公开(公告)号：KR101495863B1

公开(公告)日：2015-02-26

申请号：KR1020140009462

申请日：2014-01-27

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 김수현 ,  안정도 ,  박종원 ,  이진우 ,  이길호 ,  김정환

IPC: B25J11/00 ,  B64C33/00

Abstract: 본 발명은 단일 액츄에이터를 이용한 발사형 초경량 활공 로봇 시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게 액츄에이터의 중심회전축과 몸체 양측에 날개회전축으로 연결된 날개살에 날개연결선이 연결되도록 하여, 액츄에이터의 회전만으로 내려져 접혀있던 양쪽 날개가 모두 펼쳐질 수 있는 발사형 초경량 활공 로봇 시스템에 관한 것이다.

Abstract translation: 本发明涉及使用单个致动器的发射型超轻型滑翔机器人系统。 根据本发明，机翼连接线通过机翼旋转轴连接到机翼转动轴的中心旋转轴和主体的两侧，使得下降和折叠的机翼只能通过旋转的方式展开 执行器。

公开(公告)号：KR100569220B1

公开(公告)日：2006-04-10

申请号：KR1020040023395

申请日：2004-04-06

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 배병수 ,  이태호 ,  어영주 ,  김정환

IPC: H01J11/36 ,  H01J11/38 ,  H01J9/02

CPC classification number: C09D183/04 ,  C03C17/30 ,  C09D183/14 ,  Y10T428/31612 ,  Y10T428/31663

Abstract: 하기 구조식의 화합물1 또는 R
6 SiO
1.5 를 반복단위로 하는 폴리헤드럴 올리고실시스퀴옥센(화합물 2)에 속하는 적어도 1종 이상의 화합물을 포함하거나, 이들 화합물을 단량체로 하는 무-유기 혼성물질을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체/격벽 조성물을 제공한다. (무-유기 혼성물질 : 실리콘과 산소원자 또는 질소원자를 함유한 확장 매트릭스로 구성되며 적어도 하나의 실리콘의 분획이 치환되거나 비치환된 탄화수소 원자에 직접 결합된 물질)

상기 식에서 X는 0을 포함하는 정수이고, R
1 ,R
2 ,R
3 ,R
4 ,R
5 ,R
6 은 각각 알킬기, 알콕시기, 케톤기, 아크릴기, 메타크릴기, 알릴기, 방향족기, 할로겐기, 아미노기, 머캡토기, 에테르기, 에스테르기, 알콕시기, 술폰기, 니트로기, 하이드록시기, 사이클로부텐기, 카보닐기, 카르복실기, 알키드기, 우레탄기, 비닐기, 니트릴기, 수소, 또는 에폭시 작용기를 단독 또는 2종 이상 가지는 직쇄, 측쇄 또는 고리형의 C
1~12 의 탄화수소기이고, A는 O 또는 NH 이다.

公开(公告)号：KR1020050099849A

公开(公告)日：2005-10-17

申请号：KR1020040025063

申请日：2004-04-12

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 배병수 ,  어영주 ,  이태호 ,  김정환

IPC: C08K9/06 ,  B82Y20/00

CPC classification number: C08G77/58 ,  C08G77/14 ,  C08G77/20 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  C09D183/14 ,  Y10T428/31663

