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公开(公告)号：KR1019950009284A
公开(公告)日：1995-04-21
申请号：KR1019930018049
申请日：1993-09-08
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: G02B5/30
Abstract: 본 발명은 인가되는 전원전압에 따라 복굴절율이 변화하는 전기광학적 특성을 갖는 매질을 중간층(Spacer Layer)으로 사용하는 파브리-페로 공진기(Pabry-Perot Etalon)를 이용한 편광빔분리장치에 관한 것으로, 그 구성은 하부거울층으로 사용하되 낮은 굴절율을 가진 매질과 높은 굴절율을 가진 매질이 교번하여 형성된 제1거울층과, 상부거울층으로 사용하되 높은 굴절율을 가진 매질과 낮은 굴절율을 가진 매질이 교번하여 형성된 제2거울층과, 상기의 제1거울층과 제2거울층사이에 형성된 복굴절매질로 이루어진 중간층과, 상기 중간층의 양측에 형성된 전극과, 상기 전극에 전원전압을 제공하는 전원을 포함하되, 상기의 제2거울층과 상기의 제1거울층의 반사율이 동일하고, 상기 중간층의 두께d가 d=(λm)/2n
f E의 식을 만족하고, 여기서, m은 정수이고, 그리고 E는 상기 중간층의 매질에 인가되는 전계이며, n
f 는 입사빔의 진행방향에 수직인 평면을 s-축과 f-축으로 표현하는 경우 s-축 방향에 대응하는 매질의 굴절율을 n
s 라 할 때 f-축 방향에 대응하는 매질의 굴절율인 구성을 특징으로 한다. 상기의 장치는 간섭현상을 이용하여 편광빔을 소망하는 방향의 성분을 분배할수 있고, 분리된 편광빔의 선폭을 조절할수 있으며, 에너지손실을 저감하는 이점이 있다.-
公开(公告)号：KR1019960007883B1
公开(公告)日：1996-06-15
申请号：KR1019930018049
申请日：1993-09-08
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: G02B5/30
Abstract: The beam splitter comprises a top mirror layer(40) and a bottom mirror layer(20) which composed of mediums having high refractive index and low refractive index in turn, and a middle layer(30) composed of double refraction medium. The reflection factor of the top mirror layer(40) is same as that of the bottom mirror layer(20). The thickness of the middle layer(30), d, equal to ( Om)/2nfE, where m is constant, E is the applied voltage on the middle layer, nf is reflectin factor of medium corresponding to the direction of f-axis. The optical width of medium of high reflection factor is a quarter of signal beam's wave length.
Abstract translation: 分束器包括由具有高折射率和低折射率的介质以及由双折射介质组成的中间层（30）组成的顶镜层（40）和底镜层（20）。 上镜层（40）的反射系数与底镜层（20）的反射系数相同。 中间层（30）的厚度d等于（Om）/ 2nfE，其中m是常数，E是中间层上的施加电压，nf是对应于f轴方向的介质的反射系数。 高反射因子介质的光学宽度是信号光束波长的四分之一。
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公开(公告)号：KR1019960001164B1
公开(公告)日：1996-01-19
申请号：KR1019920011453
申请日：1992-06-29
IPC: H01L21/027
Abstract: forming oxide silicon layer of predetermined width by oxidating the surface of silicon surface; defining the predetermined pattern by passivating the photo sensitive film on the oxide silicon layer; etching the exposed part of oxide silicon layer to expose the silicon substrate by making the patterned photosensitive film as a mask; forming a high reflection film on the oxide silicon layer and exposed part of the silicon substrate by eliminating the patterned photo sensitive film.
Abstract translation: 通过氧化硅表面的表面形成预定宽度的氧化硅层; 通过钝化氧化硅层上的感光膜来限定预定图案; 通过使图案化感光膜作为掩模，蚀刻暴露于氧化硅层的部分以暴露硅衬底; 通过消除图案化的感光膜，在氧化硅层上形成高反射膜并暴露部分硅衬底。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1019960013804B1
公开(公告)日：1996-10-10
申请号：KR1019930015636
申请日：1993-08-12
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: G02B26/00
Abstract: a substrate(10); a first mirror layer(20) formed by stacking a low refractive index media and a high refractive index media in turn on the substrate(10); a second mirror layer(40) formed by stacking a high refractive index material and a low refractive index material in turn; and a spacer layer(30) formed with Kerr material between the first and the second mirror layer(20,40). The reflectance of the first mirror layer(20) is 95 precent or 100 precent and the reflectance of the second mirror layer(40) is 5 precent or 30 precent and the initial tuning phase of the spacer layer(30) is m +t where m is an integer and t is 0.7 or 0.8.
