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1.薄膜成長的反應系統 REACTION SYSTEM FOR GROWING A THIN FILM 审中-公开
Simplified title: 薄膜成长的反应系统 REACTION SYSTEM FOR GROWING A THIN FILM公开(公告)号:TW200701301A
公开(公告)日:2007-01-01
申请号:TW095101879
申请日:2006-01-18
Applicant: ASM美國股份有限公司 ASM AMERICA, INC.
Inventor: 馬伊夫 維基 VERGHESE, MOHITH , 雪洛 艾立克 SHERO, ERIC , 貝比克 達寇 BABIC, DARKO , 特后司特 赫伯特 TERHORST, HERBERT , 沛薩 瑪寇 PEUSSA, MARKO , 洋 敏 YAN, MIN
CPC classification number: H01L21/68785 , C23C16/4408 , C23C16/455 , C23C16/45517 , C23C16/45525 , C23C16/45544 , C23C16/45561 , C23C16/45563 , C23C16/45582 , C23C16/45587 , C23C16/45591 , C23C16/458 , C23C16/4582 , C23C16/4583 , C23C16/4586 , C30B35/00 , H01L21/67236 , H01L21/68714 , H01L21/68742
Abstract: 一種原子沈積薄膜沈積設備包含一沈積室,此沈積室被配置用於在固定於其內部所界定之一空間內之一晶圓上沈積一薄膜。沈積室包括一與空間連通之進氣口。一氣體系統被配置用於將氣體傳輸至沈積室之進氣口。氣體系統之至少一部分被定位於沈積室的上方。氣體系統包含一被配置用於混合多種氣體流之混合器。一傳輸部件與混合器及進氣口流體連通。傳輸部件包括一對被配置用於在進入進氣口之前在水平方向散播氣體之水平擴散壁。
Abstract in simplified Chinese: 一种原子沉积薄膜沉积设备包含一沉积室,此沉积室被配置用于在固定于其内部所界定之一空间内之一晶圆上沉积一薄膜。沉积室包括一与空间连通之进气口。一气体系统被配置用于将气体传输至沉积室之进气口。气体系统之至少一部分被定位于沉积室的上方。气体系统包含一被配置用于混合多种气体流之混合器。一传输部件与混合器及进气口流体连通。传输部件包括一对被配置用于在进入进气口之前在水平方向散播气体之水平扩散壁。