도가 매우 우수하여 화학증폭형과 대등한 감도를 나타내며, 반응 중에 부산물로 질소만 생성되기 때문에 ArF 이머전 리소그래피(immersion lithography), 극자외선(EUV) 리소그래피 등 차세대 리소그래피 공정에서 매우 유용하다.

公开(公告)号：KR101339395B1

公开(公告)日：2013-12-10

申请号：KR1020100102076

申请日：2010-10-19

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 박지영 ,  유현정 ,  메리캐서린톰슨 ,  앤드류조지브룩스

IPC: B66B11/02 ,  B66B9/16 ,  B66B13/14 ,  B65G13/02

Abstract: 화물운송기능을 구비한 승강기, 이를 이용하는 화물운송 시스템 및 화물운송방법이 제공된다.
본 발명에 따른 승강기는 사람이 탑승하는 제 1 공간(110); 및 상기 제 1 공간(110)과 분리되며, 화물이 적재되는 제 2 공간(120)을 모두 포함하며, 사람 운송용 승강기에 화물 운송용 섹션을 결합시킴으로써 사람 운송과 화물 수송을 동시에 수행할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 승강기를 이용한 화물운송 시스템은 별도의 화물 수송용 승강기가 건물 내에 설치될 필요가 없으며, 에너지 효율 또한 우수하다. 더 나아가, 수직 이동뿐만 아니라 수평이동 시스템을 승강기 출구와 연결시킴으로써, 건물 내에서 화물의 수직/수평이동이 자유로이 수행될 수 있다.