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公开(公告)号:KR1019980047266A
公开(公告)日:1998-09-15
申请号:KR1019960065742
申请日:1996-12-14
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 ArF 엑시머 레이저를 광원으로 하는 스텝 및 스캔(Step Scan)형 반도체 노광장비에 있어서 회로 패턴을 담고 있는 레티클과 웨이퍼를 TTL(Through The Lens)방식으로 직접 정렬하는 광학 시스템에 관한 내용으로서, 홀로그라피(holography) 방식에 의한 위상공액파(phase conjugate wave)를 발생시켜 노광 광원과 정렬광원의 색수차를 보정하는 방법을 제시하고, ArF 엑시머 레이저를 노광 광원으로 사용하는 웨이퍼 스텝퍼에서 레티클과 웨이퍼의 위치를 직접 정렬하는 TTL 정렬방법을 제시한다.