리튬과 13 족 금속의 알킬산알킬헤테로금속 화합물을 사용한 리튬과 13 족 금속의 복합 산화물의 제조방법
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:KR100266965B1

    公开(公告)日:2000-09-15

    申请号:KR1019970065147

    申请日:1997-12-02

    CPC classification number: C23C16/40

    Abstract: PURPOSE: A method for preparing a composite oxide of lithium and 13th group metal is provided which economically and simply provides LiMO2 type composite oxide film under low pressure. CONSTITUTION: The LiMO2 type composite oxide film of lithium and 13th group metal is prepared by contacting a vapor state alkylic acid alkyl hetero metal compound of lithium and 13th group metal represented by the following formula (I): LiOR'·(R'O)MR2 with a substrate. In the formula (I), M is aluminum or gallium, and each R and R' is a C1-10 alkyl group.

    Abstract translation: 目的:提供一种制备锂和第13族金属的复合氧化物的方法,其经济地且简单地在低压下提供LiMO 2型复合氧化物膜。 构成:锂和第13族金属的LiMO2型复合氧化物膜是通过将由下式(I)表示的锂和第13族金属的气态烷基烷基异金属化合物与LiOR'·(R'O) MR2与底物。 在式(I)中,M是铝或镓,R和R'各自为C 1-10烷基。

    티-부틸산티탄을 이용한 이산화티탄의 증착 방법
    3.
    发明授权
    티-부틸산티탄을 이용한 이산화티탄의 증착 방법 失效
    使用十二烷基硫酸钠沉淀碳酸钙

    公开(公告)号:KR100250598B1

    公开(公告)日:2000-04-01

    申请号:KR1019970031003

    申请日:1997-07-04

    Abstract: PURPOSE: A method is provided to deposit titanium dioxide using tertiary-butyric acid titanium. CONSTITUTION: The method comprises the process of contacting a gas produced by vaporizing tertiary-butyric acid titanium with a substrate which is maintained at a temperature ranging from 250 to 400 deg.C so that a titanium dioxide film is formed on the substrate by the thermo-chemical deposition.

    Abstract translation: 目的:提供使用叔丁酸钛沉积二氧化钛的方法。 方案:该方法包括将叔丁酸钛汽化产生的气体与保持在250-400℃范围内的基质接触的方法,以便通过热量在基底上形成二氧化钛膜 化学沉积。

    알킬알루미늄알킬산마그네슘과 그 제조 방법 및이를이용한알루민산마그네슘의합성
    6.
    发明公开
    알킬알루미늄알킬산마그네슘과 그 제조 방법 및이를이용한알루민산마그네슘의합성 失效
    烷基铝烷基酸镁及其制备及其合成铝酸镁的研究

    公开(公告)号:KR1019970061903A

    公开(公告)日:1997-09-12

    申请号:KR1019960003367

    申请日:1996-02-12

    Inventor: 고원용 구수진

    Abstract: 본원 발명은 일반식 Mg〔(R
    1
    2 Al(OR
    2 )
    2 〕
    2 로 표현되는 알킬알루미늄알킬산마그네슘과 그의 제조 방법 및 이를 원료로 사용하여 알루민산마그네슘 막을 형성하는 방법에 대한 것이다. 알킬알루미늄알킬산마그네슘은 증기압이 높아 낮은 압력과 상온 정도의 온도에서 용이하게 기체 상태로 운반할 수 있으므로 화학증착법으로 반도체 기질 등에 알루민산마그네슘막을 형성시키기에 적합하다.

    알킬알루미늄알킬산마그네슘과 그 제조 방법 및이를이용한알루민산마그네슘의합성
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:KR100186949B1

    公开(公告)日:1999-05-15

    申请号:KR1019960003367

    申请日:1996-02-12

    Inventor: 고원용 구수진

    CPC classification number: C23C16/403 C07F5/06

    Abstract: 본원 발명은 일반식 Mg[R
    1
    2 Al(OR
    2 )
    2 ]
    2 로 표현되는 알킬알루미늄알킬산마그네슘과 그의 제조 방법 및 이를 원료로 사용하여 알루민산마그네슘 막을 형성하는 방법에 대한 것이다. 알킬알루미늄알킬산마그네슘은 증기압이 높아 낮은 압력과 상온 정도의 온도에서 용이하게 기체 상태로 운반알 수 있으므로 화학증착법으로 반도체 기질 등에 알루민산마그네슘막을 형성시키기에 적합하다.

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