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1.发明申请다양한 기재위에 형성한 미세입자의 임의 분산 패턴을 이용한 복제방지 라벨의 제조 및 진위 판별방법 审中-公开使用在各种基板上形成的细颗粒的随机分布图形生产抗皱标记的方法，以及用于确定标签的正确性的方法
公开(公告)号：WO2011145881A2
公开(公告)日：2011-11-24
申请号：PCT/KR2011/003677
申请日：2011-05-18
CPC classification number: G09F3/0292
Abstract: 본 발명은 기재 및 기개상에 형광 패턴이 견고히 유지되고 외부환경의 영향을 차단하여 장기간 형광색을 유지할 수 있으며，높은 안정성과 시인성을 보이는 형광 패턴이 형성되고，상기 형광 패턴 상부에 나노 또는 마이크로 크기의 입자, 와이어 또는 이들의 혼합물의 표면에 형광체로 코팅하여 제조되는 복합 분산체가 임의로 분산된 분산 패턴이 형성된 복제방지 라벨，이의 제조방법 및 이를 이용한 복제방지 라벨의 진위 판별방법에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种防伪标签，其中形成荧光图案并且牢固地保持在基板上，通过保护图案免受外部环境的影响，图案的荧光颜色长期保持， 并且荧光图案高度稳定且高度可见。 在荧光图案上形成其中复合分散体随机分散的分散图案，其中复合分散体通过将纳米级或微米级颗粒，电线或其混合物的表面与荧光物质涂覆而制备。 本发明还涉及一种制造防伪标签的方法，以及一种确定防伪标签真伪的方法。
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公开(公告)号：KR1020110126887A
公开(公告)日：2011-11-24
申请号：KR1020100046392
申请日：2010-05-18
Applicant: 한국과학기술원
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/201 , G03F7/0085 , H01L21/0273 , H01L21/0274 , H01L21/0337
Abstract: PURPOSE: A method for forming a fluorescence pattern is provided to maintain fluorescence characteristic for a long period of time by blocking a fluorescent substance in a cross-linking net based on a cross-linking reaction. CONSTITUTION: A chemically amplified photo-resist composition composed of a cross-linking polymer, a photo acid generator, a fluorescent substance, and an organic solvent is coated on a substrate. A patterned photo-mask is arranged on the coated material. An exposing process is implemented. A post baking process is implemented to form a fluorescence pattern(3). The post baking process is implemented at a temperature between 90 and 120 degrees Celsius for 2 to 8 minutes. The photo acid generator is selected from triphenylsulfonium hexafluoroantimonite and triphenylsulfonium triflate. The cross-linking polymer includes one or more functional groups selected from a group including a vinyl group, an oxetane group, an epoxy group, a tetrahydrofuran group, an alkoxysilane group, a carboxyl group and a hydroxyl group, and a aldehyde group and a hydroxyl group.
Abstract translation: 目的：提供形成荧光图案的方法，通过在交联网中基于交联反应阻断荧光物质来长时间保持荧光特性。 构成：将由交联聚合物，光酸产生剂，荧光物质和有机溶剂组成的化学放大型光致抗蚀剂组合物涂布在基材上。 在涂层材料上布置图案化的光罩。 实施曝光过程。 实施后烘烤处理以形成荧光图案（3）。 后烘烤过程在90至120摄氏度的温度下实施2至8分钟。 光酸产生剂选自三苯基锍六氟锑酸盐和三苯基锍三氟甲磺酸盐。 交联聚合物包括选自乙烯基，氧杂环丁烷基，环氧基，四氢呋喃基，烷氧基硅烷基，羧基和羟基的基团中的一个或多个官能团，醛基和 羟基。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020120039589A
公开(公告)日：2012-04-25
申请号：KR1020120023674
申请日：2012-03-07
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: PURPOSE: The fluorescence pattern of photo-crosslinkable photoresist mixed with fluorescent dye is provided to improve visibility and stability by blocking the influence of external environment. CONSTITUTION: Chemically amplified photoresist composition based on crosslinkable polymer, photo acid generator, fluorescent substance, and organic solvent is coated on a substrate. A patterned photo-mask is arranged on the coated substrate to be exposed. Fluorescent patterns(3) are formed based on a post baking operation. The post baking operation is implemented at a temperature between 90 and 120 degrees Celsius for 2 to 8 minutes. The photo acid generator is selected from triphenylsulfonium hexafluoroantimonite and triphenylsulfonium triflate.
