公开(公告)号：WO2012177040A3

公开(公告)日：2012-12-27

申请号：PCT/KR2012/004863

申请日：2012-06-20

Applicant: 한국과학기술원 ,  정희태 ,  정현수 ,  전환진 ,  김윤호

Inventor： 정희태 ,  정현수 ,  전환진 ,  김윤호

IPC: H01B13/00 ,  G02F1/1343 ,  H01B5/14

Abstract: 본 발명은 나노구조 패턴이 형성된 투명전극 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 물리적 이온 식각공정을 통한 이온 봄바드먼트(ion bombardment) 현상을 이용하여 투명전극상에 고 분해능(high resolution)과 고 종횡비(high aspcet ratio)를 가지는 나노구조 패턴을 형성시킴으로써, 투명전극의 전도성 및 광투과성의 저하 없이 우수한 액정 배향특성을 나타내는 나노구조 패턴이 형성된 투명전극 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 나노구조 패턴이 형성된 투명전극의 제조방법은 물리적 이온 식각을 통한 이온 봄바드먼트 현상을 적용하여 제조됨으로써 간단한 공정과 저렴한 비용으로 높은 다양한 종횡비와 균일성을 가지는 액정의 프리틸트가 형성된 투명전극을 제조할 수 있고, 투명전극으로 직접 액정을 배향시킴으로써 광 투과성이 높을 뿐만 아니라, 저항값 또한 낮아 액정 배향 특성 및 안정성을 향상시켜 제품 성능을 개선할 수 있을 뿐만 아니라, 본 발명에 따른 투명전극이 형성된 두 개의 기판의 배열로 액정의 배향을 원하는 방향으로 정밀하게 조절할 수 있어 다양한 디스플레이 소자에 응용할 수 있다.

公开(公告)号：WO2012046896A1

公开(公告)日：2012-04-12

申请号：PCT/KR2010/006877

申请日：2010-10-07

Applicant: 한국과학기술원 ,  정희태 ,  김윤호 ,  정현수 ,  윤동기

Inventor： 정희태 ,  김윤호 ,  정현수 ,  윤동기

IPC: G03F7/20 ,  B81B7/04 ,  G02F1/1337

CPC classification number: G02B1/10 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G02B1/118 ,  G02B3/0037 ,  G02F1/1313 ,  G02F1/133723 ,  G02F2001/294 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/165

Abstract: 본 발명은 액정(liquid crystal)의 다양한 상(phase) 또는 결함(defect) 구조를 이용하여 마이크로 또는 나노 크기 패턴을 형성하는 방법 및 이러한 방법으로 제조된 마이크로렌즈 어레이(microlens arrays)에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 자기조립 가능 액정의 상 또는 결함을 규칙적인 구조로 형성시키고, 액정 배향에 따른 굴절률 변화 또는 표면 구조를 이용하여 광학 또는 연성 리소그래피를 위한 마스크로 활용할 수 있는 패턴 형성 방법 및 마이크로렌즈 어레이에 관한 것이다. 본 발명에 따른, 액정분자의 상 또는 결함 구조를 이용한 패턴 형성 방법, 마이크로렌즈 어레이의 제조방법 및 연성 리소그래피 패턴 형성 방법은, 액정의 높은 유동성(mobility) 때문에 기존의 방식에 비하여 매우 빠르게 패턴을 형성하는 것이 가능하며, 제작공정이 간단하고 비용이 절감되는 장점이 있다. 한번 만들어진 액정 패턴은 반영구적으로 사용할 수 있다. 또한, 액정의 상 또는 결함을 외부 전기장 또는 자기장이나 액정분자층의 높이 등으로 간단하게 조절할 수 있기 때문에, 새로운 형태의 패턴으로 손쉽게 변화, 제어할 수 있는 장점이 있다. 또한, 직접적인 관찰이 매우 어려운 액정의 내부구조 및 배향에 대한 정보를 전사시킴으로써, 그 내부구조 해석에 대한 새로운 기법을 제시할 수 있다.

