Abstract:
본 발명은 기재 및 기개상에 형광 패턴이 견고히 유지되고 외부환경의 영향을 차단하여 장기간 형광색을 유지할 수 있으며,높은 안정성과 시인성을 보이는 형광 패턴이 형성되고,상기 형광 패턴 상부에 나노 또는 마이크로 크기의 입자, 와이어 또는 이들의 혼합물의 표면에 형광체로 코팅하여 제조되는 복합 분산체가 임의로 분산된 분산 패턴이 형성된 복제방지 라벨,이의 제조방법 및 이를 이용한 복제방지 라벨의 진위 판별방법에 관한 것이다.
Abstract:
PURPOSE: A method for forming a fluorescence pattern is provided to maintain fluorescence characteristic for a long period of time by blocking a fluorescent substance in a cross-linking net based on a cross-linking reaction. CONSTITUTION: A chemically amplified photo-resist composition composed of a cross-linking polymer, a photo acid generator, a fluorescent substance, and an organic solvent is coated on a substrate. A patterned photo-mask is arranged on the coated material. An exposing process is implemented. A post baking process is implemented to form a fluorescence pattern(3). The post baking process is implemented at a temperature between 90 and 120 degrees Celsius for 2 to 8 minutes. The photo acid generator is selected from triphenylsulfonium hexafluoroantimonite and triphenylsulfonium triflate. The cross-linking polymer includes one or more functional groups selected from a group including a vinyl group, an oxetane group, an epoxy group, a tetrahydrofuran group, an alkoxysilane group, a carboxyl group and a hydroxyl group, and a aldehyde group and a hydroxyl group.
Abstract:
PURPOSE: The fluorescence pattern of photo-crosslinkable photoresist mixed with fluorescent dye is provided to improve visibility and stability by blocking the influence of external environment. CONSTITUTION: Chemically amplified photoresist composition based on crosslinkable polymer, photo acid generator, fluorescent substance, and organic solvent is coated on a substrate. A patterned photo-mask is arranged on the coated substrate to be exposed. Fluorescent patterns(3) are formed based on a post baking operation. The post baking operation is implemented at a temperature between 90 and 120 degrees Celsius for 2 to 8 minutes. The photo acid generator is selected from triphenylsulfonium hexafluoroantimonite and triphenylsulfonium triflate.
Abstract:
PURPOSE: The manufacture and truth discriminating method of a copy guard label is provided to steadily distinguish reproduction by adding a fluorescent substance in a reference pattern. CONSTITUTION: A reference pattern is formed on a hardening layer which contains a base material and a fluorescent substance on the base material. A dispersion pattern having composite dispersion which is arbitrarily dispersed is formed on the top of the reference pattern. The composite dispersion is manufactured by coating the fluorescent substance to the surface of particles of nano or microscopic size or mixture of the particle. The reference pattern is formed using photosensitive polymer having the fluorescent substance in one side of the base material. The fluorescent substance comprises one fluorescence dye or fluorescence dye more than two in which a wavelength is different.
Abstract:
본 발명은 이원합금을 구성하는 금속원소들의 금속산화물, 금속물질 또는 할로겐화금속, 또는 이원합금물질을 선구물질로 기상합성 방법을 이용한 이원합금 나노구조체의 제조방법 및 이원합금 나노구조체를 제공하며, 상세하게는 반응로의 전단부에 위치시킨 선구물질과 반응로의 후단부에 위치시킨 기판을 불활성 기체가 흐르는 분위기에서 열처리하여 상기 기판 상에 이원합금 단결정 나노와이어 또는 나노벨트를 형성시키는 제조 방법 및 본 발명의 제조 방법에 의해 제조된 이원합금 나노와이어 또는 나노벨트를 제공한다. 본 발명의 제조방법은 촉매를 사용하지 않는 기상이송법을 이용하여 이원합금 나노구조체를 제조할 수 있어 그 공정이 간단하고 재현성이 있으며, 제조된 나노와이어 또는 나노벨트가 결함을 포함하지 않는 완벽한 단결정 상태의 고품질 이원합금 나노구조체인 장점을 가지며, 단결정 기판 상에 응집되어 있지 않은 균일한 크기의 이원합금 나노구조체를 대량생산할 수 있는 장점이 있다. 이원합금(binary alloy), 나노와이어(nanowire), 나노벨트(nanobelt), 기상합성법, Ag, Au, Pd, Te, Co, Bi, 무촉매
Abstract:
본 발명은 방향성을 갖는 특정 표적위에 분산된 임의의 패턴을 이용한 복제방지 라벨과 이의 제조방법 및 진위 판별방법에 관한 것이다. 구체적으로 본 발명은 기재 상에 나노 또는 마이크로 크기의 와이어(nano/micro wire), 나노 또는 마이크로 크기의 입자(nano/micro particle) 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 분산체가 임의로 분산된 분산패턴과, 상기 분산패턴의 상하, 좌우의 관측 기준이 되는 방향과 위치를 나타내는 표적패턴이 형성된 것을 특징으로 하는 복제방지 라벨에 관한 것이다. 복제, 라벨, 표적패턴, 나노와이어, 마이크로와이어, 나노입자, 마이크로입자, 임의 분산