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公开(公告)号：KR20210028916A
公开(公告)日：2021-03-15
申请号：KR1020190110057A
申请日：2019-09-05
Applicant: 한양대학교 산학협력단
CPC classification number: H01J37/32174 , H01J37/32532 , H01J37/32715 , H01L21/67017
Abstract: 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 챔버; 상기 챔버의 내측에 위치되어, 공정이 이루어질 기판을 지지하는 서셉터; 설정 면적을 가지고, 상기 챔버의 내부의 상부 영역에 위치되는 전극판; 플라즈마 발생을 위한 전력을 제공하고, 상기 서셉터에 연결되는 RF 전원; 및 상기 RF 전원이 상기 서셉터에 연결되는 도선에서 분기되어 접지되는 분기 도선상에 위치되는 플라즈마 제어 부재를 포함한다.
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2.发明申请
公开(公告)号：WO2023038468A1
公开(公告)日：2023-03-16
申请号：PCT/KR2022/013550
申请日：2022-09-08
Applicant: 한양대학교 산학협력단
Abstract: 일 실시예에 따른 비대칭 면적을 가지는 이중 프로브를 포함하는 플라즈마 상태 변수 측정 장치는 제1프로브 및 제2프로브, 상기 제1프로브 및 상기 제2프로브에 미리 설정된 전압을 인가하는 전압 인가부, 상기 제1프로브 및 상기 제2프로브에 흐르는 전류를 측정하는 전류 측정부 및 상기 전류 측정부가 측정한 결과에 기초하여 상기 챔버 내부의 플라즈마의 전자 온도 및 밀도를 계산하는 플라즈마 분석부를 포함하고, 상기 제1프로브의 면적과 상기 제2프로브의 면적은 서로 다른 크기의 면적을 가질 수 있다.
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公开(公告)号：WO2013172665A1
公开(公告)日：2013-11-21
申请号：PCT/KR2013/004333
申请日：2013-05-16
Applicant: 한양대학교 산학협력단 , 정진욱 , 방진영 , 이희진
CPC classification number: H01J37/3211 , H01F38/14 , H01J37/32183 , H01J2237/327 , H05H1/46 , H05H2001/4667
Abstract: 본 발명은, RF 전력을 공급하는 전원부; 플라즈마가 발생되며, 플라즈마에 의해 처리되는 피처리물이 제공되는 챔버; 상기 챔버의 상면에 제공되며, 상기 전원부에 연결되어 RF 전력을 전달 받는 안테나 코일; 및 상기 안테나 코일과 전기적으로 절연되거나 단절되도록 제공되는 공진 코일;을 포함하며, 상기 공진 코일은 상기 안테나 코일로부터 전자기 에너지를 인가 받아 전류가 흐르고 상기 챔버 내에 플라즈마를 생성하는, 플라즈마 장비를 제공한다. 본 발명은 공진 코일의 설치 위치에 대한 자유도를 높일 수 있으며 플라즈마 밀도 또한 증가시킬 수 있다.
Abstract translation: 本发明提供了一种等离子体设备，包括：用于提供RF功率的电源单元; 产生等离子体的室，并具有待通过等离子体处理的物品; 设置在室的上表面上的天线线圈连接到电源单元，并接收发射的RF功率; 以及设置成与天线线圈电连接或断开的共振线圈。 这里，谐振线圈接收从天线线圈施加的电磁能，使得电流流动并且在腔室内产生等离子体。 本发明使得可以增加谐振线圈的定位自由度，并且还可以增加等离子体密度。
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公开(公告)号：WO2020251148A1
公开(公告)日：2020-12-17
申请号：PCT/KR2020/004441
申请日：2020-04-01
Applicant: 한양대학교 산학협력단
IPC: H01J37/32 , H01L21/67 , H01L21/02 , C23C16/455
Abstract: 본 발명은 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 챔버; 상기 챔버의 내측에 위치되어, 공정이 이루어질 기판을 지지하는 서셉터; 상기 챔버의 내측의 공간의 상부 영역에 위치되는 제1 플라즈마 조절 플레이트; 상기 제1 플라즈마 조절 플레이트와 설정 간격 이격되어, 상기 제1 플라즈마 조절 플레이트의 아래쪽에 위치되는 제2 플라즈마 조절 플레이트; 및 상기 제1 플라즈마 조절 플레이트 및 상기 제2 플라즈마 조절 플레이트에 연결되는 플라즈마 제어 전원을 포함한다.
