Patent search ap:("ASML NETHERLANDS BV") AND inv:"LANGELER HERMAN" Page 1

1.

发明专利
未知

公开(公告)号：NL2004872A

公开(公告)日：2010-12-20

申请号：NL2004872

申请日：2010-06-11

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： DAMEN JOHANNES , SIJBEN ANKO , ROZENVELD JOHANNES , DEKKERS JEROEN-FRANK , BRINKHOF EUGENE , LANGELER HERMAN , GOMPEL PETER

IPC: G03F7/20

2.

发明专利
RADIATION SOURCE FOR AN EUV OPTICAL LITHOGRAPHIC APPARATUS, AND LITHOGRAPHIC APPARATUS COMPRISING SUCH A POWER SOURCE. 未知

公开(公告)号：NL2011763A

公开(公告)日：2014-01-13

申请号：NL2011763

申请日：2013-11-08

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： DAMEN JOHANNES , LANGELER HERMAN

IPC: G03F7/20 , H05G2/00

3.

发明专利
ACTUATION SYSTEM AND LITHOGRAPHIC APPARATUS. 未知

公开(公告)号：NL2006693A

公开(公告)日：2011-06-09

申请号：NL2006693

申请日：2011-04-29

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： DAMEN JOHANNES , COENEN MARTINUS , LANGELER HERMAN

IPC: G03F7/20

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