Abstract translation: 本发明涉及使用各种液晶相或缺陷结构形成微米或纳米尺度图案的方法，以及使用该方法制备的微透镜阵列的方法，更具体地说，涉及用于形成图案的方法和微透镜阵列，其可以是 用于形成用于自组装液晶相或缺陷的规则结构，并且其可以通过使用表面结构或从液晶取向的折射率变化而用作光学或软光刻的掩模。 根据使用液晶相或缺陷结构形成图案的方法，微透镜阵列的制造方法以及本发明的软光刻图案的形成方法，由于高的移动性，可以进行更快速的图案形成 液晶，制造工序简单，能够降低成本。 一旦制成，液晶图案可以半永久地使用。 由于可以通过外部电场，磁场或液晶分子层的高度容易地调节液晶相或缺陷，因此可能容易地改变和控制新图案。 此外，由于液晶的内部结构和取向非常难以直接观察，因此可以将其上的信息转录为用于解释所述内部结构的新技术。

公开(公告)号：WO2013094804A1

公开(公告)日：2013-06-27

申请号：PCT/KR2012/000248

申请日：2012-01-11

Applicant: 한국과학기술원 ,  정희태 ,  김윤호 ,  김대우 ,  정현수

Inventor： 정희태 ,  김윤호 ,  김대우 ,  정현수

IPC: G01N21/21 ,  G01N1/28

CPC classification number: G01N21/21 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C01B32/184 ,  G01N21/23

Abstract: 본 발명은 그래핀 결정면의 광학적 시각화 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 측정대상 그래핀 층을 기판상에 형성하고, 형성된 측정대상 그래핀 층상에 액정 층을 형성시킨 다음, 형성된 네마틱 액정 층의 광학적 특성을 측정함으로써, 그래핀의 도메인과 경계면을 광학적으로 시각화할 수 있는 그래핀 결정면의 광학적 시각화 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 그래핀 결정면의 광학적 시각화 방법은 종래의 그래핀 결정면을 관찰하는 방법에 비해 간단하고, 손쉬운 액정 코팅방법을 사용함으로써 그 작업이 단순하고 시간과 비용이 줄어드는 동시에 편광현미경 등으로 관찰 가능한 범위의 매우 넓은 영역의 결정구조를 확인할 수 있어 그래핀 특성을 연구하는데 매우 유용하게 사용할 수 있다.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于光学可视化晶体石墨烯的表面的方法，更具体地说，涉及一种通过在衬底上形成待观察的石墨烯层来在晶体石墨烯的表面上光学可视化的方法，在其上形成液晶层 形成的石墨烯层; 并测量所形成的向列型液晶层的光学特性，从而光学可视化石墨烯的畴和边界表面。 与用于观察晶体石墨烯表面的现有方法相比，根据本发明的用于光学可视化晶体石墨烯的表面的方法比使用方便的液晶涂层法更简单并且需要更少的时间和成本的方法 ，并且通过偏光显微镜观察到在一定范围内的非常大的晶体结构区域，因此可以非常有用于研究石墨烯的特性。

公开(公告)号：WO2013077489A1

公开(公告)日：2013-05-30

申请号：PCT/KR2011/009918

申请日：2011-12-21

Applicant: 한국과학기술원 ,  정희태 ,  전환진 ,  정현수

Inventor： 정희태 ,  전환진 ,  정현수

IPC: B82B3/00 ,  B82B1/00 ,  B82Y40/00

CPC classification number: B81C1/00111 ,  B82Y40/00

Abstract: 본 발명은 연속적으로 패턴화된 구조를 가지는 3차원 다성분 나노구조체 및 그 제조방법에 관한 것으로， 보다 상세하게는 물리적 이온 식각공정을 통한 이온 봄바드먼트 ( ion bombardment ) 현상을 이용하여 목적물질-고분자 복합구조체를 형성한 다음， 형성된 목적물질-고분자 복합구조체의 고분자만을 제거하는 일련의 과정을 반복적으로 수행함으로써 제조되는， 연속적으로 패턴화된 구조를 가지는 3차원 다성분 나노구조체 및 그 제조방법에 관한 것이다.

