公开(公告)号：RU2589482C2

公开(公告)日：2016-07-10

申请号：RU2013120380

申请日：2011-10-04

Applicant: BASF SE

Inventor： RAMAN VIDZHAJ IMMANUEL ,  RITTIG FRANK ,  LI YUJCHZHO ,  CHIU VEJ LAN UILYAM

IPC: C09G1/02 ,  H01L21/306

Abstract: Изобретениенаправленонановуюполирующуюкомпозицию, котораяособеннохорошоподходитдляполированияподложек, имеющихструктурированныеилинеструктурированныедиэлектрическиеслоис низкойилиультранизкойдиэлектрическойпостоянной. Воднаяполирующаякомпозициясодержит (A) абразивныечастицы, выбранныеизгруппы, состоящейизоксидакремния, оксидацерияи ихсмесей, и (B) поменьшеймереодноамфифильноенеионогенноеповерхностно-активноевещество, выбранноеизгруппы, состоящейизрастворимыхв водеилидиспергируемыхв водеповерхностно-активныхвеществ, имеющих (b1) гидрофобныегруппы, выбранныеизгруппы, состоящейизразветвленныхалкильныхгрупп, имеющих 5-20 атомовуглерода; и (b2) гидрофильныегруппы, выбранныеизгруппы, состоящейизполиоксиалкиленовыхгрупп, содержащих (b21) оксиэтиленовыемономерныезвеньяи (b22) замещенныеоксиалкиленовыемономерныезвенья, вкоторыхзаместителивыбраныизгруппы, состоящейизалкильных, циклоалкильныхилиарильных, алкил-циклоалкильных, алкил-арильных, циклоалкил-арильныхи алкил-циклоалкил-арильныхгрупп; гдеуказаннаяполиоксиалкиленоваягруппасодержитмономерныезвенья (b21) и (b22) встатистическом, чередующемся, градиентноми/илиблокоподобномраспределении. Применяюткомпозициюдляпроизводстваэлектрических, механическихи оптическихустройств. Композицияимеетособенновысокуюселективностьпоотношениюк диоксидукремнияпосравнениюс материаламис низкойи ультранизкойдиэлектрическойпостоянной. 3 н. и 12 з.п. ф-лы, 2 табл., 2 пр.