公开(公告)号：KR100950769B1

公开(公告)日：2010-04-05

申请号：KR1020070132622

申请日：2007-12-17

Applicant: 한국전자통신연구원 ,  고려대학교 산학협력단

Inventor： 윤병식 ,  김도훈 ,  인호 ,  최송인 ,  안지환

IPC: H04L12/26 ,  H04L12/22 ,  H04L12/28

CPC classification number: H04L63/1416 ,  H04L63/1441

Abstract: 본 발명에 따른 역추적 방법은 공격자의 이동 경로에 따른 라우터 정보를 포함하는 데이터를 수신하는 단계, 상기 데이터를 필터링하여 간략화하여 간략화된 정보를 저장하는 단계, 상기 간략화된 정보를 통해 상기 데이터의 정상 수신 여부를 판단하는 단계, 그리고 상기 판단 결과에 따라 경로 손실을 예측하는 단계를 포함한다. 따라서 확률 패킹 마킹 방법과 해쉬 기반 역추적 방법을 고려하여 역추적을 함으로써 정확한 IP 역추적을 수행할 수 있다.
IP 역추적, 마르코브 체인, 확률 패킷 마킹, 블룸 필터

公开(公告)号：KR100388490B1

公开(公告)日：2003-06-25

申请号：KR1019990022660

申请日：1999-06-17

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 최상수 ,  이각현 ,  김도훈 ,  정해빈 ,  조경익

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: An off-axial aperture with a fly's eye lens and a fabricating method thereof are provided to pass a larger quantity of light through the off-axial aperture, thereby increasing a throughput and facilely fabricating the aperture. CONSTITUTION: The device comprises a light shielding area formed at a center portion; a light penetrating area formed around the light shielding area and comprised of a fly's eye lens. The aperture further comprises a partial light penetrating area formed at a portion except the light shielding area and the light penetrating area and having a lower permeability than that of the light penetrating area. In the aperture, the light penetrating area formed into a quadruple, hexapole or annular type. A method of fabricating the off-axial aperture comprises the steps of: forming a light shielding pattern on an entire surface of a transparent substrate(100); forming the first resist pattern having a curved surface at a fly's eye lens area of the substrate; and performing an etching process to form the fly's eye lens on the substrate.

Abstract translation: 目的：提供一种具有蝇眼透镜的离轴孔径及其制造方法，以使较大量的光通过离轴孔径，从而增加产量并便于制造孔径。 构成：该装置包括形成在中心部分的遮光区域; 在遮光区域周围形成的由蝇眼透镜构成的透光区域。 该孔还包括形成在除遮光区域和透光区域之外的部分处并且具有比透光区域的导磁率低的导磁率的部分光穿透区域。 在光圈中，透光区域形成四极，六极或环形类型。 一种制造离轴孔径的方法包括以下步骤：在透明基板（100）的整个表面上形成光屏蔽图案; 在基板的蝇眼透镜区域形成具有曲面的第一抗蚀剂图案; 并执行蚀刻工艺以在基板上形成蝇眼透镜。

公开(公告)号：KR100293910B1

公开(公告)日：2001-06-15

申请号：KR1019990013748

申请日：1999-04-19

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이각현 ,  김도훈 ,  최상수 ,  정해빈 ,  조경익

IPC: G03F7/20

Abstract: 1.청구범위에기재된발명이속한기술분야엑시머레이저를광원으로사용하는반도체노광장비용광학계에있어, 초점심도를확장한광학계구성에관한것으로, 본발명은광원인 ArF 엑시머레이저와조명광학계후단에제 1 렌즈군, 반사경(folding mirror), 제 2 렌즈군, 편광광 분할기, 1/4 파장평판 ,구면반사경, 제 3 렌즈군으로구성된광학계에복굴절물질로제작된광학부품을내장한다. 복굴절물질로광학부품을제작하여광학계를구성하는광학부품으로서광학계내에설치하면입사한빛의편광방향에따라서굴절률에차이가나타나게되어빛이지나가게되는경로가달라지게되고, 그결과광학계의광축방향을따라상을맺는위치가달라지게되어일정한범위에서연속적으로상을맺게함으로써원하는해상도의상을얻을수 초점심도를확장시킬수 있다.