Abstract translation: 本发明涉及具有连续图案化结构的三维多组分纳米结构及其制备方法，更具体地涉及具有连续图案化结构的三维多组分纳米结构，其通过反复进行一系列以下步骤制备 ：通过物理离子蚀刻使用离子轰击现象形成靶材料 - 聚合物复合结构; 并且仅除去所形成的靶材料 - 聚合物复合结构体的聚合物及其制备方法。

公开(公告)号：KR101356800B1

公开(公告)日：2014-01-28

申请号：KR1020110121435

申请日：2011-11-21

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 정희태 ,  전환진 ,  정현수

IPC: B82B3/00 ,  B82B1/00 ,  B82Y40/00

CPC classification number: B81C1/00111 ,  B82Y40/00

Abstract: 본 발명은 연속적으로 패턴화된 구조를 가지는 ３차원 다성분 나노구조체 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 물리적 이온 식각공정을 통한 이온 봄바드먼트(ion bombardment) 현상을 이용하여 목적물질-고분자 복합구조체를 형성한 다음, 형성된 목적물질-고분자 복합구조체의 고분자만을 제거하는 일련의 과정을 반복적으로 수행함으로써 제조되는, 연속적으로 패턴화된 구조를 가지는 ３차원 다성분 나노구조체 및 그 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따르면, 물리적 이온 식각을 통한 이온 봄바드먼트 현상을 적용하여 제조됨으로써 간단한 공정과 저렴한 비용으로 높은 종횡비와 균일성을 가지는 3차원 나노구조체를 제조할 수 있고, 고분자 구조체의 패턴 및 형상을 반복적으로 조절함으로써 연속적으로 패턴화된 다양한 형상의 구조를 가지는 구조체의 제조가 용이한 동시에 대면적으로 두께가 10nm 이하인 균일한 미세 나노구조를 형성할 수 있어 나노전자소자, 광학소자, 바이오소자, 에너지소자 등과 같은 미래의 나노소자의 높은 성능을 구현할 수 있는 효과가 있다.

Abstract translation: 本发明涉及具有连续图案化结构的三维多组分纳米结构及其制备方法，更具体地涉及具有连续图案化结构的三维多组分纳米结构，其通过反复进行一系列以下步骤制备 ：通过物理离子蚀刻使用离子轰击现象形成靶材料 - 聚合物复合结构; 并且仅除去所形成的靶材料 - 聚合物复合结构体的聚合物及其制备方法。

公开(公告)号：KR101231898B1

公开(公告)日：2013-02-08

申请号：KR1020110059506

申请日：2011-06-20

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 정희태 ,  정현수 ,  전환진 ,  김윤호

IPC: H01B13/00 ,  H01B5/14

CPC classification number: G02F1/13439 ,  B82Y30/00 ,  G02F1/13378 ,  G02F2202/36

Abstract: 본 발명은 나노구조 패턴이 형성된 투명전극 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 물리적 이온 식각공정을 통한 이온 봄바드먼트(ion bombardment) 현상을 이용하여 투명전극상에 고 분해능(high resolution)과 고 종횡비(high aspcet ratio)를 가지는 나노구조 패턴을 형성시킴으로써, 투명전극의 전도성 및 광투과성의 저하 없이 우수한 액정 배향특성을 나타내는 나노구조 패턴이 형성된 투명전극 및 그 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 나노구조 패턴이 형성된 투명전극의 제조방법은 물리적 이온 식각을 통한 이온 봄바드먼트 현상을 적용하여 제조됨으로써 간단한 공정과 저렴한 비용으로 높은 다양한 종횡비와 균일성을 가지는 액정의 프리틸트가 형성된 투명전극을 제조할 수 있고, 투명전극으로 직접 액정을 배향시킴으로써 광 투과성이 높을 뿐만 아니라, 저항값 또한 낮아 액정 배향 특성 및 안정성을 향상시켜 제품 성능을 개선할 수 있을 뿐만 아니라, 본 발명에 따른 투명전극이 형성된 두 개의 기판의 배열로 액정의 배향을 원하는 방향으로 정밀하게 조절할 수 있어 다양한 디스플레이 소자에 응용할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020120139948A

