公开(公告)号：KR20180043354A

公开(公告)日：2018-04-27

申请号：KR20187008534

申请日：2016-08-22

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： MATHIJSSEN SIMON GIJSBERT JOSEPHUS ,  DEN BOEF ARIE JEFFREY ,  PANDEY NITESH ,  TINNEMANS PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS ,  WITTE STEFAN MICHIEL ,  EIKEMA KJELD SIJBRAND EDUARD

IPC: G03F9/00

CPC classification number: G03F9/7088 ,  G03F9/7046 ,  G03F9/7092

Abstract: 리소그래피장치는기판을홀딩하도록구성되는기판테이블; 및기판테이블에의해홀딩되는기판상에제공된정렬마크의위치를감지하도록구성되는센서를포함한다. 센서는정렬마크를방사선빔으로조명하도록구성되는방사선소스, 정렬마크와상호작용한바 있는방사선빔을아웃포커스광학패턴으로서검출하도록구성되는검출기, 및데이터처리시스템을포함한다. 데이터처리시스템은, 아웃포커스광학패턴을나타내는이미지데이터를수신하고, 무렌즈이미징알고리즘을아웃포커스광학패턴에적용하는것을포함하여, 정렬정보를결정하기위하여이미지데이터를처리하도록구성된다.