公开(公告)号：WO2016150631A1

公开(公告)日：2016-09-29

申请号：PCT/EP2016/053633

申请日：2016-02-22

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： WESTERLAKEN, Jan, Steven, Christiaan ,  BAGGEN, Marcel, Koenraad, Marie ,  JACOBS, Fransiscus, Mathijs ,  RAAYMAKERS, Jeroen, Arnoldus, Leonardus, Johannes ,  VAN DEN BERKMORTEL, Frank, Pieter, Albert ,  VAN DER WIJST, Marc, Wilhelmus, Maria

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70775 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70641 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/709 ,  G03F9/70 ,  G03F9/7046

Abstract: A measurement system for a lithographic apparatus comprises a sub-frame (100) compliantly mounted on a reference frame (RF). A measurement device, e.g. an alignment sensor (AS), is mounted on the sub-frame. The soft mounting (101) of the sub-frame isolates the alignment sensor from high-frequency disturbances, e.g. acoustic noise, by acting as a low-pass filter with a cut-off frequency, e.g. in the range of from 100 to 200 Hz.

Abstract translation: 用于光刻设备的测量系统包括顺应地安装在参考框架（RF）上的子框架（100）。 测量装置，例如 对准传感器（AS）安装在子框架上。 子框架的软安装（101）将对准传感器与高频干扰（例如， 通过充当具有截止频率的低通滤波器，例如， 在100至200Hz的范围内。

公开(公告)号：WO2017148650A1

公开(公告)日：2017-09-08

申请号：PCT/EP2017/052343

申请日：2017-02-03

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： BUTLER, Hans ,  DE HOON, Cornelius, Adrianus, Lambertus ,  JACOBS, Fransiscus, Mathijs ,  KAGAN, Pavel ,  STARREVELD, Jeroen, Pieter ,  WIJCKMANS, Maurice, Willem, Jozef, Etiënne

IPC: G03F7/20 ,  F16F15/02 ,  F16F15/023 ,  F16F15/027 ,  F16F9/02

Abstract: The invention relates to a vibration isolator (VI), comprising: a base (10); a coupling element (20) to be coupled to a vibration sensitive object; a decoupling mass (30); a first vibration isolator part (31) arranged between the base (10) and the decoupling mass (30); and a second vibration isolator part (40) arranged between the decoupling mass (30) and the coupling element (20), and wherein at least one of the first and second vibration isolator part comprises a pneumatic isolator.

Abstract translation: 本发明涉及一种隔振器（VI），包括：底座（10）;以及底座 耦合到振动敏感物体的耦合元件（20） 一个解耦体（30）; 布置在所述基座（10）与所述解耦质量体（30）之间的第一隔振器部件（31）; 和布置在所述解耦质量体（30）与所述耦合元件（20）之间的第二隔振器部件（40），并且其中所述第一隔振器部件和所述第二隔振器部件中的至少一个包括气动隔离器。

公开(公告)号：WO2017118508A1

公开(公告)日：2017-07-13

申请号：PCT/EP2016/080062

申请日：2016-12-07

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： BUTLER, Hans ,  DE HOON, Cornelius, Adrianus, Lambertus ,  JACOBS, Fransiscus, Mathijs ,  KAGAN, Pavel ,  STARREVELD, Jeroen, Pieter ,  WIJCKMANS, Maurice, Willem, Jozef, Etiënne

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/709 ,  G03F7/70833

Abstract: A lithographic apparatus is described, the lithographic apparatus comprising: - an illumination system (IL) configured to condition a radiation beam; - a support (SA2) constructed to support a patterning device (MA), the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam (PR); - a projection system (PS) configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of a substrate (W), - a stage assembly (SA) comprising: - a substrate table (WT) constructed to hold the substrate; and - a positioning device configured to displace the substrate table relative to the projection system; - a base frame onto which stage assembly and the projection system are mounted; - the base frame comprising a first portion (SABF) configured to support the stage assembly and a second portion (BF2) configured to support the projection system, the first portion and the second portion being connected to each other via a compliant portion (DC) of the base frame.

Abstract translation: 描述了一种光刻设备，该光刻设备包括： - 照射系统（IL），其被配置为调节辐射束; - 构造成支撑图案形成装置（MA）的支撑件（SA2），所述图案形成装置能够在辐射束的横截面上赋予图案以形成图案化的辐射束（PR）; - 投影系统（PS），其经配置以将所述经图案化的辐射束投影到衬底（W）的目标部分上; - 平台组合件（SA），其包括： - 衬底台（WT），其经构造以保持所述衬底; 以及 - 定位装置，其被构造成相对于所述投影系统移位所述衬底台; - 台架组件和投影系统安装在其上的基座框架; - 基架包括被配置为支撑台组件的第一部分（SABF）和被配置为支撑投影系统的第二部分（BF2），第一部分和第二部分经由柔性部分（DC）彼此连接， 的基本框架。

公开(公告)号：WO2014029601A1

公开(公告)日：2014-02-27

申请号：PCT/EP2013/066242

申请日：2013-08-02

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： VAN DER PASCH, Engelbertus, Antonius, Fransiscus ,  BEERENS, Ruud, Antonius, Catharina, Maria ,  CUIJPERS, Martinus, Agnes, Willem ,  HOOGENDAM, Christiaan, Alexander ,  JACOBS, Fransiscus, Mathijs ,  KOENEN, Willem Herman Gertruda Anna ,  LOOPSTRA, Erik, Roelof

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70483 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70775

Abstract: A lithographic apparatus comprising a moveable object (WT) and a displacement measuring system arranged to determine a position quantity of the moveable object. The displacement measuring system comprises an encoder (EC) and a grid structure. One of the encoder and the grid structure is connected to the moveable object. The grid structure comprises a high precision grid portion (HG) and a low precision grid portion (LG). The encoder is arranged to cooperate with the high precision grid portion to determine the position quantity relative to the grid structure with a high precision. The encoder is arranged to cooperate with the low precision grid portion to determine the position quantity relative to the grid structure with a low precision.

Abstract translation: 一种光刻设备，包括可移动物体（WT）和布置成确定可移动物体的位置量的位移测量系统。 位移测量系统包括编码器（EC）和网格结构。 编码器和网格结构之一连接到可移动对象。 格栅结构包括高精度格栅部分（HG）和低精度格栅部分（LG）。 编码器配置成与高精度格栅部分配合，以高精度确定相对于格栅结构的位置量。 编码器配置成与低精度格栅部分配合，以较低精度确定相对于格栅结构的位置数量。