公开(公告)号：KR1020090004213A

公开(公告)日：2009-01-12

申请号：KR1020070068239

申请日：2007-07-06

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 배병수 ,  정경호 ,  고지훈 ,  진정호

IPC: C08G77/16 ,  C08G77/06 ,  C08G77/32 ,  C08J7/04

CPC classification number: C08G77/16 ,  C08G77/14 ,  C08G77/20 ,  C08G77/26

Abstract: A hydroxyl organic oligosiloxane resin is provided to ensure high condensation degree, excellent stability of solution, excellent thermal property, and excellent coating property to various substrates. A hydroxyl organic oligosiloxane resin has the inorganic network tree structure obtained through the hydrolysis and condensation reaction of organic oligosiloxane of the chemical formula 1 as a monomer. The silicon atom bonded with a combined exists within a structure. In the chemical formula 1, R', R1, R2 and R3, independently linear, side chained or cyclic C1~12 hydrocarbon group selected from an alkyl, ketone, acryl, methacryl, allyl, aromatic, halogen, amino, mercapto, ether, ester, alkoxy, sulfone, nitro, -OH, cyclobutene, carbonyl, carboxyl, alkyd, -NHCOO-, vinyl, nitrile, hydrogen or epoxy functional group.

Abstract translation: 提供羟基有机低聚硅氧烷树脂以确保高缩合度，优异的溶液稳定性，优异的热性能和对各种基材的优异涂布性能。 羟基有机低聚硅氧烷树脂具有通过化学式1的有机低聚硅氧烷作为单体的水解和缩合反应获得的无机网络树结构。 结合的硅原子存在于结构内。 在化学式1中，R'，R 1，R 2和R 3独立地为烷基，酮，丙烯酰基，甲基丙烯酰基，烯丙基，芳族，卤素，氨基，巯基，醚， 羰基，羧基，醇酸，-NHCOO-，乙烯基，腈，氢或环氧官能团。

公开(公告)号：KR100929547B1

公开(公告)日：2009-12-03

申请号：KR1020080039373

申请日：2008-04-28

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 배병수 ,  최천기 ,  정경호

IPC: B32B9/00 ,  B32B3/00 ,  B82Y30/00

Abstract: 본 발명은 유기 실란의 축합 반응을 이용한 올리고실록산 하이브리드 및 이를 이용한 가스 차단막에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 유기실란디올과 유기알콕시실란의 비가수 축합 반응에 의해 축합도가 높은 무기 망목구조의 중심체와 외부에 적어도 하나 이상의 유기기 또는 유기 관능기를 포함하는 것을 특징으로 하는 올리고실록산 하이브리드, 및 상기 올리고실록산 하이브리드를 이용한 단일층 또는 다층으로 이루어진 가스 차단 특성이 우수한 가스 차단막을 제공한다.
올리고실록산 하이브리드, 축합 반응, 유기알콕시실란, 유기실란디올, 가스 차단막

Abstract translation: 目的：提供一种使用多层低聚硅氧烷混合涂层和无机层的气帘及其制造方法，以形成致密的无机网状结构以提高稳定性和凝聚度。 构成：制造气幕的方法包括以下步骤：使有机烷氧基硅烷与有机硅烷二醇反应以获得低聚硅氧烷杂化物; 并用含有低聚硅氧烷杂化物的涂布液涂布元件或基材以形成涂层。 有机烷氧基硅烷是由式1表示的化合物。在式1中，R 1选自C 1 -C 20烷基，C 3 -C 8环烷基，用C 3 -C 8环烷基，C 2 -C 20烯基和C 6 -C 20芳基取代的C 4 -C 20烷基 组。

