-
公开(公告)号：WO2011087176A1
公开(公告)日：2011-07-21
申请号：PCT/KR2010/000472
申请日：2010-01-26
IPC: H01L21/027 , H01L33/22
CPC classification number: H01L33/42 , H01L2924/0002 , H01L2933/0016 , Y10T428/24802 , H01L2924/00
Abstract: 본 발명은 나노임프린트를 이용한 금속 산화박막 패턴 형성방법 및 이를 이용한 LED 소자의 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명의 일 구현예에 따른 나노임프린트를 이용한 금속 산화박막 패턴 형성방법은 기판에 감광성 금속-유기물 전구체 용액을 코팅하는 단계; 요철구조가 패턴된 몰드를 준비하는 단계; 상기 패턴된 몰드로 상기 감광성 금속-유기물 전구체 코팅층을 가압하는 단계; 상기 가압된 감광성 금속-유기물 전구체 코팅층을 가열하거나 또는 가열함과 동시에 자외선을 조사하여 경화된 금속 산화박막 패턴을 형성하는 단계; 상기 패턴된 몰드를 상기 금속 산화박막 패턴으로부터 제거하는 단계;를 포함하며, 선택적으로 상기 금속 산화박막 패턴을 소성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 레지스트로 사용하기 위해 자외선 레진을 별도로 도포하는 공정이 생략될 수 있으므로 패턴 형성공정이 간소화되고, 단일 임프린트 공정으로 마이크로/나노 복합패턴을 형성할 수 있는 나노임프린트를 이용한 금속 산화박막 패턴 형성방법이 제공된다.
Abstract translation: 本发明涉及使用纳米压印形成金属氧化物薄膜图案的方法和使用其的LED元件的制造方法。 根据本发明的一个实施方案，使用纳米压印形成金属氧化物薄膜图案的方法包括以下步骤：将感光金属 - 有机前体溶液涂布在基材上; 制备其上形成凹凸结构的模具; 通过图案化的模具对感光金属 - 有机前体涂层进行加压; 通过加热加压的感光金属 - 有机前体涂层或者一旦进行加热就照射紫外线，形成硬化的金属氧化物薄膜图案; 并且从所述金属氧化物薄膜图案去除所述图案化的模具，其中进一步包括选择性烧结所述金属氧化物薄膜图案的步骤。 因此，本发明提供了使用纳米压印形成金属氧化物薄膜图案的方法，其中省略了为了使用树脂作为抗蚀剂而分开施加紫外线树脂的工艺，从而简化了图案形成工艺并形成微/纳米 复杂的图案通过单一的印记过程。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：WO2011027939A1
公开(公告)日：2011-03-10
申请号：PCT/KR2009/006621
申请日：2009-11-11
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L33/44 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L2933/0083
Abstract: 본 발명의 일 구현예에 따른 나노임프린트를 이용한 금속 산화박막 패턴 형성방법은, 기판에 감광성 금속-유기물 전구체 용액을 코팅하는 단계와, 요철구조를 가지도록 패턴된 몰드로 상기 감광성 금속-유기물 전구체 코팅층을 가압하는 단계와, 상기 가압된 감광성 금속-유기물 전구체 코팅층에 자외선을 조사하여 경화된 금속 산화박막 패턴을 형성하는 단계와, 상기 패턴된 몰드를 상기 금속 산화박막 패턴으로부터 제거하는 단계를 포함한다.
Abstract translation: 根据本发明的一个实施方案，使用纳米压印形成金属氧化物薄膜图案的方法包括以下步骤：将光敏金属 - 有机前体溶液涂布在基材上; 通过使用已经被图案化以具有凹凸结构的模具来压缩感光的金属 - 有机前体涂覆层; 通过将紫外光照射到压缩的感光金属有机前体涂层上形成固化的金属氧化物薄膜图案; 以及从所述金属氧化物薄膜图案移除所述图案化的模具。
-
公开(公告)号：KR100995897B1
公开(公告)日：2010-11-22
申请号：KR1020100009904
申请日：2010-02-03
Applicant: 한국기계연구원
CPC classification number: H01L51/56 , B01J19/123 , B82Y20/00 , C08L101/00
Abstract: PURPOSE: A gap filling method of a nanostructure and a manufacturing method of an organic light-emitting device(OLED) using thereof are provided to form an oxide thin film with a flat surface by pressing a gap of the nanostructure with a mold. CONSTITUTION: A gap filling method of a nanostructure comprises the following steps: supplying a substrate with the nanostructure including a gap on the upper side(S1); spreading a coating composition to fill the gap(S2); pressing the layer of the coating composition with a mold(S3); irradiation ultraviolet rays to the coating composition layer(S4); heating the layer to form a metal oxide thin film; and separating the mold from the metal oxide thin film(S5).
