-
公开(公告)号：RU2605941C2
公开(公告)日：2016-12-27
申请号：RU2014107763
申请日：2012-07-30
Applicant: BASF SE
Inventor： NOLLER BASTIAN MARTEN , DRESHER BETTINA , ZHILLO KRISTOF , LI JUZHUO
IPC: C09G1/02 , C09G1/04 , C09K3/14 , H01L21/304
Abstract: Изобретениеотноситсяк композициидляхимико-механическогополирования (ХМП) ик ееприменениюдляполированияподложекдляполупроводниковойпромышленности. Способизготовленияполупроводниковыхустройстввключаетхимико-механическоеполированиеэлементарногогерманияи/илиматериала SiGe, вкотором 0,1≤x
Search Results
1
records
(took 0.019 seconds)
筛选
AND
AND
过滤
NOT
NOT
Scan to Join
