公开(公告)号：RU2598046C2

公开(公告)日：2016-09-20

申请号：RU2014129612

申请日：2011-12-21

Applicant: BASF SE

Inventor： RAMAN VIDZHAJ IMMANUIL ,  LI YUZHIO ,  SHADE KRISTIAN ,  VENKATARAMAN SHIAM SUNDAR ,  SU ISON YU-SHEN ,  USMAN IBRAKHIM SHEJK ANSAR

IPC: C09G1/02 ,  C09G1/04 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304

Abstract: Изобретениеглавнымобразомотноситсяк композициидляхимико-механическогополирования (ХМП) иееприменениюв полирующихсубстратахполупроводниковойпромышленности. Композициясодержит (A) неорганическиечастицы, органическиечастицыилиихсмесь, илиихкомпозит, (B) поменьшеймереодинтипполивинилфосфоновойкислотыилиеесольв качестведиспергирующегоагентаилиагентадляобращениязаряда, (C) воднуюсредуи (D) сахарныйспиртв качествеподавителя SiN. Изобретениетакжеотноситсяк способуполученияполупроводниковыхустройств, включающемуполированиесубстратав присутствииуказаннойкомпозиции, иприменениюкомпозициидляполированиясубстрата, содержащегонитридкремнияи/илиполикремний. Композицияпроявляетулучшенныеполирующиехарактеристики. 3 н. и 6 з.п. ф-лы, 3 табл.