公开(公告)号：TWI585545B

公开(公告)日：2017-06-01

申请号：TW104118650

申请日：2015-06-09

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 凡 貝瑟康 雅特 艾瑞納 ,  VAN BEUZEKOM, AART ADRIANUS ,  艾伯堤 喬賽夫 安格斯堤娜斯 瑪莉亞 ,  ALBERTI, JOZEF AUGUSTINUS MARIA ,  希格斯 赫伯 馬里 ,  SEGERS, HUBERT MARIE ,  凡 德 翰 羅納德 ,  VAN DER HAM, RONALD ,  法尼 法蘭西斯 ,  FAHRNI, FRANCIS ,  歐利史萊吉斯 羅德 ,  OLIESLAGERS, RUUD ,  派特司 葛本 ,  PIETERSE, GERBEN ,  羅伯茲 康納利 馬利亞 ,  ROPS, CORNELIUS MARIA ,  凡 登 艾吉登 佩吉 ,  VAN DEN EIJNDEN, PEPIJN ,  凡東京 保羅 ,  VAN DONGEN, PAUL ,  威廉森 巴斯 ,  WILLEMS, BAS

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/7075 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70991

公开(公告)号：TW201602736A

公开(公告)日：2016-01-16

申请号：TW104118650

申请日：2015-06-09

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 凡 貝瑟康 雅特 艾瑞納 ,  VAN BEUZEKOM, AART ADRIANUS ,  艾伯堤 喬賽夫 安格斯堤娜斯 瑪莉亞 ,  ALBERTI, JOZEF AUGUSTINUS MARIA ,  希格斯 赫伯 馬里 ,  SEGERS, HUBERT MARIE ,  凡 德 翰 羅納德 ,  VAN DER HAM, RONALD ,  法尼 法蘭西斯 ,  FAHRNI, FRANCIS ,  歐利史萊吉斯 羅德 ,  OLIESLAGERS, RUUD ,  派特司 葛本 ,  PIETERSE, GERBEN ,  羅伯茲 康納利 馬利亞 ,  ROPS, CORNELIUS MARIA ,  凡 登 艾吉登 佩吉 ,  VAN DEN EIJNDEN, PEPIJN ,  凡東京 保羅 ,  VAN DONGEN, PAUL ,  威廉森 巴斯 ,  WILLEMS, BAS

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/7075 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70991

Abstract: 一種微影裝置包含：一基板台、曝光後處置模組、一基板處置機器人及一乾燥站。該基板台經組態以針對一曝光程序而支撐一基板。該曝光後處置模組係用於在曝光後處置該基板。該基板處置機器人經組態以將該基板自該基板台沿著一基板卸載路徑轉移至該曝光後處置模組中。該乾燥站經組態以自該基板之一表面主動地移除液體。該乾燥站定位於該基板卸載路徑中。該乾燥站定位於該曝光後處置模組中。該曝光後處置模組可為一晶圓處置器。

Abstract in simplified Chinese: 一种微影设备包含：一基板台、曝光后处置模块、一基板处置机器人及一干燥站。该基板台经组态以针对一曝光进程而支撑一基板。该曝光后处置模块系用于在曝光后处置该基板。该基板处置机器人经组态以将该基板自该基板台沿着一基板卸载路径转移至该曝光后处置模块中。该干燥站经组态以自该基板之一表面主动地移除液体。该干燥站定位于该基板卸载路径中。该干燥站定位于该曝光后处置模块中。该曝光后处置模块可为一晶圆处置器。