公开(公告)日：2012-12-28

申请号：KR1020110059506

申请日：2011-06-20

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 정희태 ,  정현수 ,  전환진 ,  김윤호

IPC: H01B13/00 ,  H01B5/14

CPC classification number: G02F1/13439 ,  B82Y30/00 ,  G02F1/13378 ,  G02F2202/36

Abstract: PURPOSE: A transparent electrode, on which a nanostructure pattern is formed, and a manufacturing method thereof are provided to improve optical permeability using an ion bombardment phenomenon through a physical ion etching process. CONSTITUTION: A transparent electrode layer is formed on a substrate. A polymer is coated on the transparent electrode layer and a polymer layer is formed. The patterned polymer structure is formed on the polymer layer. A polymer composite structure is formed by ion-etching the transparent electrode layer. A polymer material is removed from the polymer composite structure. [Reference numerals] (a) Pattern transfer from PDMS mold to PS; (AA) Mold; (b) Removal of PS on bottom by RIE; (BB) Polymer; (c) Attach ITO on PS wall by SSL; (CC) Transparent electrode forming material; (d) Removal of residual PS→ITO line pattern; (DD) Substrate; (e-1) Assemble ECB cell; (e-2) Assemble TN cell; (f) Introduce LC molecules to the cell

Abstract translation: 目的：提供其上形成有纳米结构图案的透明电极及其制造方法，以通过物理离子蚀刻工艺使用离子轰击现象来提高光学透过性。 构成：在基板上形成透明电极层。 在透明电极层上涂布聚合物，形成聚合物层。 图案化的聚合物结构形成在聚合物层上。 通过离子蚀刻透明电极层形成聚合物复合结构。 聚合物材料从聚合物复合结构中除去。 （附图标记）（a）从PDMS模具到PS的图案转印; （AA）模具; （b）RIE底部移除PS; （BB）聚合物; （c）通过SSL将PS贴在PS墙上; （CC）透明电极形成材料; （d）去除残留的PS→ITO线图案; （DD）基材; （e-1）装配ECB电池; （e-2）组装TN细胞; （f）向细胞引入LC分子

公开(公告)号：KR1020130055813A

公开(公告)日：2013-05-29

申请号：KR1020110121435

申请日：2011-11-21

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 정희태 ,  전환진 ,  정현수

IPC: B82B3/00 ,  B82B1/00 ,  B82Y40/00

CPC classification number: B81C1/00111 ,  B82Y40/00

Abstract: PURPOSE: A manufacturing method of a three dimensional multicomponent nanostructure is provided to obtain high aspect ratio and uniformity by simple processes by applying an ion bombardment phenomenon through a physical ion etching. CONSTITUTION: A manufacturing method of a three dimensional multicomponent nanostructure comprises a step of forming a first target material layer(120) and a first polymer layer(130) in order on a substrate(110); a step of forming a first polymer structure by conducting a lithography process on the first polymer layer; a step of ion etching the first target material layer and forming a first target material-polymer composite structure on a substrate; a step of obtaining a first nanostructure(200) by removing a first polymer of the first target material-polymer layer; a step of forming a second polymer layer on the first nanostructure and forming a second polymer structure patternized by conducting a lithography process; a step of forming a second target material layer(160) in the second polymer structure; a step of forming a second target material-polymer composite structure on a substrate by ion etching the whole second target material layer; a step of forming a second nanostructure(250) by removing the second polymer; and a step of repeating the previous steps to manufacture the three dimensional multicomponent nanostructure.

