公开(公告)号：WO2018046246A1

公开(公告)日：2018-03-15

申请号：PCT/EP2017/070586

申请日：2017-08-14

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： MASLOW, Mark, John ,  MULKENS, Johannes, Catharinus, Hubertus ,  TEN BERGE, Peter ,  VAN DE MAST, Franciscus ,  GEMMINK, Jan-Willem ,  REIJNEN, Liesbeth

IPC: G03F7/20

CPC classification number: H01L22/20 ,  G03F7/36 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/70683 ,  H01L21/31105 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/67253

Abstract: A substrate, including a substrate layer; and an etchable layer on the substrate layer, the etchable layer including a patterned region thereon or therein and including a blank region of sufficient size to enable a bulk etch rate of an etch tool for etching the blank region to be determined.

Abstract translation: 包括衬底层的衬底; 以及在衬底层上的可蚀刻层，可蚀刻层包括其上或其中的图案化区域，并且包括空白区域，该空白区域具有足够尺寸以使蚀刻工具的体蚀刻速率能够蚀刻待确定的空白区域。

公开(公告)号：EP3291008A1

公开(公告)日：2018-03-07

申请号：EP16187478.9

申请日：2016-09-06

Applicant: ASML Netherlands B.V.

Inventor： MASLOW, Mark, John ,  MULKENS, Johannes, Catharinus, Hubertus ,  TEN BERGE, Peter ,  VAN DE MAST, Franciscus ,  GEMMINK, Jan-Willem ,  REIJNEN, Liesbeth

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70683

Abstract: A substrate, including a substrate layer; and an etchable layer on the substrate layer, the etchable layer including a patterned region thereon or therein and including a blank region of sufficient size to enable an etch rate of an etch tool for etching the blank region to be determined.

Abstract translation: 一种衬底，包括衬底层; 以及在所述衬底层上的可蚀刻层，所述可蚀刻层在其上或其中包括图案化区域并且包括空白区域，所述空白区域具有足够大的尺寸以使得能够确定用于蚀刻所述空白区域的蚀刻工具的蚀刻速率。