진공 디포지션 설비 및 기재를 코팅하기 위한 방법

    公开(公告)号:KR20210008095A

    公开(公告)日:2021-01-20

    申请号:KR20207035855

    申请日:2019-06-11

    Applicant: ARCELORMITTAL

    Abstract: 본발명은금속또는금속합금으로부터형성된코팅들을주행하는기재 (S) 에서연속적으로디포짓팅하기위한진공디포지션설비 (1) 에관한것으로서, 상기진공디포지션설비는, - 금속또는금속합금증기를공급하는데 적합하고증기화파이프 (7) 를포함하는증기화도가니 (4), - 상기기재 (S) 를주어진경로 (P) 를따라통과하여주행하게하는데 적합한디포지션챔버 (2) 및 - 상기증기화파이프를상기디포지션챔버에링크연결하는증기제트코터 (3) 를포함하고, 상기증기제트코터는, - 재분할챔버 (31) 로서, 상기재분할챔버 (31) 는횡방향으로상기증기화파이프로부터그리고상기주어진경로의폭을가로질러연장되고상기재분할챔버내에위치설정된적어도하나의재가열수단 (33) 을포함하는, 상기재분할챔버 (31) 및, - 증기유출구오리피스 (32) 로서, 상기증기유출구오리피스 (32) 는상기증기유출구오리피스를상기재분할챔버에링크연결하는베이스개구 (9), 증기가상기디포지션챔버에진출할수 있는상단개구 (10) 및상기베이스개구를상기상단개구에링크연결하는두개의측들 (11, 12) 을포함하고, 상기증기유출구오리피스의측들은상기상단개구의방향으로서로를향해수렴하는, 상기증기유출구오리피스 (32) 를추가로포함한다.

    ПРИСТРІЙ ДЛЯ ВАКУУМНОГО НАНЕСЕННЯ ПОКРИТТЯ І СПОСІБ НАНЕСЕННЯ ПОКРИТТЯ НА ПІДКЛАДКУ

    公开(公告)号:UA125835C2

    公开(公告)日:2022-06-15

    申请号:UAA202004225

    申请日:2018-12-11

    Applicant: ARCELORMITTAL

    Abstract: Винахідналежитьдопристроюдлябезперервноговакуумногонанесеннянарухомупідкладкупокриттів, утворенихз металуабометалевогосплаву, якийміститьвакуумнукамеруі засобипереміщенняпідкладкичерезвакуумнукамерувздовжзаданогошляху, прицьомувакуумнакамера, додатково, містить: центральнийкорпус, якиймаєвхіднийотвірдляпідкладкиі вихіднийотвірдляпідкладки, розташованінадвохпротилежнихсторонахцентральногокорпусу, іпристрійдлянанесенняпокриттяструменемпару, прицьомувнутрішністінкицентральногокорпусупристосованідлянагріваннядотемпературивищетемпературиконденсаціїпарівметалуабометалевогосплаву; паровіддільнику виглядізовнішньогокорпусу, розміщеногонавихідномуотворідляпідкладкицентральногокорпусу, прицьомувнутрішністінкипаровіддільникапристосованіпідтримуватисяпритемпературінижчетемпературиконденсаціїпарівметалуабометалевогосплаву.

    VACUUM DEPOSITION FACILITY AND METHOD FOR COATING A SUBSTRATE

    公开(公告)号:CA3084328C

    公开(公告)日:2022-05-31

    申请号:CA3084328

    申请日:2018-12-11

    Applicant: ARCELORMITTAL

    Abstract: The invention relates to a vacuum deposition facility for continuously depositing, on a running substrate, coatings formed from metal or metal alloy, the facility comprising a vacuum chamber and a means for running the substrate through the vacuum chamber along a given path, wherein the vacuum chamber further comprises: - a central casing comprising a substrate entry and a substrate exit located on two opposite sides of the central casing and a vapor jet coater, the inner walls of the central casing being suited to be heated at a temperature above the condensation temperature of the metal or metal alloy vapors, - a vapor trap in the form of an external casing located at the substrate exit of the central casing, the inner walls of the vapor trap being suited to be maintained at a temperature below the condensation temperature of the metal or metal alloy vapors.

Patent Agency Ranking