公开(公告)号：CN118805079A

公开(公告)日：2024-10-18

申请号：CN202380023778.1

申请日：2023-02-03

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 雷海容 ,  董茜 ,  郑楚发 ,  浦凌凌 ,  任志榆 ,  林嘉文

IPC: G01N21/95 ,  H01L21/66 ,  G06T7/00 ,  G06V10/764 ,  G06V10/774 ,  G01N23/2251

Abstract: 自动缺陷分类方法可以包括从检查工具获取包括候选缺陷集的图像数据集，制定多个缺陷检查类型和多个滋扰检查类型，并使用机器学习分类器根据缺陷检查类型和滋扰检查类型来对候选缺陷集进行分类。在分类方法中使用多个滋扰检查类型来降低滋扰率。

公开(公告)号：CN118302838A

公开(公告)日：2024-07-05

申请号：CN202280077673.X

申请日：2022-10-26

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 张大彤 ,  季晓宇 ,  任伟明 ,  刘学东 ,  林嘉文

IPC: H01J37/10

Abstract: 公开了使用初级带电粒子束的探测电流得到增强且电流密度高的带电粒子束装置来检查样品的系统和方法。该装置包括带电粒子源、被配置为会聚该初级带电粒子束并且可在第一模式和第二模式下操作的第一会聚透镜，其中：在该第一模式下，该第一会聚透镜被配置为会聚该初级带电粒子束，并且在该第二模式下，该第一会聚透镜被配置为充分会聚该初级带电粒子束以沿该初级光轴形成交叉。该装置还包括：第二会聚透镜，被配置为在该第一模式下调整该初级带电粒子束的第一射束电流并且在该第二模式下调整该初级带电粒子束的第二射束电流，该第二射束电流大于该第一射束电流。

公开(公告)号：CN111247618A

公开(公告)日：2020-06-05

申请号：CN201880062475.X

申请日：2018-09-21

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 汪苏 ,  林嘉文 ,  陈仲玮 ,  叶苍浚

IPC: H01J37/244

Abstract: 本文中公开了用于使用反向散射粒子检测掩埋特征的设备(100)和方法。在一个示例中，该设备包括：带电粒子的源；平台(30)；被配置为将带电粒子的射束引导到平台上支撑的样本(9)的光学器件(16)；被配置为检测来自样本的射束中的带电粒子的反向散射粒子的信号检测器(5010)；其中信号检测器具有角分辨率。在一个实例中，该方法包括：从样本的区域获得反向散射粒子的图像；基于图像来确定掩埋特征的存在或位置。

公开(公告)号：CN111247618B

公开(公告)日：2023-02-17

申请号：CN201880062475.X

申请日：2018-09-21

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 汪苏 ,  林嘉文 ,  陈仲玮 ,  叶苍浚

IPC: H01J37/244

Abstract: 本文中公开了用于使用反向散射粒子检测掩埋特征的设备(100)和方法。在一个示例中，该设备包括：带电粒子的源；平台(30)；被配置为将带电粒子的射束引导到平台上支撑的样本(9)的光学器件(16)；被配置为检测来自样本的射束中的带电粒子的反向散射粒子的信号检测器(5010)；其中信号检测器具有角分辨率。在一个实例中，该方法包括：从样本的区域获得反向散射粒子的图像；基于图像来确定掩埋特征的存在或位置。