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公开(公告)号:KR100523937B1
公开(公告)日:2005-10-26
申请号:KR1020040030669
申请日:2004-04-30
Applicant: 한국표준과학연구원
IPC: G01D18/00
Abstract: 본 발명은 나노미터 수준까지 길이측정이 가능한 광간섭계와 피코미터 수준까지 길이측정이 가능한 X선 간섭계를 이용하여 LVDT의 선형성을 교정하는 교정장치에 관한 것이다. 이를 위해, 1축방향으로 왕복 이송이 가능하도록 설치되고, LVDT(210)가 탑재된 이송 스테이지(200); 이송 스테이지(200)의 이송에 따라 광간섭신호가 서로 다른 위상모드를 갖도록, 단일의 레이저를 조사하는 레이저 간섭부; 각 광간섭신호를 검출하도록 광학모듈(130, 140, 230)에 광학적으로 대응/배치되는 제 1, 2 광검출기(160, 170)와 위상검출기(180); 각 X선 간섭신호가 LVDT(210)의 변위구간을 세분할 수 있도록 한 X선 간섭부; X선 간섭블럭(310)의 변이에 따라 발생되는 각 X선 간섭신호를 검출하기 위해 X선의 진행방향상에 위치하는 X선 검출기(390); 변이에 따라 생성되는 X선 검출기(390)의 출력신호 및 이송 스테이지(200)의 이송에 따라 생성되는 위상검출기(180)의 출력신호에 각각 대응하는 상기 LVDT(210)의 출력신호를 획득하여 표시하는 제어수단이 제공된다.