Abstract translation: 目的：提供纳米结构的间隙填充方法和使用其的有机发光器件（OLED）的制造方法，以通过用模具压制纳米结构的间隙来形成具有平坦表面的氧化物薄膜。 构成：纳米结构的间隙填充方法包括以下步骤：向衬底提供包括在上侧的间隙的纳米结构（S1）; 铺展涂料组合物以填补间隙（S2）; 用模具挤压涂层组合物层（S3）; 向涂料组合物层照射紫外线（S4）; 加热层以形成金属氧化物薄膜; 并将模具与金属氧化物薄膜分离（S5）。
-
公开(公告)号：KR100965904B1
公开(公告)日：2010-06-24
申请号：KR1020090082592
申请日：2009-09-02
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01L21/027 , B82Y40/00
CPC classification number: H01L33/44 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L2933/0083 , B29C59/022
Abstract: PURPOSE: A patterning method of a metal oxide thin film using nano-imprint and manufacturing method of a light emitting diode are provided to reduce a pattern process by removing a process of covering an ultraviolet resin additionally. CONSTITUTION: A photosensitivity metal-organic precursor solution is coated on a substrate(S1). A photosensitivity metal-organic precursor coating layer is pressurized into a patterned mold(S2). Ultraviolet ray is radiated on the pressured metal-organic precursor coating layer to form a hardened metal oxide film pattern(S3). The patterned mold is removed from the metal oxide thin film pattern(S4). A plastic process of processing the metal oxide thin film pattern with a thermal process is performed.
Abstract translation: 目的：提供使用纳米压印的金属氧化物薄膜的图案化方法和发光二极管的制造方法，以通过除去另外掩盖紫外线树脂的工艺来减少图案处理。 构成：将光敏金属 - 有机前体溶液涂覆在基材上（S1）。 将光敏金属 - 有机前体涂层加压成图案化模具（S2）。 将紫外线照射在加压的金属 - 有机前体涂层上以形成硬化的金属氧化物膜图案（S3）。 从金属氧化物薄膜图案去除图案化的模具（S4）。 进行利用热处理来处理金属氧化物薄膜图案的塑性工艺。
-
公开(公告)号：KR101088359B1
公开(公告)日：2011-12-01
申请号：KR1020100026302
申请日：2010-03-24
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 나노임프린트를 이용한 패턴형성방법에 관한 것으로서, 본 발명의 제1실시형태에 의한 나노임프린트를 이용한 패턴 형성방법은, 기판상에, 금속원소에 에너지선 또는 열 중 적어도 하나에 의하여 분해가능한 유기물 리간드가 결합하여 이루어진 금속-유기물 전구체 조성물을 코팅하는 단계; 몰드를 상기 코팅된 금속-유기물 전구체 조성물상에 가압하는 단계; 가열 또는 에너지선 조사 중 적어도 하나의 방법을 이용하여 상기 조성물에 패턴을 임프린팅하여, 상기 기판상에 금속 산화박막 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 금속 산화박막 패턴의 전면을 건식 식각에 의하여 에칭하는 단계를 포함하며, 상기 에칭단계에 의하여 상기 금속 산화박막 패턴 중 오목부(凹部)에 해당하는 부분의 기판이 함께 식각됨으로써, 상기 금속 산화박막 패턴의 두께 방향으로의 단면 형상에 상응하는 요철로 이루어진 패턴이 상기 기판 자체에 형성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 광 추출 효율이 극대화된 나노 패턴을 형성할 수 있고, 금속 산화물 이외에 정밀하고 미세한 패턴 형성이 요구되는 재질로 패턴을 형성할 수 있으며, 아울러, 나노막대의 정밀한 정렬 및 밀도 조절이 용이하게 수행될 수 있다.Abstract translation: 本发明涉及一种图案形成方法，使用纳米压印，使用根据本发明的第一实施方式的纳米压印的图案形成方法被分解在基板上，由能量射线或热的金属元素中的至少一个可以 涂覆包含与其结合的有机配体的金属有机前体组合物; 将模具压在涂覆的金属有机前体组合物上; 使用加热和能量束照射中的至少一种在组合物上压印图案以在基板上形成金属氧化物薄膜图案; 并且通过干法蚀刻来蚀刻金属氧化物薄膜图案的整个表面，其中与金属氧化物薄膜图案一起蚀刻对应于凹部的金属氧化物薄膜图案的一部分， 由凹凸对应于横截面形状的薄膜图案的厚度方向的图案的特征在于，形成在基板本身。
-
公开(公告)号：KR1020110107120A
公开(公告)日：2011-09-30
申请号：KR1020100026302
申请日：2010-03-24
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0274 , G03F7/0027
Abstract: 본 발명은 나노임프린트를 이용한 패턴형성방법에 관한 것으로서, 본 발명의 제1실시형태에 의한 나노임프린트를 이용한 패턴 형성방법은, 기판상에, 금속원소에 에너지선 또는 열 중 적어도 하나에 의하여 분해가능한 유기물 리간드가 결합하여 이루어진 금속-유기물 전구체 조성물을 코팅하는 단계; 몰드를 상기 코팅된 금속-유기물 전구체 조성물상에 가압하는 단계; 가열 또는 에너지선 조사 중 적어도 하나의 방법을 이용하여 상기 조성물에 패턴을 임프린팅하여, 상기 기판상에 금속 산화박막 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 금속 산화박막 패턴의 전면을 건식 식각에 의하여 에칭하는 단계를 포함하며, 상기 에칭단계에 의하여 상기 금속 산화박막 패턴 중 오목부(凹部)에 해당하는 부분의 기판이 함께 식각됨으로써, 상기 금속 산화박막 패턴의 두께 방향으로의 단면 형상에 상응하는 요철로 이루어진 패턴이 상기 기판 자체에 형성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 광 추출 효율이 극대화된 나노 패턴을 형성할 수 있고, 금속 산화물 이외에 정밀하고 미세한 패턴 형성이 요구되는 재질로 패턴을 형성할 수 있으며, 아울러, 나노막대의 정밀한 정렬 및 밀도 조절이 용이하게 수행될 수 있다.
-
-
-
-
-
Search Results
6
records
(took 0.02 seconds)