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公开(公告)号：WO2019164121A1
公开(公告)日：2019-08-29
申请号：PCT/KR2019/000215
申请日：2019-01-07
Applicant: 한양대학교 산학협력단
Abstract: 플라즈마 측정 장치가 개시된다. 플라즈마 측정 장치는 내부에 플라즈마 발생 공간이 제공되며, 상기 플라즈마 발생 공간을 에워싸는 내벽이 제1영역과, 상기 제1영역과 전기적으로 절연된 제2영역을 갖는 반응기; 및 상기 제1영역 및 상기 제2영역과 전기적으로 연결되며, 상기 제1영역과 상기 제2영역에 전압 신호를 인가하고 그에 대한 응답 전류 신호를 측정하여 상기 제1영역 및 상기 제2영역과 접촉되는 플라즈마의 상태를 계측하는 플라즈마 계측부를 포함할 수 있다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：WO2013141533A1
公开(公告)日：2013-09-26
申请号：PCT/KR2013/002161
申请日：2013-03-18
Applicant: 한양대학교 산학협력단 , 정진욱 , 방진영
CPC classification number: H02J5/005 , H01F38/14 , H02J7/025 , H02J50/12 , H04B5/0037 , H04B5/0075
Abstract: 본 발명은 접지된 상태로 제공되는 일단 및 공중에 부유한 상태로 제공되는 타단을 구비한 적어도 하나의 헬리컬 또는 스파이럴 형태 코일을 포함하고, 상기 코일은 공진에 의해서 전력을 무선으로 송신하는 것을 특징으로 하는 무선전력 전송용 송신기 및 이를 구비한 무선전력 전송시스템을 제공한다. 본 발명은 자기 공진을 이용한 기존의 무선전력전송방식 보다 간단한 구조와 낮은 주파수로 동작이 가능하여 전력전달 효율이 증가되며 시스템 구축 비용을 절감할 수 있고, 다채널의 송신부를 용이하게 구현할 수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于发送无线电力的发射机，以及涉及包括其的无线电力传输系统，该无线电力传输系统包括至少一个螺旋或螺旋型线圈，其一端设置在接地状态，另一端设置为浮动 空气，其中线圈由于共振而无线地传输电力。 本发明可以以比使用磁共振的现有无线电力传输方案更简单的结构和更低的频率工作。 因此，功率传递效率提高，可以降低系统构造成本，并且可以容易地实现多通道发送单元。
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公开(公告)号：KR102108640B1
公开(公告)日：2020-05-07
申请号：KR1020180123527
申请日：2018-10-17
Applicant: 한양대학교 산학협력단
IPC: H01J37/32 , H01L21/67 , H01L21/683
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公开(公告)号：KR102053720B1
公开(公告)日：2019-12-09
申请号：KR1020130025384
申请日：2013-03-11
Applicant: 삼성전자주식회사 , 한양대학교 산학협력단
IPC: H05H1/00 , H01L21/205 , H01L21/3065
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公开(公告)号：KR101477676B1
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：KR1020130034081
申请日：2013-03-29
Applicant: 한양대학교 산학협력단
Abstract: 본발명은플라즈마의라디칼제어장치및 제어방법에관한것으로, 챔버, 상기챔버내부에플라즈마를형성시키는플라즈마발생부및 상기챔버내부에형성된플라즈마내의전자온도를변화시키는라디칼제어부를포함할수 있다. 이와같이구성함으로써플라즈마의밀도는변화시키지않고라디칼만독립적으로제어할수 있다.
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公开(公告)号：KR1020140119341A
公开(公告)日：2014-10-10
申请号：KR1020130034081
申请日：2013-03-29
Applicant: 한양대학교 산학협력단
CPC classification number: H01J37/32137 , H01J37/32091 , H01J37/321 , H01J37/32128 , H05H1/46 , H05H2001/4652 , H05H2001/4675
Abstract: The present invention relates to an apparatus and a method to control plasma radicals. According to the present invention, the apparatus to control plasma radicals includes: a chamber, a plasma generating unit which forms the plasma in the chamber, and a radical control unit which changes the electronic temperature of the plasma formed in the chamber. According to this configuration, the radical is independently controlled without changing the plasma density.
Abstract translation: 本发明涉及一种控制等离子体激元的装置和方法。 根据本发明，用于控制等离子体自由基的装置包括：腔室，在腔室中形成等离子体的等离子体产生单元和改变腔室中形成的等离子体的电子温度的自由基控制单元。 根据该结构，在不改变等离子体密度的情况下独立地控制自由基。
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