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公开(公告)号:CN101552219B
公开(公告)日:2012-12-05
申请号:CN200910008024.0
申请日:2009-02-19
Applicant: ASM日本公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/68 , H01L21/00
CPC classification number: H01L21/68707 , H01L21/681 , Y10S414/135 , Y10S414/136
Abstract: 一种半导体处理设备包括:晶片传送室;晶片处理室;晶片传送装置;在晶片传送室内、晶片处理室前的一个位置设置的第一光电传感器,在所述位置,位于准备装载位置的晶片部分地阻挡由第一光电传感器接收的光,并且当晶片在X轴方向从所述准备装载位置朝向晶片处理室移动时,所述晶片基本完全地阻挡由第一光电传感器接收的光;以及在晶片传送室内、晶片处理室前的一个位置放置的第二光电传感器,在所述位置,位于准备装载位置的晶片不阻挡由第二光电传感器接收的光,并且当晶片在X轴方向从准备装载位置朝向晶片处理室移动时,所述晶片部分阻挡由第二光电传感器接收的光。
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公开(公告)号:CN101552219A
公开(公告)日:2009-10-07
申请号:CN200910008024.0
申请日:2009-02-19
Applicant: ASM日本公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/68 , H01L21/00
CPC classification number: H01L21/68707 , H01L21/681 , Y10S414/135 , Y10S414/136
Abstract: 一种半导体处理设备包括:晶片传送室;晶片处理室;晶片传送装置;在晶片传送室内、晶片处理室前的一个位置设置的第一光电传感器,在所述位置,位于准备装载位置的晶片部分地阻挡由第一光电传感器接收的光,并且当晶片在X轴方向从所述准备装载位置朝向晶片处理室移动时,所述晶片基本完全地阻挡由第一光电传感器接收的光;以及在晶片传送室内、晶片处理室前的一个位置放置的第二光电传感器,在所述位置,位于准备装载位置的晶片不阻挡由第二光电传感器接收的光,并且当晶片在X轴方向从准备装载位置朝向晶片处理室移动时,所述晶片部分阻挡由第二光电传感器接收的光。
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