Abstract: 본 발명은 (a) 하기 화합물1과 화합물2, 또는 (b) 하기 화합물1과 화합물3, 또는 (c) 하기 화합물2 및 하기 화합물3을 하기 화합물1과 함께 반응시켜 내부에 실리카 또는 실리카와 금속산화물의 복합체가 존재하며, 외부에 관능성 유기그룹이 존재하는 무기/유기 혼성 올리고머 및 이로부터 제조되는 무기/유기 나노혼성고분자 및 그 제조방법을 제공한다.
화합물1: R
1 R
2 Si(OH)
2 ,
화합물2: R
3
a R
4
b M(OR
5 )
(cab) ,
화합물3: R
6 OH 또는 R
6 COOH
상기 식에서, R
1 ,R
2 ,R
3 ,R
4 는 각각 알킬기, 케톤기, 아크릴기, 메타크릴기, 알릴기, 방향족기, 할로겐기, 아미노기, 머캡토기, 에테르기, 에스테르기, 알콕시기, 술폰기, 니트로기, 하이드록시기, 사이클로부텐기, 카보닐기, 카르복실기, 알키드기, 우레탄기, 비닐기, 니트릴기, 수소, 또는 에폭시 작용기를 단독 또는 2종 이상 가지는 직쇄, 측쇄 또는 고리형의 C
1~12 의 탄화수소기 혹은 탄화불소기이고, a,b는 0∼3인 정수, c는 3∼6인 정수, M은 실리콘 또는 금속;
R
5 는 알킬기, 알콕시기, 케톤기, 방향족기를 단독 또는 2종이상을 가지는 직쇄, 측쇄 또는 고리형의 C
1~12 의 탄화수소기;
R
6 OH, R
6 COOH는 구조식내에 적어도 하나 이상의 하이드록시기 또는 카르복시기를 반드시 포함하며, R
6 는 알킬기, 케톤기, 아크릴기, 알릴기, 방향족기, 할로겐기, 아민기, 시안기, 아미노기, 머캡토기, 에테르기, 에스테르기, 에폭시기, 이미드기, 아미드 작용기를 적어도 1이상 가지는 직쇄, 측쇄 또는 고리형의 C
1~12 의 탄화수소기 또는 탄화불소기이다.
다만, 상기 (a)의 경우, R
1 ,R
2 ,R
3 ,R
4 중의 적어도 하나는 부가중합 또는 축합중합이 가능한 작용기를 가지며, (b)의 경우 R
1 ,R
2 ,R
6 중 적어도 하나는 부가중합 또는 축합중합이 가능한 작용기를 가지며, (c)의 경우 R
1 ,R
2 ,R
3 ,R
4 ,R
6 중의 적어도 하나는 부가중합 또는 축합중합이 가능한 작용기를 가진다.

公开(公告)号：KR1020060110389A

公开(公告)日：2006-10-25

申请号：KR1020050032475

申请日：2005-04-19

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 배병수 ,  김정환 ,  고지훈 ,  정경호

IPC: H01J11/36

CPC classification number: H01J9/242 ,  H01J2211/36

Abstract: A method for manufacturing a barrier rib for a plasma display panel is provided to form correctly a fine and complicated structure of the barrier rib by using a silicon compound resin as a raw material. A silicon compound resin layer(13) is formed on an upper surface of a substrate(12). A pattern of a barrier rib(14) is transferred to the silicon compound resin layer by using a master having the pattern of the barrier rib. The master is released from the silicon compound resin layer after the silicon compound resin layer is hardened. The silicon compound resin layer includes a dye. The silicon compound resin layer further includes ultraviolet rays and a thermosetting material.

Abstract translation: 提供了一种制造用于等离子体显示面板的隔壁的方法，通过使用硅化合物树脂作为原料，正确地形成了隔壁的细小且复杂的结构。 在基板（12）的上表面上形成硅化合物树脂层（13）。 通过使用具有障壁图案的母版，将障壁（14）的图案转印到硅化合物树脂层。 在硅化合物树脂层硬化之后，主体从硅化合物树脂层释放出来。 硅化合物树脂层包括染料。 硅化合物树脂层还包括紫外线和热固性材料。

公开(公告)号：KR1020050098086A

公开(公告)日：2005-10-11

申请号：KR1020040023395

申请日：2004-04-06

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 배병수 ,  이태호 ,  어영주 ,  김정환

IPC: H01J11/36 ,  H01J11/38 ,  H01J9/02

CPC classification number: C09D183/04 ,  C03C17/30 ,  C09D183/14 ,  Y10T428/31612 ,  Y10T428/31663

Abstract: 하기 구조식의 화합물1 또는 R
6 SiO
1.5 를 반복단위로 하는 폴리헤드럴 올리고실시스퀴옥센(화합물 2)에 속하는 적어도 1종 이상의 화합물을 포함하거나, 이들 화합물을 단량체로 하는 무-유기 혼성물질을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체/격벽 조성물을 제공한다. (무-유기 혼성물질 : 실리콘과 산소원자 또는 질소원자를 함유한 확장 매트릭스로 구성되며 적어도 하나의 실리콘의 분획이 치환되거나 비치환된 탄화수소 원자에 직접 결합된 물질)

상기 식에서 X는 0을 포함하는 정수이고, R
1 ,R
2 ,R
3 ,R
4 ,R
5 ,R
6 은 각각 알킬기, 알콕시기, 케톤기, 아크릴기, 메타크릴기, 알릴기, 방향족기, 할로겐기, 아미노기, 머캡토기, 에테르기, 에스테르기, 알콕시기, 술폰기, 니트로기, 하이드록시기, 사이클로부텐기, 카보닐기, 카르복실기, 알키드기, 우레탄기, 비닐기, 니트릴기, 수소, 또는 에폭시 작용기를 단독 또는 2종 이상 가지는 직쇄, 측쇄 또는 고리형의 C
1~12 의 탄화수소기이고, A는 O 또는 NH 이다.

