Abstract:
본 발명은 잉크젯 프린팅 공정을 이용한 염료감응 태양전지의 전극 제조방법 및 이에 따른 전극을 가지는 염료감응 태양전지에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 잉크젯 프린팅 공정을 이용하여 보다 얇은 두께의 금속전극을 형성하고 이 금속전극을 보호할 수 있는 투명 전도성 막을 코팅한 염료감응 태양전지 모듈의 전극을 제조하는 방법에 관한 것이다. 이를 위해 본 발명은 투명기판 혹은 전도성 막의 코팅 성능 향상을 위한 베리어 막을 증착시킨 투명기판 위에 나노 금속 분말을 함유한 잉크용액을 젯팅하여 금속전극을 형성하는 단계; 상기 금속전극을 형성한 투명기판 위에 금속전극을 액상 전해질로부터 보호할 수 있는 투명 전도성 막을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 잉크젯 프린팅 공정을 이용한 염료감응 태양전지의 전극 제조방법을 제공한다.
Abstract:
PURPOSE: A method for manufacturing an electrode of a dye-sensitized solar cell and the dye-sensitized solar cell including the electrode manufactured by the same are provided to form a thin metal electrode on a transparent substrate by using an inkjet printing process. CONSTITUTION: A barrier layer is deposited on a transparent substrate to improve coating performance of a transparent conductive layer. A metal electrode is formed by spraying ink solutions with nano metal powder on the transparent substrate. A transparent conductive layer is formed on the transparent substrate with the metal electrode. The transparent conductive layer protects the metal electrode from an electrolyte. The metal electrode has a width of 50 to 300 um and a thickness of 500 to 600 nm.
Abstract:
본 발명은 「(a) 유연 기판이 일측면으로 들어가 코팅공정 후 타측면으로 나오도록 구성된 코팅챔버를 준비하는 단계; (b) 유연 기판을 상기 코팅챔버 내부로 이송하고, 상기 유연 기판의 상·하면이 공간에 노출되도록 하는 단계; (c) 상기 유연 기판을 고정하되, 공정 진행 방향 기준으로 상기 유연 기판의 전방과 후방 가장자리를 고정하는 단계; 및 (d) 투명전도막 프리커서를 상기 유연 기판의 상·하면과 평행을 이루면서 공정 진행 방향과는 수직을 이루는 방향으로 흘려주어 상기 유연 기판에 증착시키는 단계;를 포함하여 구성된 유연 기판 투명전도막 양면 코팅 방법」을 제공한다.
Abstract:
The present invention relates to a metal wiring technique for enabling a large-sized process and reducing process costs compared to an existing technique by using basic paste. The present invention is to provide an alkali metal patterning method using basic paste that includes a step (a) of manufacturing basic paste by mixing a thickener with a basic solution including alkali metal; and a step (b) of adsorbing the alkali metal to a substrate by patterning the basic paste to the substrate made of a basic reaction resin.
Abstract:
The present invention relates to a metal wiring method for a substrate which is coated with a transparent conductive layer, capable of selectively forming a metal wire on the substrate which is exposed by cutting the transparent conductive layer which is coated on the upper part of the substrate in a laser scribing method. The present invention provides the method wiring method for the substrate which is coated with the transparent conductive layer including (a) a step of preparing the substrate which is coated with the transparent conductive layer, (b) a step of exposing the substrate by cutting the transparent conductive layer as necessary through a laser scribing, and (c) a step of forming the metal wire on the exposed substrate. [Reference numerals] (AA) Polymer protection film; (BB) Laser etching; (CC) Copper line; (DD) Remove polymer
Abstract:
PURPOSE: A method for depositing a thin film of a transparent conductive substrate and a hard board is provided to reduce manufacturing time by forming a thin film on both sides of the hard board and a flexible substrate in one process chamber. CONSTITUTION: A film is supplied from a first roll and is wound around a second roll. A raw material feeding and exhausting nozzle is installed in a direction of 90 degrees of the same plane as the first roll and the second roll. Raw materials are supplied in the direction of 90 degrees of the plane in a progressive direction of the substrate. A line connected to the center of the feeding and exhausting nozzle coincides with the location of a surface with the substrate. Both sides of the transparent hard board and the flexible substrate are coated with ceramic by uniformly supplying raw gas. [Reference numerals] (AA) Supplying mist; (BB) Cooling unit; (CC) Coating unit; (DD) Preheating unit; (EE) Product roll; (FF) Exhaust; (GG) Substrate roll; (HH) Progressive direction of a substrate
Abstract:
이중막 구조의 FTO제조방법에 관한 것이으로, 상기 방법은 기판을 400-500도로 가열하고; 상기 가열된 기판 위로 Sn이 함유된 전구체를 분사하여 평판형 FTO를 제조하고; 상기 평판형 FTO막을 500-550도 이상으로 가열하고; 상기 가열된 FTO 기판위로 Sn이 함유된 전구체를 분사하여 FTO 나노막대층을 형성하는 단계를 포함하여 구성된다. 본원발명은 하부에 다결정 FTO 막이 형성되고, 상기 다결정 FTO 막 위에는 나노막대형 FTO 층이 성장형성되는 것을 특징으로 한다.
Abstract:
PURPOSE: An FTO functional film having a nano structure is provided to accomplish a high haze optical property by forming a complete nano structure in which FTO single crystal particles are perpendicularly grown up on a substrate. CONSTITUTION: FTO single crystal particles are perpendicularly grown up at the upper part of a substrate. A nano structure in which aspect ratio is more than two is formed. A base material of the FTO nano structure is one among ceramics, glass, heat-resistant plastic, and metal. Metal conducting mesh is formed at the upper part of the base material. An additional coating process is executed on the upper side of the FTO nano structure in order to improve a property of matter.
Abstract:
본 발명은 염기성 페이스트를 이용함으로써 종래의 기술에 비해 공정단가를 낮추고 대면적 공정이 가능하게 되는 금속 배선 기술에 관한 것이다. 본 발명은 「(a) 알칼리 금속을 함유한 염기성 용액에 증점제를 혼합하여 염기성 페이스트를 제조하는 단계; 및 (b) 염기성 반응성 수지로 제작된 기판에 상기 염기성 페이스트를 패터닝하여 알칼리 금속을 상기 기판에 흡착시키는 단계; 를 포함하는 염기성 페이스트를 이용한 알칼리 금속 패터닝 방법」을 제공한다.
Abstract:
탄소나노튜브를 포함하는 저저항 고투과율 플렉서블 FTO 투명 전도막 제조방법은, 내열성 폴리머 필름기재위에 기능성층으로써 탄소나노튜브 복합물질층을 코팅하는 단계; 탄소나노튜브를 포함한 폴리머 필름에 금속 산화막을 코팅하는 단계; 및 상기 탄소나노튜브 복합물질층위에 FTO 투명전도막을 형성하는 단계를 포함하여 구성되고, 상기 탄소나노튜브 복합물질층의 코팅이 스프레이코팅법, 스핀 코팅법, 닥터 블레이등의 캐스팅법, 그라비아코팅, 롤투롤코팅법 중 하나로 이루어지고, 상기 탄소나노튜브와 알칼리 가용성 고분자 및 광중합성 화합물 총중량의 비는 고형분 함량 기준으로 1:10 내지 1:1,000 중량비로 포함되는 탄소나노튜브를 포함하는 것을 특징으로 한다.