公开(公告)号：WO2015179425A9

公开(公告)日：2016-05-06

申请号：PCT/US2015031614

申请日：2015-05-19

Applicant: ALPHA METALS

Inventor： PROKOPIAK STEVEN ,  TORMEY ELLEN S ,  KHASELEV OSCAR ,  MARCZI MICHAEL T ,  SINGH BAWA

IPC: C09K13/00

CPC classification number: C23F1/16 ,  C23F1/02 ,  H01L21/32134 ,  H01L31/02168 ,  H01L31/022425 ,  H01L31/022441 ,  H01L31/02363 ,  H01L31/18 ,  H01L31/1804 ,  Y02E10/50

Abstract: A jettable etchant composition includes 1 to 90 wt% active ingredient, and a remainder containing any combination of the following: 10 to 90 wt% solvent, 0 to 10 wt% reducing agents,

Abstract translation: 可喷射蚀刻剂组合物包含1至90重量％的活性成分，余量包含以下任何组合：10至90重量％的溶剂，0至10重量％的还原剂，1至20重量％的酸洗剂，0至5 wt％表面活性剂和0-5wt％消泡剂。 该组合物还可以包括含有至少一种元素的可溶性化合物，当溶解时，具有比被蚀刻金属更高的标准电极电位或含有IA族元素的可溶性化合物和可溶性铂族金属。 油墨组合物可以在溶剂体系中包括VA化合物或IIIA族化合物，配制成在约5至约10微摩尔的液滴体积的表面上可喷射，并获得小于约20Ω/ 激活后表面的α。

公开(公告)号：WO2015179425A3

公开(公告)日：2016-03-17

申请号：PCT/US2015031614

申请日：2015-05-19

Applicant: ALPHA METALS

Inventor： PROKOPIAK STEVEN ,  TORMEY ELLEN S ,  KHASELEV OSCAR ,  MARCZI MICHAEL T ,  SINGH BAWA

IPC: C09K13/00

CPC classification number: C23F1/16 ,  C23F1/02 ,  H01L21/32134 ,  H01L31/02168 ,  H01L31/022425 ,  H01L31/022441 ,  H01L31/02363 ,  H01L31/18 ,  H01L31/1804 ,  Y02E10/50

Abstract: A jettable etchant composition includes 1 to 90 wt% active ingredient, and a remainder containing any combination of the following: 10 to 90 wt% solvent, 0 to 10 wt% reducing agents,

Abstract translation: 可喷射的蚀刻剂组合物包含1至90重量％的活性成分，其余部分包含以下物质的任意组合：10至90重量％溶剂，0至10重量％还原剂，<1至20重量％酸洗剂，0至5 wt％表面活性剂和0-5wt％消泡剂。 所述组合物还可以包含含有至少一种元素的可溶性化合物，所述元素在溶解时具有比要蚀刻的金属或含有IA族元素的可溶性化合物和可溶性铂族金属更高的标准电极电位。 油墨组合物可以在溶剂体系中包含VA族化合物或IIIA族化合物，所述溶剂体系被配制成以约5至约10皮升的液滴体积喷射在表面上并且实现小于约20Ω/ 激活时表面的α。

公开(公告)号：EP3146015A4

公开(公告)日：2018-05-16

申请号：EP15796809

申请日：2015-05-19

Applicant: ALPHA METALS

Inventor： PROKOPIAK STEVEN ,  TORMEY ELLEN S ,  KHASELEV OSCAR ,  MARCZI MICHAEL T ,  SINGH BAWA

IPC: C09K13/00 ,  C23F1/02 ,  C23F1/16 ,  C23F1/20 ,  C23F1/30 ,  H01L21/3213 ,  H01L31/0224 ,  H01L31/18

CPC classification number: C23F1/16 ,  C23F1/02 ,  H01L21/32134 ,  H01L31/02168 ,  H01L31/022425 ,  H01L31/022441 ,  H01L31/02363 ,  H01L31/18 ,  H01L31/1804 ,  Y02E10/547 ,  Y02P70/521

Abstract: A jettable etchant composition includes 1 to 90 wt % active ingredient, and a remainder containing any combination of the following: 10 to 90 wt % solvent, 0 to 10 wt % reducing agents,