Abstract translation: 基板（10）; 依次在所述基板（10）上层叠低折射率介质和高折射率介质而形成的第一镜层（20）; 依次层叠高折射率材料和低折射率材料形成的第二镜层（40）; 以及在第一和第二镜层（20,40）之间形成有克尔材料的间隔层（30）。 第一镜面层（20）的反射率为95以上或100以上，第二镜面层（40）的反射率为5个或30个以上，并且间隔层（30）的初始调谐相位为m + t， m为整数，t为0.7或0.8。
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公开(公告)号：KR1019950009293A
公开(公告)日：1995-04-21
申请号：KR1019930017729
申请日：1993-09-04
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: G02B26/00
Abstract: 본 발명은 빔의 세기에 따라 굴절융이 변화하는 커어(Kerr) 매질을 중간층(Spacer Layer)으로 사용하는 파브리-페로 공진기(Parbry-Perot Etalon)를 이용한 파장분할역다중화 소자 및 이를 사용하는 시스템에 관한 것으로, 그 파장분할역다중화소자의 구성은 기판과, 이 기판상에 형성된 하부거울층으로 사용하되 낮은 굴절율을 가진 매질과 높은 굴절율을 가진 매질이 교번하여 형성된 제1거울층과, 상부거울층으로 사용하되 높은 굴절율을 가진 매질과 낮은 굴절율을 가진 매질이 교번하여 형성된 제2거울층과, 상기 제1거울층과 제2거울층사이에 형성된 커어 매질로 이루어진 중간층을 포함하되, 상기의 제2거울층에 대해 상기의 제1거울층의 반사율은 상대적으로 높게 형성되고, 상기 중간층의 초기위상값이 mπ+tπ로 되는 상기 중간층의 두께가 설정되며, 여기서 m은 정수이고 그리고 t는 0.2 내지 0.4인 구조로 되어 있고, 이러한 구조의 파장분할역다중화소자를 사용하여신시호빔과 편광제어빔을 제공하는 빔발생기와 빔분리기 및 편광분해기로 시스템을 형성한다.
본 발명에 의해 편광제어빔의 세기변화에 대하여 에너지 손실이 적으면서 높은 편광회전효율을 기대할 수 있고 그리고 반사빔의 피크선폭을 좁힐 수 있다.-
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公开(公告)号：KR1019950006487A
公开(公告)日：1995-03-21
申请号：KR1019930015636
申请日：1993-08-12
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: G02B26/00
Abstract: 본 발명의 빔의 세기에 따라 굴절율이 변화하는 커어(kerr) 매질을 중간층(Spacer Layer)으로 사용하는 파브리-페로 공진기(Pabry-Perot Etalon)를 이용한 편광스위칭 소자 및 이를 사용하는 편광스위칭시스템에 관한 것으로, 그 편광스위칭소자의 구성은 기판과, 이 기판상에 형성된 하부거울층으로 사용하되 낮은 굴절율을 가진 매질과 높은 굴절율을 가진 매질이 교번하여 형성된 제1거울층과, 상부거울층으로 사용하되 높은 굴절율을 가진 매질과 낮은 굴절율을 가진 매질이 교번하여 형성된 제2거울층과, 상기의 제1거울층과 제2거울층사이에 형성된 커어 매질로 이루어진 중간층을 포함하되, 상기의 제1거울층에 대해 상기의 제1거울층의 반사율은 상대적으로 높게 형성되고, 상기 중간층의 초기위상값이 mπ+tπ로 되는 상기 중간층의 두께가 설정되며, 여기서 m 은 정수이고 그리고 t는 0.7내지 0.8인 구조로 되어 있고, 이러한 구조의 편광스위칭소자를 사용하여 신호빔과 편광제어빔을 제공하는 빔발생기와 빔분리기 및 편광빔분리기로 편광스위칭시스템을 형성한다.
본 발명에 의해 편광제어빔의 세기변화에 대하여 안정된 쌍안정특성을 갖고 또한 높은 편광회전각도(거의 90도) 및 높은 편광회전효율(거의 100%)를 갖으며, 에너지손실을 크게 줄일 수 있다.-
公开(公告)号：KR1019940001236B1
公开(公告)日：1994-02-18
申请号：KR1019910012522
申请日：1991-07-22
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: G11B7/00
Abstract: The method arrays a noncrystalized chalcogenide (7) by a constant polarized recording light (8) and for recording the data to the desired location by a lineary polarized recording light (9). The device includes a reading light source (11), a lens (12) for converting the linearly polarized light (10) into the paralleling light, a polarizing beam splitter (15) for reflecting the paralleling light, a quater wave retardation plate (14) for passing the light, a light converging lens (15), an optic recording device (16) for recording the light information, and a photo detector (17) for deciding the axis of light degrees (450).
Abstract translation: 该方法通过恒定的偏振记录光（8）排列非结晶的硫族化物（7），并通过线偏振记录光（9）将数据记录到期望的位置。 该装置包括读取光源（11），用于将线偏振光（10）转换成并列光的透镜（12），用于反射并联光的偏振分束器（15），四分之一波长相位差板（14） ），聚光透镜（15），用于记录光信息的光记录装置（16），以及用于决定光度轴（450）的光检测器（17）。
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