公开(公告)号：KR1020090113576A

公开(公告)日：2009-11-02

申请号：KR1020080039373

申请日：2008-04-28

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 배병수 ,  최천기 ,  정경호

IPC: B32B9/00 ,  B32B3/00 ,  B82Y30/00

CPC classification number: C08J7/04 ,  B82Y30/00 ,  C08J5/18

Abstract: PURPOSE: A gas curtain using a multi-layered oligosiloxane hybrid coating layer and inorganic layer and a manufacturing method thereof are provided to form dense inorganic network structure in order to improve stability and condensation degree. CONSTITUTION: A method for manufacturing a gas curtain comprises the following steps of: allowing organoalkoxysilane to react to organosilane diol to obtain oligosiloxane hybrid; and coating an element or substrate with a coating liquid containing the oligosiloxane hybrid to form a coating layer. The organoalkoxysilane is a compound represented by formula 1. In the formula 1, R1 is selected from C1-C20 alkyl, C3-C8 cycloalkyl, C4-C20 alkyl substituted with C3-C8 cycloalkyl, C2-C20 alkenyl, and C6-C20 aryl groups.

Abstract translation: 目的：提供使用多层寡硅氧烷混合涂层和无机层的气幕及其制造方法，以形成致密的无机网络结构，以提高稳定性和缩合度。 构成：制造气幕的方法包括以下步骤：使有机烷氧基硅烷与有机硅烷二醇反应得到低聚硅氧烷杂化物; 并用含有寡硅氧烷杂化物的涂布液涂覆元件或基底以形成涂层。 有机烷氧基硅烷是由式1表示的化合物。在式1中，R 1选自C 1 -C 20烷基，C 3 -C 8环烷基，被C 3 -C 8环烷基取代的C 4 -C 20烷基，C 2 -C 20烯基和C 6 -C 20芳基 组。

公开(公告)号：KR100738650B1

公开(公告)日：2007-07-11

申请号：KR1020050032475

申请日：2005-04-19

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 배병수 ,  김정환 ,  고지훈 ,  정경호

IPC: H01J11/36

CPC classification number: H01J9/242 ,  H01J2211/36

Abstract: 본 발명은 실리콘 화합물 수지를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널용 격벽의 제조방법을 제공한다.
제 1측면에 따른 본 발명은 기판위에 실리콘 화합물 수지층을 형성하는 단계; 상기 실리콘 화합물 수지층을 격벽 모양의 패턴이 형성된 마스터로 압착하여 전사하는 단계; 및 상기 실리콘 화합물 수지를 경화한 후 마스터를 이형시키는 단계를 포함한다.
제 2측면에 따른 본 발명은 실리콘 화합물 수지를 격벽 모양의 패턴이 형성된 마스터의 홈에 충진하는 단계; 기판상에 상기 마스터를 압착하여 전사하는 단계; 및 상기 전사된 실리콘 화합물 수지를 경화한 후 마스터를 이형시키는 단계를 포함한다.
플라즈마 디스플레이 패널, 격벽, 실리콘 화합물

公开(公告)号：KR1020060110389A

公开(公告)日：2006-10-25

申请号：KR1020050032475

申请日：2005-04-19

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 배병수 ,  김정환 ,  고지훈 ,  정경호

IPC: H01J11/36

CPC classification number: H01J9/242 ,  H01J2211/36

Abstract: A method for manufacturing a barrier rib for a plasma display panel is provided to form correctly a fine and complicated structure of the barrier rib by using a silicon compound resin as a raw material. A silicon compound resin layer(13) is formed on an upper surface of a substrate(12). A pattern of a barrier rib(14) is transferred to the silicon compound resin layer by using a master having the pattern of the barrier rib. The master is released from the silicon compound resin layer after the silicon compound resin layer is hardened. The silicon compound resin layer includes a dye. The silicon compound resin layer further includes ultraviolet rays and a thermosetting material.

Abstract translation: 提供了一种制造用于等离子体显示面板的隔壁的方法，通过使用硅化合物树脂作为原料，正确地形成了隔壁的细小且复杂的结构。 在基板（12）的上表面上形成硅化合物树脂层（13）。 通过使用具有障壁图案的母版，将障壁（14）的图案转印到硅化合物树脂层。 在硅化合物树脂层硬化之后，主体从硅化合物树脂层释放出来。 硅化合物树脂层包括染料。 硅化合物树脂层还包括紫外线和热固性材料。