公开(公告)号：KR100832306B1

公开(公告)日：2008-05-26

申请号：KR1020070020498

申请日：2007-02-28

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 배병수 ,  김정환

IPC: H01J11/38 ,  H01B3/30 ,  H01J9/24

CPC classification number: H01J9/261 ,  H01J11/12 ,  H01J11/48 ,  H01J2209/264

Abstract: A plasma display panel and a low temperature manufacture method thereof are provided to restrain the deformation of a substrate during a process and to implement a large-scale panel by using a compound having a 3-dimensional network structure. A plasma display panel is configured by coupling an upper plate to a lower plate. At least one of an upper dielectric(14), a lower dielectric(23), a barrier rib(24), and an encapsulant of upper and lower plates is made of a compound having a 3-dimensional network structure obtained by polymerizing and hardening an organic monomer, an organic oligomer, or a siloxane-based oligomer having a polymerization-possible functional group. The 3-dimensional network structure is obtained through the hardening under temperature of 25 °C to 300 °C. A molecular weight of the oligomer is 100 to 10,000 below. The barrier rib includes a white color pigment.

Abstract translation: 提供了一种等离子体显示面板及其低温制造方法，以在工艺过程中抑制衬底的变形并且通过使用具有3维网络结构的化合物来实现大规模面板。 等离子显示面板通过将上板连接到下板来构造。 上电介质（14），下电介质（23），隔板（24）和上板和下板的密封剂中的至少一个由具有通过聚合和固化获得的三维网状结构的化合物制成 有机单体，有机低聚物或具有可聚合官能团的硅氧烷类低聚物。 通过在25℃至300℃的温度下硬化获得三维网状结构。 低聚物的分子量低于100至10,000。 隔壁包括白色颜料。

公开(公告)号：KR100738650B1

公开(公告)日：2007-07-11

申请号：KR1020050032475

申请日：2005-04-19

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 배병수 ,  김정환 ,  고지훈 ,  정경호

IPC: H01J11/36

CPC classification number: H01J9/242 ,  H01J2211/36

Abstract: 본 발명은 실리콘 화합물 수지를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널용 격벽의 제조방법을 제공한다.
제 1측면에 따른 본 발명은 기판위에 실리콘 화합물 수지층을 형성하는 단계; 상기 실리콘 화합물 수지층을 격벽 모양의 패턴이 형성된 마스터로 압착하여 전사하는 단계; 및 상기 실리콘 화합물 수지를 경화한 후 마스터를 이형시키는 단계를 포함한다.
제 2측면에 따른 본 발명은 실리콘 화합물 수지를 격벽 모양의 패턴이 형성된 마스터의 홈에 충진하는 단계; 기판상에 상기 마스터를 압착하여 전사하는 단계; 및 상기 전사된 실리콘 화합물 수지를 경화한 후 마스터를 이형시키는 단계를 포함한다.
플라즈마 디스플레이 패널, 격벽, 실리콘 화합물

公开(公告)号：KR100644880B1

公开(公告)日：2006-11-15

申请号：KR1020040099489

申请日：2004-11-30

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 김성웅 ,  김정환 ,  오명훈 ,  위당문

IPC: C22C14/00

Abstract: 본 발명은 층상조직의 열적안정성과 기계적 성질이 우수한 TiAlNbSiC계 합금 에 관한 것으로 보다 상세하게는 TiAl 합금에 있어서, 나이오븀(niobium, Nb), 실리콘(Si), 탄소(C)가 함유하도록 하여 층상조직의 열적안정성과 기계적 성질이 우수한 TiAlNbSiC계 합금에 관한 것이다.
본 발명의 TiAlNbSiC계 합금은 종래 TiAl 합금에 있어서, 나이오븀(Nb), 실리콘(Si), 탄소(C)가 함유된 TiAlNbSiC계 합금을 포함한다. 상기 TiAlNbSiC계 합금에서 Al은 44.5∼45at％, Nb는 2∼3at％, Si는 0.4∼0.6at％, C는 0.2∼0.3at％ 이다.

