公开(公告)号：TWI625610B

公开(公告)日：2018-06-01

申请号：TW105129094

申请日：2016-09-08

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 奎恩斯 瑞尼 馬利奈斯 吉拉杜斯 喬翰 ,  QUEENS, RENE MARINUS GERARDUS JOHAN ,  東克波爾克 艾倫德 喬漢思 ,  DONKERBROEK, AREND JOHANNES ,  安德利希歐拉 彼多 ,  ANDRICCIOLA, PIETRO ,  凡 威斯特 艾伍德 法蘭克 ,  VAN WEST, EWOUD FRANK

IPC: G03F9/00

公开(公告)号：TW201721307A

公开(公告)日：2017-06-16

申请号：TW105129094

申请日：2016-09-08

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 奎恩斯 瑞尼 馬利奈斯 吉拉杜斯 喬翰 ,  QUEENS, RENE MARINUS GERARDUS JOHAN ,  東克波爾克 艾倫德 喬漢思 ,  DONKERBROEK, AREND JOHANNES ,  安德利希歐拉 彼多 ,  ANDRICCIOLA, PIETRO ,  凡 威斯特 艾伍德 法蘭克 ,  VAN WEST, EWOUD FRANK

IPC: G03F9/00

CPC classification number: G03F9/7034 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7092

Abstract: 一微影設備使用一高度感測器(LS)以獲得表示橫越一基板(718)之一構形變化之高度感測器資料(722)。使用(730)該高度感測器資料以控制一器件圖案在橫越該基板之多個部位處之聚焦。一控制器識別高度感測器資料被判斷為可靠的一或多個第一區域(A)及該高度感測器資料被判斷為較不可靠的一或多個第二區域(B、C)。使用用於該等第一區域之高度感測器資料連同預期器件特定構形之先前知識(712)來計算(724)用於該等第二區域之替代高度資料。使用來自該感測器之該高度資料及該替代高度資料之一組合來控制該微影設備之該聚焦。

Abstract in simplified Chinese: 一微影设备使用一高度传感器(LS)以获得表示横越一基板(718)之一构形变化之高度传感器数据(722)。使用(730)该高度传感器数据以控制一器件图案在横越该基板之多个部位处之聚焦。一控制器识别高度传感器数据被判断为可靠的一或多个第一区域(A)及该高度传感器数据被判断为较不可靠的一或多个第二区域(B、C)。使用用于该等第一区域之高度传感器数据连同预期器件特定构形之先前知识(712)来计算(724)用于该等第二区域之替代高度数据。使用来自该传感器之该高度数据及该替代高度数据之一组合来控制该微影设备之该聚焦。