균일하게 분산된 다이메틸실록산을 포함하는폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체의 제조방법
    1.
    发明公开
    균일하게 분산된 다이메틸실록산을 포함하는폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체의 제조방법 失效
    生产含有均匀二甲基硅氧烷的聚异丁烯共聚物的方法

    公开(公告)号:KR1020020009018A

    公开(公告)日:2002-02-01

    申请号:KR1020000042165

    申请日:2000-07-22

    Abstract: PURPOSE: Provided is a polymethylsilsesquioxane(PMSSQ) copolymer containing uniformly dispersed dimethylsiloxane, which is excellent in heat-resistance and flexibility and used as a base material of an insulating film in terms for a semiconductor. CONSTITUTION: The PMSSQ copolymer is produced by a process comprising the steps of: preparing a ligand-exchanged alkoxysilane compound by heat-treating a mixture solution comprising methyltrialkoxy silane and dimethyl dialkoxy silane in the molar ratio of 0.95:0.05-0.70:0.30 at a temperature of 70-150deg.C; sol-gel reacting the ligand exchanged alkoxysilane compound in an organic solvent comprising tetrahydrofuran and toluene at 0-60deg.C by using water and an acid; and adding ammonia water solution to the solution to neutralize the solution. The each unit of the dimethylsiloxane is dispersion-bonded to the skeleton of methylsiloxane.

    Abstract translation: 目的:提供含有均匀分散的二甲基硅氧烷的聚甲基倍半硅氧烷(PMSSQ)共聚物,其耐热性和柔韧性优异,并用作半导体用绝缘膜的基材。 构成:PMSSQ共聚物通过包括以下步骤的方法生产:包括以下步骤制备配体交换的烷氧基硅烷化合物:通过热处理包含甲基三烷氧基硅烷和二甲基二烷氧基硅烷的混合溶液,摩尔比为0.95:0.05-0.70:0.30 温度70-150℃; 溶胶 - 凝胶使配合物交换的烷氧基硅烷化合物在含有四氢呋喃和甲苯的有机溶剂中在0-60℃下通过使用水和酸反应; 并向溶液中加入氨水溶液中和溶液。 二甲基硅氧烷的每个单元分散结合到甲基硅氧烷的骨架上。

    균일하게 분산된 다이메틸실록산을 포함하는폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체의 제조방법
    2.
    发明授权
    균일하게 분산된 다이메틸실록산을 포함하는폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체의 제조방법 失效
    生产均匀分散的二甲基硅氧烷的聚甲基倍半硅氧烷共聚物的方法

    公开(公告)号:KR100343552B1

    公开(公告)日:2002-07-20

    申请号:KR1020000042165

    申请日:2000-07-22

    Abstract: 본 발명은 균일하게 분산된 다이메틸실록산을 포함하는 폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 특정 몰비의 메틸트리알콕시실란과 다이메틸다이알콕시실란의 혼합용액을 열처리하여 리간드 교환 반응된 알콕시실란 화합물을 얻은 후, THF와 톨루엔의 혼합용매를 사용하여 졸-겔 반응시키고 암모니아수로 중화함으로써, 다이메틸실록산 분자 하나 하나가 메틸실록산 골격에 분자 수준으로 균일하게 분산된 새로운 폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체의 제조방법에 관한 것이다.
    본 발명의 방법으로 제조된 공중합체는 내열성이 매우 우수하고 메틸기의 함량증가로 유연성이 기대되어 SOG(Spin On Glass) 및 CMP(Chemical Mechanical Polishing) 공정을 거치는 매우 낮은 저 유전율 값을 요구하는 반도체의 층간 절연막 재료의 모재로서 사용될 수 있다.

    감마-부티로락톤으로부터 피롤리돈 유도체를 제조하는 방법
    3.
    发明公开
    감마-부티로락톤으로부터 피롤리돈 유도체를 제조하는 방법 有权
    从γ-丁内酯制造衍生自吡咯烷酮的方法

    公开(公告)号:KR1020010103946A

    公开(公告)日:2001-11-24

    申请号:KR1020000025259

    申请日:2000-05-12

    Abstract: 본 발명은 감마-부티로락톤, 아민유도체 및 물을 반응시켜 피롤리돈 유도체를 제조하는 방법에 있어서, 산성형 실리카-알루미나 크레이(acid clay) 촉매하에서 감마-부티로락톤, 메틸아민 및 물의 몰비가 1:1~7:1~25이고, 반응온도 250~400℃, 공간속도 700hr
    -1 ∼2000hr
    -1 , 반응압력 상~10기압인 조건에서 직접 기상촉매 반응시켜 N-메틸-2-피롤리돈을 제조하는 방법에 관한 것이다.
    본 발명의 방법은 감마-부티로락톤으로부터 피롤리돈 유도체를 제조함에 있어서, 온화한 반응 조건하에서 높은 선택율과 고수율로 피롤리돈 유도체를 제조할 수 있는 효과를 갖는다.

    감마-부티로락톤으로부터 피롤리돈 유도체를 제조하는 방법
    4.
    发明授权
    감마-부티로락톤으로부터 피롤리돈 유도체를 제조하는 방법 有权
    在酸性粘土催化剂存在下由γ-丁内酯制造吡咯烷酮衍生物

    公开(公告)号:KR100377504B1

    公开(公告)日:2003-03-26

    申请号:KR1020000025259

    申请日:2000-05-12

    Abstract: 본 발명은 감마-부티로락톤, 아민유도체 및 물을 반응시켜 피롤리돈 유도체를 제조하는 방법에 있어서, 산성형 실리카-알루미나 크레이(acid clay) 촉매하에서 감마-부티로락톤, 메틸아민 및 물의 몰비가 1:1~7:1~25이고, 반응온도 250~400℃, 공간속도 700hr
    -1 ∼2000hr
    -1 , 반응압력 상압~10기압인 조건에서 직접 기상촉매 반응시켜 N-메틸-2-피롤리돈을 제조하는 방법에 관한 것이다.
    본 발명의 방법은 감마-부티로락톤으로부터 피롤리돈 유도체를 제조함에 있어서, 온화한 반응 조건하에서 높은 선택율과 고수율로 피롤리돈 유도체를 제조할 수 있는 효과를 갖는다.

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