公开(公告)号：KR100270583B1

公开(公告)日：2000-12-01

申请号：KR1019980021700

申请日：1998-06-11

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 정해빈 ,  김종수 ,  이각현 ,  김도훈 ,  최상수 ,  조경익 ,  김보우

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 미세패턴 형성장비의 반사굴절 광학계에 사용되는 편극 영향 제거판에 관한 것이다.
종래의 경우에는 웨이퍼면에 도달하는 빛의 선편광된 편극을 없애주기 위하여 이상 광선과 정상 광선 사이의 위상차를 90도 발생시켜 원편광을 만들어주는 1/4 파장판을 사용하거나, 원하는 방향의 편극을 만들어 주기 위하여 위상을 180도 발생시키는 1/2 파장판을 사용하였다. 그런데, 이러한 파장판은 사용 파장과 물질의 굴절률에 의해서 결정되는 두께로 정확히 가공해야 하므로 제작이 어렵다. 또한, 파장판의 가공을 쉽게 하기 위해서 차수를 높이면 두께가 두꺼워져서 입사각이 커지면 효율이 떨어지는 단점이 있다.
본 발명에서는 편극 영향 제거판을 통과하면 입사각에 따른 편극이 제각기 달라져 불규칙하게 되는 것을 이용하여 프리즘과 상면(웨이퍼) 사이에 편극 영향 제거판을 위치시켜 선편광된 광의 편극 영향을 제거하므로써 패턴의 모양에 따른 선폭 변화가 없도록 할 수 있다.

公开(公告)号：KR100268177B1

公开(公告)日：2000-11-01

申请号：KR1019980023758

申请日：1998-06-23

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 손영준 ,  김도훈 ,  정해빈 ,  박흥옥 ,  김보우

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 반도체 소자용 노광장비에서 레티클 또는 웨이퍼의 정렬마크를 조사하는 정렬광에 대하여 정렬마크를 상대적으로 이동시켜 레티클 또는 웨이퍼를 원하는 위치에 정렬시키는 방법에 있어서, 정렬광이 상대적으로 이동하는 방향의 중심선을 기준으로 위쪽과 아래쪽으로 치우치면서 정렬광 이동 방향으로 일정한 거리를 두고 정렬마크를 배치하여, 정렬마크에 대하여 정렬광이 상대적으로 이동할 때 시간적으로 차이를 갖는 두 개 이상의 정렬신호를 얻고, 정렬신호들의 상대적인 강도와 정렬신호들 사이의 시간 간격을 이용하여 레티클 또는 웨이퍼의 상대적인 위치를 정렬해주는 정렬마크의 형태와 방법을 제안한다. 본 발명의 정렬마크 및 정렬방법을 이용하면 정렬광의 이동 방향의 위치 정렬 뿐만 아니라 정렬광 이동 방향에 수직인 방향의 위치 정렬 및 회전에 대한 위치 정렬도 가능하며 정렬을 위한 방향도 검출할 수 있다.

公开(公告)号：KR100248394B1

公开(公告)日：2000-03-15

申请号：KR1019970072632

申请日：1997-12-23

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김도훈 ,  손영준 ,  권진혁 ,  정해빈 ,  김보우

IPC: G03H1/22

Abstract: 본 발명은 반도체 소자 제작을 위한 스텝퍼나 스캐너의 TTL 정렬 장치에 있어서 내부 전반사형 홀로그래피(total internal reflection holography) 방식에 의한 위상공액파(phase conjugate wave)를 발생시켜 색수차를 보정하는 TTL 정렬을 수행하는 장치에 관한 것이다. 홀로그래피 방법 가운데 특히 내부 전반사형 홀로그래피는 구조가 간단하여 정렬계 구성에 있어서 유리하며 참조광이 광학계에 미치는 영향이 없으므로 반도체 노광장비의 투영광학계에 대한 영향이 적다는 장점이 있다. 이러한 기술을 근거로 하여 ArF 엑시머 레이저의 광을 노광 광원으로 사용하는 웨이퍼 스텝퍼에서 레티클과 웨이퍼의 위치를 직접 정렬하도록 하는 것으로 노광광원에 의한 마스크의 패턴을 굴절되도록 하는 입사 굴절광학계(102)와 반사경(103) 및 편광 빛 분할기(104)와; 상기 패턴을 웨이퍼로 축소 투영시키는 오목 반사경(105)과 출사 광학계(106)와; 아르곤 레이저(110)의 광원으로 부터 파이버를 통해 입사되는 TTL 정렬수단과; 상기 TTL 정렬수단에 의해 반사-굴절 시스템 내로 투영되는 정렬광(111)은 웨이퍼 정렬광(112)과 레티클 정렬광(114)으로 나뉘어져서 각각 레티클(108)과 웨이퍼(107)로 투영되도록 하는 편광 빛 분할기(104)와; 상기 아르곤 레이저(110)로 부터 내부 전반사형 홀로그래픽 TTL 정렬수단까지 정렬광을 전달하도록 하는 단일모드 파이버(202)로 구성되며, 상기 TTL 정렬수단은 내부 전반사형 홀로그램 정렬계(200)를 이용하는 것을 특징으로 한다.

