公开(公告)号：TWI606310B

公开(公告)日：2017-11-21

申请号：TW105114756

申请日：2016-05-12

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 貝爾塔 傑爾特 利恩茨 ,  BEARDA, JELTE RIENTS ,  克魯基斯特 約斯特 安德烈 ,  夫哥德 羅伯特 真 ,  VOOGD, ROBBERT JAN ,  赫根哈納 奎多 ,  HERGENHAN, GUIDO ,  佩尼茲 梅克 ,  PANITZ, MEIK ,  泰伯特 喬琛 ,  TAUBERT, JOCHEN

IPC: G03F7/20 ,  G02B5/20

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/7085

公开(公告)号：TW201702755A

公开(公告)日：2017-01-16

申请号：TW105114756

申请日：2016-05-12

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 貝爾塔 傑爾特 利恩茨 ,  BEARDA, JELTE RIENTS ,  克魯基斯特 約斯特 安德烈 ,  夫哥德 羅伯特 真 ,  VOOGD, ROBBERT JAN ,  赫根哈納 奎多 ,  HERGENHAN, GUIDO ,  佩尼茲 梅克 ,  PANITZ, MEIK ,  泰伯特 喬琛 ,  TAUBERT, JOCHEN

IPC: G03F7/20 ,  G02B5/20

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/7085

Abstract: 一種形成用於一微影系統中之一輻射濾光器之方法，其包含：獲得一濾光器本體且在該本體中或上形成至少一結構，其中該至少一結構提供一濾光效應以及a)、b)、c)或d)中之至少一者：a)該至少一結構包含複數個透射、反射、吸收或螢光結構，且該方法包含提供該等結構之一所要分佈以提供一所要濾光效應；b)形成該至少一結構包含形成具有一可變厚度之至少一透射、吸收、反射或螢光層；c)形成該至少一結構包含變更至少一光學屬性以提供該光學屬性隨著位置之一變化；d)該結構包含一螢光層，該螢光層提供至少一螢光屬性隨著位置及/或入射角之變化。

Abstract in simplified Chinese: 一种形成用于一微影系统中之一辐射滤光器之方法，其包含：获得一滤光器本体且在该本体中或上形成至少一结构，其中该至少一结构提供一滤光效应以及a)、b)、c)或d)中之至少一者：a)该至少一结构包含复数个透射、反射、吸收或萤光结构，且该方法包含提供该等结构之一所要分布以提供一所要滤光效应；b)形成该至少一结构包含形成具有一可变厚度之至少一透射、吸收、反射或萤光层；c)形成该至少一结构包含变更至少一光学属性以提供该光学属性随着位置之一变化；d)该结构包含一萤光层，该萤光层提供至少一萤光属性随着位置及/或入射角之变化。