단원자 증착법을 이용한 복합 및 비대칭적인 복합박막 및 이의 제조방법
    2.
    发明申请
    단원자 증착법을 이용한 복합 및 비대칭적인 복합박막 및 이의 제조방법 审中-公开
    复合和不对称复合薄膜及其使用原子沉积法制备其的方法

    公开(公告)号:WO2015060636A1

    公开(公告)日:2015-04-30

    申请号:PCT/KR2014/009938

    申请日:2014-10-22

    CPC classification number: C23C16/40 C23C16/45525

    Abstract: 본 발명은 단원자 증착(atomic layer deposition, ALD)법을 이용하여, 도핑영역층과 비도핑영역층을 구비하여 두께 방향으로 성분상에 있어서 복합 및 비대칭적인 복합박막 및 이를 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 복합박막은 박막 일부에 도판트 원자층을 포함하는 도핑영역층을 구비함으로써, 박막 두께 방향으로 성분상에 있어서 복합 및 비대칭적 특성을 갖게 되고, 이는 도핑영역층과 비도핑영역층간의 밴드 구조가 달라지게 됨으로써 박막의 층 영역별로 전자기적 특성이 달라지게 되고, 기능성이 향상되어 디스플레이, 메모리, 반도체 영역 전반에 걸쳐서 사용될 수 있다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种复合薄膜,其通过原子层沉积(ALD)设置有掺杂区域层和非掺杂区域层,因此在厚度方向上的分量方面是复杂的和不对称的,并且 一种制备方法。 根据本发明的复合薄膜在薄膜的一个区域上具有包括掺杂剂原子层的掺杂区域层,从而在薄膜的厚度方向上的成分方面具有复杂且不对称的性质, 并且允许掺杂区域层和非掺杂区域层具有不同的带结构,从而对薄膜的每个层区域具有不同的电磁特性。 因此,复合薄膜具有改进的功能,可用于显示器,存储器和半导体的所有领域。

    아연주석산화물 박막의 제조방법
    6.
    发明申请
    아연주석산화물 박막의 제조방법 审中-公开
    制备氧化锌薄膜的方法

    公开(公告)号:WO2013118937A1

    公开(公告)日:2013-08-15

    申请号:PCT/KR2012/002054

    申请日:2012-03-22

    CPC classification number: H01L21/02554 H01L21/02565 H01L21/0262 H01L29/7869

    Abstract: 본 발명은 아연 및 주석 전구체를 사용하여 화학 기상 증착법(chemcal vapor deposition, CVD) 또는 원자층 증착법(atomic layer deposition, ALD)으로 아연주석 산화물 박막을 형성하는 방법 및 이를 이용한 TFT(thin film transistors) 소자 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 아연주석 산화물 박막의 제조방법은 주석과 아연의 조성제어가 가능하며, 낮은 온도에서 공정이 가능하며, 삼차원 구조의 기재 상에서도 두께가 균일한 박막을 제조할 수 있고 제조된 주석 산화물은 높은 전계 효과 이동도(field effect mobility)를 가지고 있어 TFTs의 채널재료로 적용할 수 있다.

    Abstract translation: 本发明涉及通过化学气相沉积(CVD)或原子层沉积(ALD)形成使用锌和锡前体的氧化锌锡薄膜的方法,以及制造薄膜晶体管(TFT)的方法, 元素使用该方法。 根据本发明的制造锌锡氧化物薄膜的方法能够在低温下控制和加工锡锌组合物。 根据本发明的方法,可以制造具有均匀厚度的薄膜,即使在具有三维结构的基底上。 这样制造的氧化锡具有高的场效应迁移率,并且可以用作TFT通道的材料。

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