公开(公告)号：KR20180043354A

公开(公告)日：2018-04-27

申请号：KR20187008534

申请日：2016-08-22

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： MATHIJSSEN SIMON GIJSBERT JOSEPHUS ,  DEN BOEF ARIE JEFFREY ,  PANDEY NITESH ,  TINNEMANS PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS ,  WITTE STEFAN MICHIEL ,  EIKEMA KJELD SIJBRAND EDUARD

IPC: G03F9/00

CPC classification number: G03F9/7088 ,  G03F9/7046 ,  G03F9/7092

Abstract: 리소그래피장치는기판을홀딩하도록구성되는기판테이블; 및기판테이블에의해홀딩되는기판상에제공된정렬마크의위치를감지하도록구성되는센서를포함한다. 센서는정렬마크를방사선빔으로조명하도록구성되는방사선소스, 정렬마크와상호작용한바 있는방사선빔을아웃포커스광학패턴으로서검출하도록구성되는검출기, 및데이터처리시스템을포함한다. 데이터처리시스템은, 아웃포커스광학패턴을나타내는이미지데이터를수신하고, 무렌즈이미징알고리즘을아웃포커스광학패턴에적용하는것을포함하여, 정렬정보를결정하기위하여이미지데이터를처리하도록구성된다.

公开(公告)号：WO2013029893A2

公开(公告)日：2013-03-07

申请号：PCT/EP2012064755

申请日：2012-07-27

Applicant: ASML NETHERLANDS BV ,  DE JAGER PIETER ,  BLEEKER ARNO ,  DEN BOEF ARIE ,  LOOPSTRA ERIK ,  PANDEY NITESH

Inventor： DE JAGER PIETER ,  BLEEKER ARNO ,  DEN BOEF ARIE ,  LOOPSTRA ERIK ,  PANDEY NITESH

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70291 ,  G03F7/70391 ,  G03F7/704 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70675

Abstract: A lithographic system has a lithographic apparatus, an inspection system and a controller. The lithographic apparatus includes a projection system configured to project a radiation beam onto a layer of material on or above a substrate. The inspection system is configured to inspect a pattern formed on the substrate. The pattern is formed on the substrate by application of the radiation beam. The controller is configured to control the lithographic apparatus to form a pattern based on data from an inspection by the inspection system of a previously exposed pattern.

Abstract translation: 光刻系统具有光刻设备，检查系统和控制器。 光刻设备包括投影系统，该投影系统配置成将辐射束投影到基底上或上方的材料层上。 检查系统被配置为检查形成在基板上的图案。 通过施加辐射束在衬底上形成图案。 控制器被配置为基于来自检查系统对先前曝光的图案的检查的数据来控制光刻设备以形成图案。

公开(公告)号：NL2009239A

公开(公告)日：2013-03-04

申请号：NL2009239

申请日：2012-07-27

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： JAGER PIETER ,  BLEEKER ARNO ,  BOEF ARIE ,  LOOPSTRA ERIK ,  PANDEY NITESH

IPC: G03F7/20