APPARATUS AND METHOD FOR VACUUM DEPOSITION

    公开(公告)号:FI3523456T3

    公开(公告)日:2024-05-15

    申请号:FI17752165

    申请日:2017-07-27

    Applicant: ARCELORMITTAL

    Abstract: A vacuum deposition facility is provided for continuously depositing on a running substrate coatings formed from metal alloys including a main element and at least one additional element. The facility includes a vacuum deposition chamber and a substrate running through the chamber. The facility also includes a vapor jet coater, an evaporation crucible for feeding the vapor jet coater with a vapor having the main element and the at least one additional element, a recharging furnace for feeding the evaporation crucible with the main element in molten state and maintaining a constant level of liquid in the evaporation crucible, and a feeding unit being fed with the at least one additional element in solid state for feeding the evaporation crucible with the at least one additional element either in molten state, in solid state or partially in solid state. A process is also provided.

    ПРИСТРІЙ ДЛЯ ВАКУУМНОГО НАНЕСЕННЯ ПОКРИТТЯ І СПОСІБ НАНЕСЕННЯ ПОКРИТТЯ НА ПІДКЛАДКУ

    公开(公告)号:UA125983C2

    公开(公告)日:2022-07-20

    申请号:UAA202004223

    申请日:2018-12-11

    Applicant: ARCELORMITTAL

    Abstract: Винахідстосуєтьсяпристроюдлявакуумногобезперервногонанесеннянарухомупідкладкупокриттів, утворенихз металуабометалевогосплаву, якиймістить: центральнийкорпус, забезпеченийпристроємдлянанесенняпокриттяструменемпари, прицьомувнутрішністінкицентральногокорпусупристосованідлянагріванняпритемпературівищетемпературиконденсаціїпарівметалуабометалевогосплаву; паровіддільник, розміщенийнавихідномуотворідляпідкладкицентральногокорпусу, прицьомувнутрішністінкипаровіддільникапристосованіпідтримуватисяпритемпературінижчетемпературиконденсаціїпарівметалуабометалевогосплаву; прицьомуканал, якийз'єднуєцентральнийкорпусз паровіддільником, забезпеченийщонайменшеоднимтепловимз'єднувачем, якийпроходитьщонайменшевідвнутрішніхстінокцентральногокорпусудовнутрішніхстінокпаровіддільника.

    Vacuum deposition facility and method for coating a substrate

    公开(公告)号:AU2018385555B2

    公开(公告)日:2021-03-04

    申请号:AU2018385555

    申请日:2018-12-11

    Applicant: ARCELORMITTAL

    Abstract: The invention relates to a vacuum deposition facility for continuously depositing, on a running substrate, coatings formed from metal or metal alloy, and comprising: - a central casing comprising a vapor jet coater, the inner walls of the central casing being suited to be heated at a temperature above the condensation temperature of the metal or metal alloy vapors, - a vapor trap located at the substrate exit of the central casing, the inner walls of the vapor trap being suited to be maintained at a temperature below the condensation temperature of the metal or metal alloy vapors, the passage linking the central casing to the vapor trap comprising at least one thermal connector extending at least from the inner walls of the central casing to the inner walls of the vapor trap.

    Apparatus and method for vacuum deposition

    公开(公告)号:AU2017303961B2

    公开(公告)日:2020-04-16

    申请号:AU2017303961

    申请日:2017-07-27

    Applicant: ARCELORMITTAL

    Abstract: The invention relates to a vacuum deposition facility (1) for continuously depositing, on a running substrate, coatings formed from metal alloys comprising a main element and at least one additional element, the facility comprising a vacuum deposition chamber (2) and a means for running the substrate (5) through the chamber, wherein the facility further comprises: • - a vapor jet coater (3), • - an evaporation crucible (4) suited to feed the vapor jet coater with a vapor comprising the main element and the at least one additional element, • - a recharging furnace (9) suited to feed the evaporation crucible with the main element in molten state and capable of maintaining a constant level of liquid in the evaporation crucible, • - a feeding unit (11) suited to be fed with the at least one additional element in solid state and suited to feed the evaporation crucible with the at least one additional element indifferently in molten state, in solid state or partially in solid state. The invention also relates to a process for continuously depositing, on a running substrate, coatings formed from metal alloys comprising a main element and at least one additional element.

    ПРИСТРІЙ ДЛЯ ВАКУУМНОГО НАНЕСЕННЯ ПОКРИТТЯ І СПОСІБ НАНЕСЕННЯ ПОКРИТТЯ НА ПІДКЛАДКУ

    公开(公告)号:UA125835C2

    公开(公告)日:2022-06-15

    申请号:UAA202004225

    申请日:2018-12-11

    Applicant: ARCELORMITTAL

    Abstract: Винахідналежитьдопристроюдлябезперервноговакуумногонанесеннянарухомупідкладкупокриттів, утворенихз металуабометалевогосплаву, якийміститьвакуумнукамеруі засобипереміщенняпідкладкичерезвакуумнукамерувздовжзаданогошляху, прицьомувакуумнакамера, додатково, містить: центральнийкорпус, якиймаєвхіднийотвірдляпідкладкиі вихіднийотвірдляпідкладки, розташованінадвохпротилежнихсторонахцентральногокорпусу, іпристрійдлянанесенняпокриттяструменемпару, прицьомувнутрішністінкицентральногокорпусупристосованідлянагріваннядотемпературивищетемпературиконденсаціїпарівметалуабометалевогосплаву; паровіддільнику виглядізовнішньогокорпусу, розміщеногонавихідномуотворідляпідкладкицентральногокорпусу, прицьомувнутрішністінкипаровіддільникапристосованіпідтримуватисяпритемпературінижчетемпературиконденсаціїпарівметалуабометалевогосплаву.

Patent Agency Ranking