公开(公告)号：KR100614976B1

公开(公告)日：2006-08-25

申请号：KR1020040025063

申请日：2004-04-12

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 배병수 ,  어영주 ,  이태호 ,  김정환

IPC: C08K9/06 ,  B82Y20/00

CPC classification number: C08G77/58 ,  C08G77/14 ,  C08G77/20 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  C09D183/14 ,  Y10T428/31663

Abstract: 본 발명은 (a) 하기 화합물1과 화합물2, 또는 (b) 하기 화합물1과 화합물3, 또는 (c) 하기 화합물2 및 하기 화합물3을 하기 화합물1과 함께 반응시켜 내부에 실리카 또는 실리카와 금속산화물의 복합체가 존재하며, 외부에 관능성 유기그룹이 존재하는 무기/유기 혼성 올리고머 및 이로부터 제조되는 무기/유기 나노혼성고분자 및 그 제조방법을 제공한다.
화합물1: R
1 R
2 Si(OH)
2 ,
화합물2: R
3
a R
4
b M(OR
5 )
(cab) ,
화합물3: R
6 OH 또는 R
6 COOH
상기 식에서, R
1 ,R
2 ,R
3 ,R
4 는 각각 알킬기, 케톤기, 아크릴기, 메타크릴기, 알릴기, 방향족기, 할로겐기, 아미노기, 머캡토기, 에테르기, 에스테르기, 알콕시기, 술폰기, 니트로기, 하이드록시기, 사이클로부텐기, 카보닐기, 카르복실기, 알키드기, 우레탄기, 비닐기, 니트릴기, 수소, 또는 에폭시 작용기를 단독 또는 2종 이상 가지는 직쇄, 측쇄 또는 고리형의 C
1~12 의 탄화수소기 혹은 탄화불소기이고, a,b는 0∼3인 정수, c는 3∼6인 정수, M은 실리콘 또는 금속;
R
5 는 알킬기, 알콕시기, 케톤기, 방향족기를 단독 또는 2종이상을 가지는 직 쇄, 측쇄 또는 고리형의 C
1~12 의 탄화수소기;
R
6 OH, R
6 COOH는 구조식내에 적어도 하나 이상의 하이드록시기 또는 카르복시기를 반드시 포함하며, R
6 는 알킬기, 케톤기, 아크릴기, 알릴기, 방향족기, 할로겐기, 아민기, 시안기, 아미노기, 머캡토기, 에테르기, 에스테르기, 에폭시기, 이미드기, 아미드 작용기를 적어도 1이상 가지는 직쇄, 측쇄 또는 고리형의 C
1~12 의 탄화수소기 또는 탄화불소기이다.
다만, 상기 (a)의 경우, R
1 ,R
2 ,R
3 ,R
4 중의 적어도 하나는 부가중합 또는 축합중합이 가능한 작용기를 가지며, (b)의 경우 R
1 ,R
2 ,R
6 중 적어도 하나는 부가중합 또는 축합중합이 가능한 작용기를 가지며, (c)의 경우 R
1 ,R
2 ,R
3 ,R
4 ,R
6 중의 적어도 하나는 부가중합 또는 축합중합이 가능한 작용기를 가진다.

公开(公告)号：KR1020060060425A

公开(公告)日：2006-06-05

申请号：KR1020040099489

申请日：2004-11-30

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 김성웅 ,  김정환 ,  오명훈 ,  위당문

IPC: C22C14/00

CPC classification number: C22C14/00 ,  C22C2202/00

Abstract: 본 발명은 층상조직의 열적안정성과 기계적 성질이 우수한 TiAlNbSiC계 합금 에 관한 것으로 보다 상세하게는 TiAl 합금에 있어서, 나이오븀(niobium, Nb), 실리콘(Si), 탄소(C)가 함유하도록 하여 층상조직의 열적안정성과 기계적 성질이 우수한 TiAlNbSiC계 합금에 관한 것이다.
본 발명의 TiAlNbSiC계 합금은 종래 TiAl 합금에 있어서, 나이오븀(Nb), 실리콘(Si), 탄소(C)가 함유된 TiAlNbSiC계 합금을 포함한다. 상기 TiAlNbSiC계 합금에서 Al은 44.5∼45at％, Nb는 2∼3at％, Si는 0.4∼0.6at％, C는 0.2∼0.3at％ 이다.