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公开(公告)号：TWI616642B
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW105131494
申请日：2016-09-30
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 帕迪 尼特許 , PANDEY, NITESH , 周子理 , ZHOU, ZILI , 柯蘭 愛曼德 尤金尼 愛博特 , KOOLEN, ARMAND EUGENE ALBERT , 凡 德 鄒 葛伯德 , VAN DER ZOUW, GERBRAND
CPC classification number: G03F7/70625 , G01B11/272 , G01N21/47 , G03F7/7015 , G03F7/706 , G03F7/70633
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公开(公告)号：TW201721093A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW105131494
申请日：2016-09-30
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 帕迪 尼特許 , PANDEY, NITESH , 周子理 , ZHOU, ZILI , 柯蘭 愛曼德 尤金尼 愛博特 , KOOLEN, ARMAND EUGENE ALBERT , 凡 德 鄒 葛伯德 , VAN DER ZOUW, GERBRAND
CPC classification number: G03F7/70625 , G01B11/272 , G01N21/47 , G03F7/7015 , G03F7/706 , G03F7/70633
Abstract: 本發明揭示一種用於量測一微影程序之一參數之度量衡裝置，及一種相關聯電腦程式以及一種方法。該度量衡裝置包含：一光學系統，其用於藉由運用量測輻射照明一基板上之一目標且偵測由該目標散射之該量測輻射來量測該目標；及一透鏡陣列。該陣列之每一透鏡可操作以將該經散射量測輻射聚焦至一感測器上，該透鏡陣列藉此在該感測器上形成包含複數個子影像之一影像，每一子影像係由該透鏡陣列之一對應透鏡形成。所得全光影像包含來自該等子影像之影像平面資訊、(來自該等子影像之相對位置之)波前失真資訊及來自該等子影像之相對強度之光瞳資訊。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种用于量测一微影进程之一参数之度量衡设备，及一种相关联电脑进程以及一种方法。该度量衡设备包含：一光学系统，其用于借由运用量测辐射照明一基板上之一目标且侦测由该目标散射之该量测辐射来量测该目标；及一透镜数组。该数组之每一透镜可操作以将该经散射量测辐射聚焦至一传感器上，该透镜数组借此在该传感器上形成包含复数个子影像之一影像，每一子影像系由该透镜数组之一对应透镜形成。所得全光影像包含来自该等子影像之影像平面信息、(来自该等子影像之相对位置之)波前失真信息及来自该等子影像之相对强度之光瞳信息。
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公开(公告)号：TW201816359A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW107102721
申请日：2016-09-30
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 帕迪尼特許 , PANDEY,NITESH , 周子理 , ZHOU,ZILI , 柯蘭愛曼德 尤金尼 愛博特 , KOOLEN,ARMAND EUGENE ALBERT , 凡 德 鄒葛伯德 , VAN DER ZOUW,GERBRAND
Abstract: 本發明揭示一種用於量測一微影程序之一參數之度量衡裝置，及一種相關聯電腦程式以及一種方法。該度量衡裝置包含：一光學系統，其用於藉由運用量測輻射照明一基板上之一目標且偵測由該目標散射之該量測輻射來量測該目標；及一透鏡陣列。該陣列之每一透鏡可操作以將該經散射量測輻射聚焦至一感測器上，該透鏡陣列藉此在該感測器上形成包含複數個子影像之一影像，每一子影像係由該透鏡陣列之一對應透鏡形成。所得全光影像包含來自該等子影像之影像平面資訊、(來自該等子影像之相對位置之)波前失真資訊及來自該等子影像之相對強度之光瞳資訊。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种用于量测一微影进程之一参数之度量衡设备，及一种相关联电脑进程以及一种方法。该度量衡设备包含：一光学系统，其用于借由运用量测辐射照明一基板上之一目标且侦测由该目标散射之该量测辐射来量测该目标；及一透镜数组。该数组之每一透镜可操作以将该经散射量测辐射聚焦至一传感器上，该透镜数组借此在该传感器上形成包含复数个子影像之一影像，每一子影像系由该透镜数组之一对应透镜形成。所得全光影像包含来自该等子影像之影像平面信息、(来自该等子影像之相对位置之)波前失真信息及来自该等子影像之相对强度之光瞳信息。
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公开(公告)号：TWI686587B
公开(公告)日：2020-03-01
申请号：TW107118378
申请日：2018-05-30
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TWI653513B
公开(公告)日：2019-03-11
申请号：TW106142682
申请日：2017-12-06
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 帕迪 尼特許 , PANDEY, NITESH , 周子理 , ZHOU, ZILI
IPC: G03F7/20
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公开(公告)号：TWI651514B
公开(公告)日：2019-02-21
