公开(公告)号：KR101798911B1

公开(公告)日：2017-11-17

申请号：KR1020160068667

申请日：2016-06-02

Applicant: 한국항공대학교산학협력단

Inventor： 김태환 ,  김원태 ,  김병오 ,  김민상 ,  박용민

IPC: G06T5/00

Abstract: 선택적대기강도추정에기반한메디안다크채널프라이어기반의안개제거방법이개시되며, 선택적대기강도추정에기반한메디안다크채널프라이어기반의안개제거방법은, (a) 메디안다크채널연산에기초하여현재프레임에서의대기강도변화의발생여부를판단하는단계, (b) 상기대기강도변화가발생한것으로판단된경우에한하여, 상기현재프레임의원본안개영상에대한다크채널연산을수행하고, 상기다크채널연산결과를기반으로상기원본안개영상에대한대기강도를업데이트하는단계, (c) 상기메디안다크채널연산및 상기대기강도를기반으로전달량을추정하는단계및 (e) 상기추정된전달량을기반으로상기원본안개영상에서안개를제거한복원영상을생성하는단계를포함할수 있다.

Abstract translation: 公开了一种基于选择性大气强度估计的中值暗通道油炸锅除雾方法，以及基于选择性大气强度估计的中值暗通道油炸锅除雾方法，其包括：（a） （B）仅当确定已发生大气强度变化时才执行对当前帧的原始模糊图像的暗通道操作，并且基于暗通道操作的结果 （C）基于中值暗通道操作和大气强度估计传输量;以及（e）基于估计的传输量估计原始雾图像中的雾的量， 并通过去除重建图像来生成重建图像。

公开(公告)号：KR101784350B1

公开(公告)日：2017-10-11

申请号：KR1020160068703

申请日：2016-06-02

Applicant: 한국항공대학교산학협력단

Inventor： 김태환 ,  김원태 ,  김병오 ,  김민상 ,  박용민

IPC: G06T5/00 ,  G06T7/40

Abstract: 개선된메디안다크채널프라이어에기반한안개제거방법이개시되며, 개선된메디안다크채널프라이어에기반한안개제거방법은, 안개를포함하는안개영상에대한다크채널연산을수행하는단계, 상기다크채널연산결과를기반으로상기안개영상에대한대기강도를추정하는단계, 상기안개영상에대한메디안다크채널연산및 추정된상기대기강도를기반으로전달량을추정하는단계및 상기추정된전달량을기반으로상기안개영상에서안개를제거한복원영상을생성하는단계를포함하되, 상기전달량을추정하는단계에서상기메디안다크채널연산은, 메디안다크채널과 RGB 채널중 최소값인 RGB 최소값채널의차분영상값이제1 값및 상기제1 값보다작은제2 값사이인경우에대해서만선택적으로메디안다크채널을적용하여이루어질수 있다.

Abstract translation: 公开了一种基于改进的中位暗通道油炸锅的除雾方法，其中改进的中值暗通道油炸锅基雾消除方法包括对包括雾的雾图像执行暗通道操作， 估计雾图像的中值暗通道操作，基于估计的气囊强度估计透射量，并且基于估计的透射量估计雾图像中的雾的量， 其中执行中值暗通道计算，使得中值暗通道和RGB通道中最小值的RGB最小值通道的差值图像值为1，并且第一值 Lt是较小的第二值。

公开(公告)号：KR1020170019151A

公开(公告)日：2017-02-21

申请号：KR1020150113158

申请日：2015-08-11

Applicant: 한국항공대학교산학협력단

Inventor： 서종현 ,  김홍식 ,  김병오

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/306 ,  H01L21/3213

Abstract: 다중금속막식각방법이개시되며, 상기다중금속막식각방법은, 구리(Cu) 및구리합금중 하나이상을포함하는재질로이루어지는제1층및 티타늄(Ti) 및티타늄합금중 하나이상을포함하는재질로이루어지는제2층을포함하는다중금속막을식각하는방법에있어서, 상기다중금속막상에소정의패턴을갖는포토레지스트막을형성하는단계; 식각액을사용하여상기다중금속막을식각하는단계; 및상기포토레지스트막을제거하는단계를포함하되, 상기다중금속막을식각하는단계에서, 상기식각액은그의총 중량에대하여, 인산 15 중량% 내지 70 중량%; 초산 4 중량% 내지 40 중량%; 과망간산염 0.1 중량% 내지 10 중량%; 및불소-함유화합물 0.5 중량% 내지 8 중량%를포함한다.

公开(公告)号：KR101796587B1

公开(公告)日：2017-11-10

申请号：KR1020150113158

申请日：2015-08-11

Applicant: 한국항공대학교산학협력단

Inventor： 서종현 ,  김홍식 ,  김병오

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/306 ,  H01L21/3213

Abstract: 다중금속막식각방법이개시되며, 상기다중금속막식각방법은, 구리(Cu) 및구리합금중 하나이상을포함하는재질로이루어지는제1층및 티타늄(Ti) 및티타늄합금중 하나이상을포함하는재질로이루어지는제2층을포함하는다중금속막을식각하는방법에있어서, 상기다중금속막상에소정의패턴을갖는포토레지스트막을형성하는단계; 식각액을사용하여상기다중금속막을식각하는단계; 및상기포토레지스트막을제거하는단계를포함하되, 상기다중금속막을식각하는단계에서, 상기식각액은그의총 중량에대하여, 인산 15 중량% 내지 70 중량%; 초산 4 중량% 내지 40 중량%; 과망간산염 0.1 중량% 내지 10 중량%; 및불소-함유화합물 0.5 중량% 내지 8 중량%를포함한다.

Abstract translation: 公开了一种多金属膜刻蚀工艺，其中多金属膜刻蚀工艺包括第一层材料，该第一层材料包括铜（Cu）和铜合金中的至少一种以及钛（Ti）和钛合金中的至少一种 一种用于蚀刻多金属膜的方法，所述多金属膜包括由材料制成的第二层，所述方法包括：在所述多金属膜上形成具有预定图案的光致抗蚀剂膜; 使用蚀刻剂蚀刻多金属膜; 去除光刻胶膜，其中在蚀刻多金属膜的步骤中，蚀刻剂包括基于其总重量的15重量％至70重量％的磷酸; 从4％至40％重量的乙酸; 0.1重量％至10重量％的高锰酸盐; 并且含有0.5重量％至8重量％的含氟化合物。