公开(公告)号：KR1019990051290A

公开(公告)日：1999-07-05

申请号：KR1019970070578

申请日：1997-12-19

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이각현 ,  김종수 ,  김도훈 ,  최상수 ,  정해빈 ,  김보우

IPC: G02B1/00

Abstract: 본 발명은 광 투과율이 적고 광 반사율이 커서, 193nm 파장의 ArF 엑시머 레이저를 조명 광원으로 사용한 광학계에 적용 가능한 만진 미러를 제공하고자 하는 것으로, 이를 위한 본 발명의 만진 미러는 투명기판; 상기 투명기판 상에 형성되고, 고굴절률 박막 및 저굴절율 박막이 교대로 반복 적층되며 최하부 및 최상부 층에 고굴절률 박막을 갖는 적층 박막; 및 상기 적층 박막상에 형성되어, 상기 적층 박막을 통과한 광을 흡수하는 박막을 포함하여 이루어진다.

公开(公告)号：KR100204578B1

公开(公告)日：1999-06-15

申请号：KR1019960038191

申请日：1996-09-04

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이각현 ,  김도훈 ,  정해빈 ,  유형준

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 굴절능을 반사경에 집중시켜 넓은 대역폭의 광원을 사용할 수 있도록 구성한 광학계(optical system)에 관한 것이다.
광학계를 구성하는 렌즈의 수와 전체 렌즈들의 두께를 줄일 수 있는 본 발명은 광원후단에 위치하며, 4장의 렌즈로 이루어진 제1렌즈군과, 제1렌즈군의 후단에 위치하며 4장의 렌즈로 이루어진 제2렌즈군과, 제2란제군 후단에 위치하며, 2개의 프리즘으로 이루어진 편광선속분할기와, 편광선속분할기 후단에위치하는 파장평판 및 주 반사경과, 파장평판 하단에 위치되어 광이 조사되는 물체면과 대응하는 5장의 렌즈로 이루어진 제3렌즈군으로 구성된다.

公开(公告)号：KR100174868B1

公开(公告)日：1999-04-01

申请号：KR1019940033475

申请日：1994-12-09

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김도훈 ,  이각현 ,  정해빈 ,  유형준

IPC: H01L21/027

Abstract: 반도체 노광장비인 웨이퍼 스테퍼의 웨이퍼 정렬방법 및 그 장치에 관한 것으로서, 레이저 광원으로는 He-Ne 레이저 대신에 자기장에 의한 에너지 띄의 미세분리 효과를 이용한 제만(Zeeman) 레이저로서 두 광파가 수 MHz의 상이한 주파수 차를 가지며 두 광파의 편광이 항상 수직을 유지하는 제만 주파수 안정화 레이저를 사용하여 정렬광의 위상과 레이저 기준신호의 위상을 비교함으로써 수십 KHz의 상이한 주파수 차를 가지는 두 광파로 분리하기 위해서 광-음향 변조기(acousto-optic modulator)를 사용해야 하는 종래의 He-Ne 레이저에 비해 비교적 간단한 광학계로 빠른 정렬과 높은 정렬 정밀도를 달성할 수 있다.

公开(公告)号：KR100160544B1

公开(公告)日：1999-02-01

申请号：KR1019940033474

申请日：1994-12-09

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김도훈 ,  정해빈 ,  유형준

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 웨이퍼 스텝퍼에 있어서 반도체 미세회로 패턴을 지닌 마스크와 패턴이 옮겨질 웨이퍼 사이를 정렬하는 정렬장치 및 그 방법에 관한 것으로 웨이퍼를 바로 노광위치에서 정렬을 수행하고 노광을 하며 또는 노광을 수행하는 동안에도 웨이퍼 정렬을 수행할 수 있으며 정렬광을 경사조명에 의한 웨이퍼 정렬방법으로써 off-axis 정렬방식에서 웨이퍼 스테이지의 base-line 오차가 근본적으로 발생하지 않도록 하는 웨이퍼 스텝퍼에서 정렬광의 경사조명에 의한 웨이퍼 정렬방법과 그 장치에 관한 것이다.