公开(公告)号：TW201502714A

公开(公告)日：2015-01-16

申请号：TW103116148

申请日：2014-05-06

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 歐普特 羅特 威黑墨斯 派翠克 伊麗莎白 瑪麗亞 ,  OP'T ROOT, WILHELMUS PATRICK ELISABETH MARIA ,  布莫 雅卓安斯 李奧納多 歌楚德斯 ,  BOMMER, ADRIANUS LEONARDUS GERTRUDUS ,  德 瓊 羅伯特 ,  DE JONG, ROBERT ,  雅佛資 法蘭克 ,  EVERTS, FRANK ,  高德福萊德 荷曼 菲力普 ,  GODFRIED, HERMAN PHILIP ,  史東克 羅南德 派特 ,  STOLK, ROLAND PIETER ,  凡 德 維恩 保羅 ,  VAN DER VEEN, PAUL

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70558 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70516 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/225

Abstract: 本發明提供一種選擇一週期性調變以應用於一輻射源之一變數之方法，其中該源遞送輻射以用於投影至一基板上，且其中在一掃描速率下在該基板與該輻射之間存在相對運動，該方法包括：對於一組系統參數及對於該基板上之一位置，計算一數量，該數量為起因於應用於該源之該變數之該調變的對遞送至該位置之一能量劑量之貢獻的一度量，其中對該能量劑量之該貢獻被計算為如下各者之一迴旋：輻射之一量變曲線，及對由該源遞送之輻射之一輻照度之一貢獻；及選擇用於該組系統參數及該基板上之該位置之該數量滿足某一準則所處的一調變頻率。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种选择一周期性调制以应用于一辐射源之一变量之方法，其中该源递送辐射以用于投影至一基板上，且其中在一扫描速率下在该基板与该辐射之间存在相对运动，该方法包括：对于一组系统参数及对于该基板上之一位置，计算一数量，该数量为起因于应用于该源之该变量之该调制的对递送至该位置之一能量剂量之贡献的一度量，其中对该能量剂量之该贡献被计算为如下各者之一回旋：辐射之一量变曲线，及对由该源递送之辐射之一辐照度之一贡献；及选择用于该组系统参数及该基板上之该位置之该数量满足某一准则所处的一调制频率。

公开(公告)号：TWI553421B

公开(公告)日：2016-10-11

申请号：TW103116148

申请日：2014-05-06

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 歐普特 羅特 威黑墨斯 派翠克 伊麗莎白 瑪麗亞 ,  OP'T ROOT, WILHELMUS PATRICK ELISABETH MARIA ,  布莫 雅卓安斯 李奧納多 歌楚德斯 ,  BOMMER, ADRIANUS LEONARDUS GERTRUDUS ,  德 瓊 羅伯特 ,  DE JONG, ROBERT ,  雅佛資 法蘭克 ,  EVERTS, FRANK ,  高德福萊德 荷曼 菲力普 ,  GODFRIED, HERMAN PHILIP ,  史東克 羅南德 派特 ,  STOLK, ROLAND PIETER ,  凡 德 維恩 保羅 ,  VAN DER VEEN, PAUL

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70558 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70516 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/225

公开(公告)号：TWI422992B

公开(公告)日：2014-01-11

申请号：TW100107601

申请日：2011-03-07

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 史東克 羅南德 派特 ,  STOLK, ROLAND PIETER ,  凡 德 維恩 保羅 ,  VAN DER VEEN, PAUL

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/7085