POLYCARBONSÄUREPOLYEPOXYESTER UND DARAUF BASIERENDE HÄRTBARE EPOXIDHARZZUSAMMENSETZUNGEN
    1.
    发明申请
    POLYCARBONSÄUREPOLYEPOXYESTER UND DARAUF BASIERENDE HÄRTBARE EPOXIDHARZZUSAMMENSETZUNGEN 审中-公开
    POLYCARBONSÄUREPOLYEPOXYESTERAND事实为基础的可固化环氧树脂

    公开(公告)号:WO2015000724A1

    公开(公告)日:2015-01-08

    申请号:PCT/EP2014/063083

    申请日:2014-06-23

    Applicant: BASF SE

    CPC classification number: C08G63/42 C08G63/87 C08L67/025 C08L61/06

    Abstract: Gehärtete Epoxidharze sind aufgrund ihrer hervorragenden mechanischen und chemischen Eigenschaften weit verbreitet. Üblicherweise werden Epoxidharz auf Basis von Bisphenol-A- oder Bisphenol-F-diglycidylether eingesetzt, die jedoch wegen ihrer endokrinen Wirkung des Bisphenol-A's für viele Bereiche kritisch betrachtet werden. Die vorliegende Erfindung betrifft Polycarbonsäurepolyepoxyester, herstellbar aus mindestens einer aromatischen Dicarbonsäure und mindestens einem Polyglycidylether, welcher mehr als zwei Glycidylgruppen aufweist und darauf basierende härtbare Epoxidharz-Zusammensetzungen als Alternative zu den Bisphenol-A- oder Bisphenol-F-diglycidylether bzw. den darauf basierenden Epoxidharz-Zusammensetzungen.

    Abstract translation: 固化的环氧树脂被广泛使用,因为它们的优异的机械和化学性质。 一般环氧树脂是基于双酚A或双酚F二缩水甘油醚使用的,但由于双酚A的临界用于许多领域的其内分泌影响这些进行处理。 本发明涉及Polycarbonsäurepolyepoxyester得自至少一种芳族二羧酸和具有至少一个聚缩水甘油醚两个以上缩水甘油基和在其上的作为替代的双酚A或双酚F二缩水甘油醚环氧树脂或基于可固化环氧树脂组合物基于 成分。

    COMPOSITION FOR POST CHEMICAL-MECHANICAL-POLISHING CLEANING
    2.
    发明申请
    COMPOSITION FOR POST CHEMICAL-MECHANICAL-POLISHING CLEANING 审中-公开
    用于化学机械抛光清洁的组合物

    公开(公告)号:WO2017211653A1

    公开(公告)日:2017-12-14

    申请号:PCT/EP2017/063215

    申请日:2017-05-31

    Applicant: BASF SE

    Abstract: Described is a post chemical-mechanical-polishing (post-CMP) cleaning composition comprising or consisting of: (A) one or more water-soluble nonionic copolymers of the general formula (I) and mixtures thereof, formula (I) wherein R 1 and R 3 are idependently from each other hydrogen, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, iso-Butyl, or sec-butyl, R 2 is methyl and x and y are an integer,1 (B)poly(acrylic acid) (PAA) oracrylic acid-maleic acid copolymer with a mass average molar mass (Mw) of up to 10,000 g/mol, and (C)water, wherein the pH of the composition is in the range of from 7.0 to 10.5.

    Abstract translation: 描述了后化学机械抛光(CMP后)清洁组合物,其包含以下成分或由以下成分组成:(A)一种或多种通式(I)的水溶性非离子共聚物及其混合物 (I)其中R 1和R 3彼此独立地为氢,甲基,乙基,正丙基,异丙基,正丁基,异丁基,异丁基, 或仲丁基,R 2为甲基且x和y为整数,1(B)聚(丙烯酸)(PAA)丙烯酸 - 马来酸共聚物,其质量平均摩尔质量为Mw )至10,000克/摩尔,和(C)水,其中组合物的pH在7.0至10.5的范围内。

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