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公开(公告)号：TWI620007B
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW105144086
申请日：2016-12-30
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 泰爾 溫 提波 , TEL, WIM TJIBBO , 瓦倫 湯瑪士 I , WALLOW, THOMAS I.
IPC: G03F1/70 , H01L21/027 , G06F17/50
CPC classification number: G03F1/36 , G03F1/80 , G06F17/5068 , G06F2217/12 , H01L21/0334
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公开(公告)号：TWI621845B
公开(公告)日：2018-04-21
申请号：TW105141342
申请日：2016-12-14
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 蘇洽 羅伯特 約翰 , SOCHA, ROBERT JOHN , 瓦倫 湯瑪士 I , WALLOW, THOMAS I.
CPC classification number: G06F17/5009 , G01N21/4785 , G01N2201/127 , G03F7/2002 , G03F7/2004 , G03F7/70616 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G06F17/18 , G06F2217/16 , G06N7/005 , G06N99/005
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TWI620004B
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW105132326
申请日：2016-10-06
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 瓦倫 湯瑪士 I , WALLOW, THOMAS I. , 陽鵬程 , YANG, PENG-CHENG , 黎昂斯 亞當 , LYONS, ADAM , 沙亞岡 梭雷克 米爾 法洛克 , SHAYEGAN SALEK, MIR FARROKH , 狄倫 赫曼紐斯 艾德里亞諾斯 , DILLEN, HERMANUS ADRIANUS
CPC classification number: G03F1/36 , G03F7/70441 , G03F7/705 , G03F7/70625
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公开(公告)号：TW201732420A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW105144086
申请日：2016-12-30
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 泰爾 溫 提波 , TEL, WIM TJIBBO , 瓦倫 湯瑪士 I , WALLOW, THOMAS I.
IPC: G03F1/70 , H01L21/027 , G06F17/50
CPC classification number: G03F1/36 , G03F1/80 , G06F17/5068 , G06F2217/12 , H01L21/0334
Abstract: 本發明提供一種製程，其包括：獲得至少部分地指定經由一圖案化製程及一蝕刻製程轉印至一基板之一圖案之一佈局；及藉由一或多個處理器修改該佈局以包括大於該圖案化製程之一解析度極限及小於該蝕刻製程之一解析度極限之一蝕刻輔助特徵，該蝕刻輔助特徵經組態以減小該圖案化製程或該蝕刻製程之一偏置，從而減小該佈局中之一特徵歸因於該蝕刻製程之一蝕刻誘發移位或擴展另一圖案化製程之一製程窗。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种制程，其包括：获得至少部分地指定经由一图案化制程及一蚀刻制程转印至一基板之一图案之一布局；及借由一或多个处理器修改该布局以包括大于该图案化制程之一分辨率极限及小于该蚀刻制程之一分辨率极限之一蚀刻辅助特征，该蚀刻辅助特征经组态以减小该图案化制程或该蚀刻制程之一偏置，从而减小该布局中之一特征归因于该蚀刻制程之一蚀刻诱发移位或扩展另一图案化制程之一制程窗。
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公开(公告)号：TW201732264A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW105141342
申请日：2016-12-14
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 蘇洽 羅伯特 約翰 , SOCHA, ROBERT JOHN , 瓦倫 湯瑪士 I , WALLOW, THOMAS I.
CPC classification number: G06F17/5009 , G01N21/4785 , G01N2201/127 , G03F7/2002 , G03F7/2004 , G03F7/70616 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G06F17/18 , G06F2217/16 , G06N7/005 , G06N99/005
Abstract: 本發明提供一種校準一模型之程序，該程序包括：獲得訓練資料，該訓練資料包括來自複數個結構之散射輻射資訊，該散射輻射資訊之個別部分與為該等個別結構之一圖案化程序之特性的各別程序條件相關聯；及使用一或多個處理器運用該訓練資料藉由判定將該等程序特性中之一者之一改變與散射輻射資訊之一對應改變相關之一第一比率而校準一模型。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种校准一模型之进程，该进程包括：获得训练数据，该训练数据报括来自复数个结构之散射辐射信息，该散射辐射信息之个别部分与为该等个别结构之一图案化进程之特性的各别进程条件相关联；及使用一或多个处理器运用该训练数据借由判定将该等进程特性中之一者之一改变与散射辐射信息之一对应改变相关之一第一比率而校准一模型。
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公开(公告)号：TW201721280A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW105132326
申请日：2016-10-06
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 瓦倫 湯瑪士 I , WALLOW, THOMAS I. , 陽鵬程 , YANG, PENG-CHENG , 黎昂斯 亞當 , LYONS, ADAM , 沙亞岡 梭雷克 米爾 法洛克 , SHAYEGAN SALEK, MIR FARROKH , 狄倫 赫曼紐斯 艾德里亞諾斯 , DILLEN, HERMANUS ADRIANUS
CPC classification number: G03F1/36 , G03F7/70441 , G03F7/705 , G03F7/70625
Abstract: 一種方法，其包括：針對出現於一或多個圖案化程序基板之一或多個影像中之複數個量規圖案提供複數個單位胞元，每一單位胞元表示該複數個量規圖案中之一量規圖案之一例項；一起平均化每一單位胞元之影像資訊以得到該量規圖案之一經合成表示；及基於該經合成表示來判定該量規圖案之一幾何尺寸。
Abstract in simplified Chinese: 一种方法，其包括：针对出现于一或多个图案化进程基板之一或多个影像中之复数个量规图案提供复数个单位胞元，每一单位胞元表示该复数个量规图案中之一量规图案之一实例；一起平均化每一单位胞元之影像信息以得到该量规图案之一经合成表示；及基于该经合成表示来判定该量规图案之一几何尺寸。
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公开(公告)号：TW201732450A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW105141585
申请日：2016-12-15
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 陳駿 , CHEN, JUN , 瓦倫 湯瑪士 I , WALLOW, THOMAS I. , 雷那司 巴特 , LAENENS, BART , 彭 意行 , PENG, YI-HSING
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70625 , G03F7/705
Abstract: 一種方法，其包括：針對一圖案化程序獲得複數個量規圖案之複數個量規，每一量規圖案經組態以在該圖案化程序之一參數作為該圖案化程序之部分產生時用於量測該圖案化程序之該參數；及自該複數個量規產生一或多個量規之一選擇，其中倘若該同一量規圖案之一量規及若存在的所有其他量規或連結至該量規的該同一量規圖案之該一或多個量規中之所有者通過一量規可印刷性檢查，則該量規包括在該選擇中。
Abstract in simplified Chinese: 一种方法，其包括：针对一图案化进程获得复数个量规图案之复数个量规，每一量规图案经组态以在该图案化进程之一参数作为该图案化进程之部分产生时用于量测该图案化进程之该参数；及自该复数个量规产生一或多个量规之一选择，其中倘若该同一量规图案之一量规及若存在的所有其他量规或链接至该量规的该同一量规图案之该一或多个量规中之所有者通过一量规可印刷性检查，则该量规包括在该选择中。
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