Abstract translation: 目的：提供三维多组分纳米结构的制造方法，通过物理离子蚀刻施加离子轰击现象，通过简单的工艺获得高纵横比和均匀性。 构成：三维多组分纳米结构的制造方法包括在衬底（110）上依次形成第一靶材料层（120）和第一聚合物层（130）的步骤; 通过在第一聚合物层上进行光刻工艺来形成第一聚合物结构的步骤; 离子蚀刻第一靶材料层并在基板上形成第一靶材料 - 聚合物复合结构的步骤; 通过去除第一目标材料 - 聚合物层的第一聚合物获得第一纳米结构（200）的步骤; 在第一纳米结构上形成第二聚合物层并形成通过进行光刻工艺图案化的第二聚合物结构的步骤; 在第二聚合物结构中形成第二靶材料层（160）的步骤; 通过离子蚀刻整个第二靶材料层在基板上形成第二目标材料 - 聚合物复合结构的步骤; 通过除去第二聚合物形成第二纳米结构（250）的步骤; 以及重复前述步骤以制造三维多组分纳米结构的步骤。

公开(公告)号：KR1020160087666A

公开(公告)日：2016-07-22

申请号：KR1020150006921

申请日：2015-01-14

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 정희태 ,  정우빈 ,  정현수 ,  전환진

IPC: G02F1/1337

CPC classification number: G02F1/13378

Abstract: 본발명은패턴의구조적변화를이용한선경사각의조절을통한빠른응답속도를가지는액정디스플레이의제조방법에관한것으로, 더욱상세하게는기판바닥에전사된프리-패턴(pre-pattern)을비대칭으로식각한다음, 이온밀링을이용하여비대칭으로식각된프리-패턴의일측면에패턴을형성하는것을특징으로하는경사각이조절된패턴의제조방법과경사각이조절된패턴을이용하여빠른응답속도를가지는액정디스플레이를제조하는방법에관한것이다. 본발명에따른패턴의구조적변화를이용한선경사각의조절을통한빠른응답속도를가지는액정디스플레이의제조방법은고가의이온빔이나폴리아미드의조성을변경하는등의화학적방법을사용하지않고액정의선경사각이조절가능하며, 상기방법으로제조된디스플레이의응답속도가빨라지므로, 경제적이고고효율을가지는액정디스플레이의제조에유용하다.

Abstract translation: 本发明涉及通过使用图案的结构变化来调整预倾斜角度而具有快速响应速度的液晶显示器的制造方法，更具体地说，涉及一种制造倾斜角为 并且通过使用调整倾斜角的图案来制造具有快速响应速度的液晶显示器的方法，其中转印在基板底部的预图案被不对称蚀刻并且图案形成在一侧 的不对称蚀刻的预图案通过使用离子铣削。 通过使用根据本发明的图案的结构变化通过调节预倾角来制造具有快速响应速度的液晶显示器的方法对于制造经济高效的液晶显示器是有用的，因为预倾斜 角度可以调节而不使用昂贵的离子束或化学方法如改变聚酰胺的组成，并且通过该方法制造的显示器的响应速度是快速的。

公开(公告)号：KR1020130091992A

公开(公告)日：2013-08-20

申请号：KR1020120013407

申请日：2012-02-09

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 정희태 ,  전환진 ,  정현수

IPC: G06F3/041 ,  H01B13/00

CPC classification number: H01B13/0026 ,  G06F3/0412

Abstract: PURPOSE: A manufacturing method of a touch panel electrode is provided to form an electrode by using an ion bombardment phenomenon through physical ion-etching, thereby manufacturing an electrode having high transparency and uniformity with a simple process and at low cost. CONSTITUTION: A conductive material layer (15) and a polymer layer (20) are successively formed on a substrate. A patterned polymer structure is formed at the polymer layer through a lithography process. A conductive-material/polymer composite structure (25), to which an ion-etched conductive material is attached, is formed on the outer circumferential surface of the polymer structure by ion-etching the conductive material layer. An electrode pattern is formed on the substrate by removing the polymer of the conductive-material/polymer composite structure.

Abstract translation: 目的：提供触摸面板电极的制造方法，通过物理离子蚀刻使用离子轰击现象形成电极，从而以简单的工艺和低成本制造具有高透明度和均匀性的电极。 构成：在衬底上依次形成导电材料层（15）和聚合物层（20）。 通过光刻工艺在聚合物层处形成图案化的聚合物结构。 通过对导电材料层进行离子蚀刻，在聚合物结构体的外周面上形成有导电材料/聚合物复合结构（25），其上附着有离子蚀刻导电材料。 通过除去导电材料/聚合物复合结构的聚合物，在基板上形成电极图案。