Abstract translation: 目的：提供与荧光染料混合的光交联光刻胶的荧光图案，通过阻止外界环境的影响，提高可见度和稳定性。 构成：将基于可交联聚合物，光酸产生剂，荧光物质和有机溶剂的化学扩增的光致抗蚀剂组合物涂覆在基材上。 图案化的光掩模布置在被涂覆的基底上以暴露。 基于后烘烤操作形成荧光图案（3）。 后烘烤操作在90至120摄氏度的温度下进行2至8分钟。 光酸产生剂选自三苯基锍六氟锑酸盐和三苯基锍三氟甲磺酸盐。
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4.发明公开
公开(公告)号：KR1020110126885A
公开(公告)日：2011-11-24
申请号：KR1020100046386
申请日：2010-05-18
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: G09F3/02 , B41M3/144 , G09F3/0292 , G09F3/0294 , G09F2003/0277
Abstract: PURPOSE: The manufacture and truth discriminating method of a copy guard label is provided to steadily distinguish reproduction by adding a fluorescent substance in a reference pattern. CONSTITUTION: A reference pattern is formed on a hardening layer which contains a base material and a fluorescent substance on the base material. A dispersion pattern having composite dispersion which is arbitrarily dispersed is formed on the top of the reference pattern. The composite dispersion is manufactured by coating the fluorescent substance to the surface of particles of nano or microscopic size or mixture of the particle. The reference pattern is formed using photosensitive polymer having the fluorescent substance in one side of the base material. The fluorescent substance comprises one fluorescence dye or fluorescence dye more than two in which a wavelength is different.
Abstract translation: 目的：提供防伪标签的制造和真相识别方法，通过添加参考图案中的荧光物质来稳定地区分再现。 构成：在基材上含有基材和荧光物质的硬化层上形成参考图案。 具有任意分散的复合色散的色散图案形成在基准图案的顶部。 通过将荧光物质涂覆到纳米或微观尺寸的颗粒或颗粒的混合物的表面上来制造复合分散体。 参考图案使用在基材的一侧具有荧光物质的光敏聚合物形成。 荧光物质包括一种以上两种荧光染料或荧光染料，其中波长不同。
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公开(公告)号：KR101210904B1
公开(公告)日：2012-12-11
申请号：KR1020120023674
申请日：2012-03-07
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본발명은형광패턴형성방법에있어서,a)기재상에가교반응형폴리머광산발생제, 형광체및 유기용매로이루어진화학증폭형포토레지스트조성물을코팅하고패턴된포토마스크를올린후 노광하는단계;b)상기노광한후 후열반응(postbaking)으로형광패턴을형성하는단계; 를포함하는형광패턴형성방법에관한것이다. 또한본 발명은형광패턴형성방법에있어서, 기재상에광민감성가교형폴리머, 형광체및 유기용매로이루어진비화학증폭형포토레지스트조성물을코팅하고패턴된포토마스크를올린후 노광하는단계를포함하는형광패턴형성방법에관한것이다.
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公开(公告)号：KR101180640B1
公开(公告)日：2012-09-18
申请号：KR1020100046392
申请日：2010-05-18
Applicant: 한국과학기술원
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 본 발명은 형광패턴 형성방법에 있어서,a)기재 상에 가교반응형 폴리머 광산발생제, 형광체 및 유기용매로 이루어진 화학증폭형포토레지스트 조성물을 코팅하고 패턴된 포토마스크를 올린 후 노광하는 단계;b)상기 노광한 후 후열반응(postbaking)으로 형광패턴을 형성하는 단계;
를 포함하는 형광패턴 형성방법에 관한 것이다.
또한 본 발명은 형광패턴 형성방법에 있어서, 기재 상에 광민감성 가교형 폴리머, 형광체 및 유기용매로 이루어진 비화학증폭형 포토레지스트 조성물을 코팅하고 패턴된 포토마스크를 올린 후 노광하는 단계를 포함하는 형광패턴형성방법에 관한 것이다.Abstract translation: 一种形成荧光图案的方法，包括以下步骤：a）将包含交联反应型聚合物光酸产生剂，荧光材料和有机溶剂的化学放大光刻胶组合物涂布在基底上， ）曝光后通过烘烤形成荧光图案;
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7.发明授权
公开(公告)号：KR101113035B1
公开(公告)日：2012-02-27
申请号：KR1020100046386
申请日：2010-05-18
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본 발명은 기재 및 기재상에 형광체를 함유하는 경화층에 의해 기준패턴이 형성되고,
상기 기준패턴 상부에 나노 또는 마이크로 크기의 입자, 와이어 또는 이들의 혼합물의 표면에 형광체로 코팅하여 제조되는 복합 분산체가 임의로 분산된 분산패턴이 형성된 복제방지 라벨 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
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