申请号：TW107102721
申请日：2016-09-30
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 帕迪尼特許 , PANDEY,NITESH , 周子理 , ZHOU,ZILI , 柯蘭愛曼德 尤金尼 愛博特 , KOOLEN,ARMAND EUGENE ALBERT , 凡 德 鄒葛伯德 , VAN DER ZOUW,GERBRAND
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公开(公告)号：TWI699628B
公开(公告)日：2020-07-21
申请号：TW108103735
申请日：2019-01-31
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 潘迪 倪特許 , PANDEY, NITESH , 周子理 , ZHOU, ZILI , 凡 德 鄒 葛伯德 , VAN DER ZOUW, GERBRAND , 丹 包伊夫 亞歷 傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 凡 可拉吉 馬可斯 傑拉度 馬堤司 瑪麗亞 , VAN KRAAIJ, MARKUS GERARDUS MARTINUS MARIA , 柯蘭 愛曼德 尤金尼 愛博特 , KOOLEN, ARMAND EUGENE ALBERT , 克瑞馬 雨果 奧格斯提納斯 約瑟夫 , CRAMER, HUGO AUGUSTINUS JOSEPH , 希尼 保羅 克利絲丁安 , HINNEN, PAUL CHRISTIAAN , 范 衛爾特 馬丁諾斯 修伯特斯 瑪利亞 , VAN WEERT, MARTINUS HUBERTUS MARIA , 柴特瑪司 艾納諾斯堤斯 , TSIATMAS, ANAGNOSTIS , 王淑錦 , WANG, SHU-JIN , 法格金吉 歐兒 巴斯坦 歐尼 , FAGGINGER AUER, BASTIAAN ONNE , 沃馬 艾羅克 , VERMA, ALOK
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公开(公告)号：TW201903352A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107118378
申请日：2018-05-30
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 瑞芬斯伯根 珍尼克 , RAVENSBERGEN, JANNEKE , 帕迪 尼特許 , PANDEY, NITESH , 周子理 , ZHOU, ZILI , 柯蘭 愛曼德 尤金尼 愛博特 , KOOLEN, ARMAND EUGENE ALBERT , 高爾登 賽巴斯汀亞努斯 安德里亞努斯 , GOORDEN, SEBASTIANUS ADRIANUS , 法格金吉 歐兒 巴斯坦 歐尼 , FAGGINGER AUER, BASTIAAN ONNE , 麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS
Abstract: 本文中揭示一種量測形成於一基板上之一結構以判定一所關注參數之度量衡裝置。該裝置包含一光學系統，該光學系統經組態以將輻射聚焦至該結構上且將在自該結構反射之後的輻射導引至一偵測器上，其中：該光學系統經組態使得該偵測器偵測由來自一光瞳平面場分佈中之至少兩個不同點之輻射之間的干涉產生的一輻射強度，其中該干涉係使得該偵測到之輻射強度之含有關於該所關注參數之資訊的一分量相對於該偵測到之輻射強度之一或多個其他分量得以增強。
Abstract in simplified Chinese: 本文中揭示一种量测形成于一基板上之一结构以判定一所关注参数之度量衡设备。该设备包含一光学系统，该光学系统经组态以将辐射聚焦至该结构上且将在自该结构反射之后的辐射导引至一侦测器上，其中：该光学系统经组态使得该侦测器侦测由来自一光瞳平面场分布中之至少两个不同点之辐射之间的干涉产生的一辐射强度，其中该干涉系使得该侦测到之辐射强度之含有关于该所关注参数之信息的一分量相对于该侦测到之辐射强度之一或多个其他分量得以增强。
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公开(公告)号：TW201833681A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW106142682
申请日：2017-12-06
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 帕迪 尼特許 , PANDEY, NITESH , 周子理 , ZHOU, ZILI
IPC: G03F7/20
Abstract: 本發明揭示量測藉由一微影程序而形成之一目標之方法、一種度量衡設備及一種偏光器總成。該目標包含具有一第一層中之一第一週期性結構及一第二層中之一第二週期性結構的一分層結構。運用偏光量測輻射照明該目標。偵測來自該目標之零階散射輻射。使用來自該目標之該經偵測零階散射輻射來導出該第一週期性結構中之一不對稱性。該第一層與該第二層之間的一分離度係使得該經偵測零階散射輻射與該第一週期性結構與該第二週期性結構之間的疊對誤差無關。該第一週期性結構中之該經導出不對稱性係用以導出該第一週期性結構與該第二週期性結構之間的正確疊對值。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示量测借由一微影进程而形成之一目标之方法、一种度量衡设备及一种偏光器总成。该目标包含具有一第一层中之一第一周期性结构及一第二层中之一第二周期性结构的一分层结构。运用偏光量测辐射照明该目标。侦测来自该目标之零阶散射辐射。使用来自该目标之该经侦测零阶散射辐射来导出该第一周期性结构中之一不对称性。该第一层与该第二层之间的一分离度系使得该经侦测零阶散射辐射与该第一周期性结构与该第二周期性结构之间的叠对误差无关。该第一周期性结构中之该经导出不对称性系用以导出该第一周期性结构与该第二周期性结构之间的正确叠对值。
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