公开(公告)号：TWI581845B

公开(公告)日：2017-05-11

申请号：TW104141959

申请日：2015-12-14

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 羅伯茲 康納利 馬利亞 ,  ROPS, CORNELIUS MARIA ,  斯透斯 沃特 希爾多羅斯 馬修斯 ,  STALS, WALTER THEODORUS MATHEUS ,  貝瑟斯 大衛 ,  BESSEMS, DAVID ,  加多比吉歐 吉凡尼 路卡 ,  GATTOBIGIO, GIOVANNI LUCA ,  布蘭科 卡巴羅 維特 馬努兒 ,  BLANCO CARBALLO, VICTOR MANUEL ,  優莫林 艾瑞克 亨瑞庫司 艾居迪司 卡薩瑞納 ,  EUMMELEN, ERIK HENRICUS EGIDIUS CATHARIN ,  凡 德 翰 羅納德 ,  VAN DER HAM, RONALD ,  凡 登 禪登 費德瑞克 安東尼斯 ,  VAN DER ZANDEN, FREDERIK ANTONIUS ,  溫拿特 威爾赫馬斯 安東尼爾斯 ,  WERNAART, WILHELMUS ANTONIUS

IPC: B01D19/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03B27/52 ,  B01D19/0005 ,  B01D19/0021 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70775

公开(公告)号：TW201632241A

公开(公告)日：2016-09-16

申请号：TW104141959

申请日：2015-12-14

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 羅伯茲 康納利 馬利亞 ,  ROPS, CORNELIUS MARIA ,  斯透斯 沃特 希爾多羅斯 馬修斯 ,  STALS, WALTER THEODORUS MATHEUS ,  貝瑟斯 大衛 ,  BESSEMS, DAVID ,  加多比吉歐 吉凡尼 路卡 ,  GATTOBIGIO, GIOVANNI LUCA ,  布蘭科 卡巴羅 維特 馬努兒 ,  BLANCO CARBALLO, VICTOR MANUEL ,  優莫林 艾瑞克 亨瑞庫司 艾居迪司 卡薩瑞納 ,  EUMMELEN, ERIK HENRICUS EGIDIUS CATHARIN ,  凡 德 翰 羅納德 ,  VAN DER HAM, RONALD ,  凡 登 禪登 費德瑞克 安東尼斯 ,  VAN DER ZANDEN, FREDERIK ANTONIUS ,  溫拿特 威爾赫馬斯 安東尼爾斯 ,  WERNAART, WILHELMUS ANTONIUS

IPC: B01D19/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03B27/52 ,  B01D19/0005 ,  B01D19/0021 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70775

Abstract: 本發明提供一種用於一微影設備的流體處理結構，該流體處理結構經組態以含有至一區域之浸潤流體，該流體處理結構在一空間之一邊界處具有：至少一個氣體刀開口，其在該空間之一徑向向外方向上；及至少一個氣體供應開口，其相對於該空間在該至少氣體刀開口之該徑向向外方向上。該氣體刀開口及該氣體供應開口均提供實質上純的CO2氣體，以便鄰近於該空間及自該空間徑向向外提供一實質上純的CO2氣體環境。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种用于一微影设备的流体处理结构，该流体处理结构经组态以含有至一区域之浸润流体，该流体处理结构在一空间之一边界处具有：至少一个气体刀开口，其在该空间之一径向向外方向上；及至少一个气体供应开口，其相对于该空间在该至少气体刀开口之该径向向外方向上。该气体刀开口及该气体供应开口均提供实质上纯的CO2气体，以便邻近于该空间及自该空间径向向外提供一实质上纯的CO2气体环境。