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公开(公告)号：CN115023786A
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202080094170.4
申请日：2020-12-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/02 , H01J37/26 , H01J37/317
Abstract: 提供了一种用于在带电粒子系统中使用电压对比进行缺陷检查的系统和方法。该系统和方法的一些实施例包括：将载物台定位在第一位置处，以使得多个射束中的第一射束能够在第一时间扫描晶片的第一表面区域以生成与第一表面区域相关联的第一图像；将载物台定位在第二位置处，以使得多个射束中的第二射束能够在第二时间扫描第一表面区域以生成与第一表面区域相关联的第二图像；以及将第一图像与第二图像进行比较，以使得能够检测是否在晶片的第一表面区域中识别出缺陷。
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