公开(公告)号：TWI559099B

公开(公告)日：2016-11-21

申请号：TW103143717

申请日：2014-12-15

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 陳 光青 ,  CHEN, GUANGQING ,  王禎祥 ,  WANG, JEN SHIANG ,  柏樹豐 ,  BAI, SHUFENG

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70633 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70641 ,  G03F7/70683

公开(公告)号：TW201633191A

公开(公告)日：2016-09-16

申请号：TW104137059

申请日：2015-11-10

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 陳 光青 ,  CHEN, GUANGQING ,  柏樹豐 ,  BAI, SHUFENG ,  肯恩 艾瑞克 理查 ,  KENT, ERIC RICHARD ,  盧 彥文 ,  LU, YEN-WEN ,  泰菲 保羅 安東尼 ,  TUFFY, PAUL ANTHONY ,  王禎祥 ,  WANG, JEN SHIANG ,  張 幼平 ,  ZHANG, YOUPING ,  沃特傑斯 哲詹 ,  ZWARTJES, GERTJAN ,  必吉斯馬 詹 沃特 ,  BIJLSMA, JAN WOUTER

IPC: G06F17/50 ,  G03F7/20

CPC classification number: G06F17/5009 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70683 ,  G06F17/12 ,  G06F17/14

Abstract: 本發明教示用於自動產生可適應多種微影程序及程序擾動之穩固度量衡標的的方法及系統。該方法被稱作「用於控制之設計」。將一總微影程序之個別步驟模型化成一單一程序序列，以模擬實體晶圓處理。彼程序序列推進一三維器件幾何形狀整體之創造，而非逐元件「建置」該器件幾何形狀。

Abstract in simplified Chinese: 本发明教示用于自动产生可适应多种微影进程及进程扰动之稳固度量衡标的的方法及系统。该方法被称作“用于控制之设计”。将一总微影进程之个别步骤模型化成一单一进程串行，以仿真实体晶圆处理。彼进程串行推进一三维器件几何形状整体之创造，而非逐组件“建置”该器件几何形状。

公开(公告)号：TWI632475B

公开(公告)日：2018-08-11

申请号：TW104137059

申请日：2015-11-10

Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 陳 光青 ,  CHEN, GUANGQING ,  柏樹豐 ,  BAI, SHUFENG ,  肯恩 艾瑞克 理查 ,  KENT, ERIC RICHARD ,  盧 彥文 ,  LU, YEN-WEN ,  泰菲 保羅 安東尼 ,  TUFFY, PAUL ANTHONY ,  王禎祥 ,  WANG, JEN SHIANG ,  張 幼平 ,  ZHANG, YOUPING ,  沃特傑斯 哲詹 ,  ZWARTJES, GERTJAN ,  必吉斯馬 詹 沃特 ,  BIJLSMA, JAN WOUTER

IPC: G06F17/50 ,  G03F7/20

公开(公告)号：TW201527902A

公开(公告)日：2015-07-16

申请号：TW103143717

申请日：2014-12-15

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 陳 光青 ,  CHEN, GUANGQING ,  王禎祥 ,  WANG, JEN SHIANG ,  柏樹豐 ,  BAI, SHUFENG

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70633 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70641 ,  G03F7/70683

Abstract: 一種用以選擇供用於一基板上之一度量衡目標之系統及方法，該方法包括：對用於每一所提議目標之一程序窗區上之複數個點執行一微影模擬；識別用於每一所提議目標之該複數個點中任一者之一災難性誤差；消除在該複數個點中任一者處具有一災難性誤差之每一目標；對在該複數個點中任一者處不具有一災難性誤差之每一目標執行一度量衡模擬以判定遍及該程序窗之一參數；及使用該一或多個所得經判定的經模擬參數以評估目標品質。

Abstract in simplified Chinese: 一种用以选择供用于一基板上之一度量衡目标之系统及方法，该方法包括：对用于每一所提议目标之一进程窗区上之复数个点运行一微影仿真；识别用于每一所提议目标之该复数个点中任一者之一灾难性误差；消除在该复数个点中任一者处具有一灾难性误差之每一目标；对在该复数个点中任一者处不具有一灾难性误差之每一目标运行一度量衡仿真以判定遍及该进程窗之一参数；及使用该一或多个所得经判定的经仿真参数以评估目标品质。