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公开(公告)号：KR101511932B1
公开(公告)日：2015-04-13
申请号：KR1020130136955
申请日：2013-11-12
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01L29/12 , H01L21/324 , H01L29/786
Abstract: 본원은, 반도체제조용액상조성물, 및상기반도체제조용액상조성물을이용한반도체박막의제조방법및 박막트랜지스터의제조방법에관한것이다.
Abstract translation: 本发明涉及用于制造半导体的液相组合物和使用其制造半导体薄膜和薄膜晶体管的方法。 根据本发明，用于制造半导体的液相组合物是由无机氧化物前体，无机酸和溶剂组成的组合物。 无机酸含有磷酸，硼酸，硫酸和由它们的组合组成的组。 由该组合物制成的半导体由无机酸中所含的磷，硼和硫的阳离子掺杂。
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