公开(公告)号：RU2598046C2

公开(公告)日：2016-09-20

申请号：RU2014129612

申请日：2011-12-21

Applicant: BASF SE

Inventor： RAMAN VIDZHAJ IMMANUIL ,  LI YUZHIO ,  SHADE KRISTIAN ,  VENKATARAMAN SHIAM SUNDAR ,  SU ISON YU-SHEN ,  USMAN IBRAKHIM SHEJK ANSAR

IPC: C09G1/02 ,  C09G1/04 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304

Abstract: Изобретениеглавнымобразомотноситсяк композициидляхимико-механическогополирования (ХМП) иееприменениюв полирующихсубстратахполупроводниковойпромышленности. Композициясодержит (A) неорганическиечастицы, органическиечастицыилиихсмесь, илиихкомпозит, (B) поменьшеймереодинтипполивинилфосфоновойкислотыилиеесольв качестведиспергирующегоагентаилиагентадляобращениязаряда, (C) воднуюсредуи (D) сахарныйспиртв качествеподавителя SiN. Изобретениетакжеотноситсяк способуполученияполупроводниковыхустройств, включающемуполированиесубстратав присутствииуказаннойкомпозиции, иприменениюкомпозициидляполированиясубстрата, содержащегонитридкремнияи/илиполикремний. Композицияпроявляетулучшенныеполирующиехарактеристики. 3 н. и 6 з.п. ф-лы, 3 табл.

公开(公告)号：RU2607214C2

公开(公告)日：2017-01-10

申请号：RU2013115239

申请日：2011-09-06

Applicant: BASF SE

Inventor： LI YUZHUO ,  CHU DZHEA-DZHU ,  VENKATARAMAN SHIAM SUNDAR ,  USMAN IBRAKHIM SHEJK ANSAR ,  PINDER KHARVI UEJN

IPC: C09G1/02 ,  C09G1/04 ,  C09G1/18

Abstract: Изобретениеотноситсяк воднойполирующейкомпозиции, имеющей pH от 3 до 11. Композициясодержит (А) поменьшеймереодинтипабразивныхчастиц, которыеположительнозаряженыпридиспергированиив воднойсреде, свободнойоткомпонента (В) иимеющей pH винтервалеот 3 до 9, чтоподтверждаетсяэлектрофоретическойподвижностью. Абразивныечастицы (А) являютсянеорганическимичастицами, содержащимиилисостоящимииздиоксидацерия. Композициясодержит (B) поменьшеймереодинанионныйфосфатныйдиспергирующийагент, выбранныйизгруппырастворимыхв водеконденсированныхфосфатов, причемрастворимыйв водеконденсированныйфосфатвыбранизгруппы, состоящейизметафосфатовобщейформулы I:иполифосфатовобщейформулы II и III:гдеМ являетсяаммонием, натриеми калиеми индекс n равенот 2 до 10000. Композициясодержит (C) поменьшеймереодинкомпонентнаосновемногоатомногоспирта, выбранныйизгруппы (с1) многоатомныхспиртов, причеммногоатомныйспирт (с1) содержитсяв количествахот 0,005 до 5 мас.% впересчетенамассууказаннойкомпозиции, (с2) смеси, состоящейиз (с21) поменьшеймереодногомногоатомногоспиртаи (с22) поменьшеймереодногорастворимогов водеилидиспергируемогов водеполимера, (с3) смесей (с1) и (с2). Описантакжеспособполированияподложекдляэлектрических, механическихи оптическихустройстви применениеводнойполирующейкомпозициидляизготовленияэлектрических, механическихи оптическихустройств. Техническийрезультат– обеспечениекомпозиции, имеющейулучшеннуюизбирательностьв отношенииоксидакремнияпосравнениюс нитридомкремниядажеболее 50 сполучениемотполированныхпластин, имеющихпревосходнуюглобальнуюи локальнуюплоскостность. 3 н. и 5

公开(公告)号：RU2661571C2

公开(公告)日：2018-07-17

申请号：RU2016105297

申请日：2014-07-08

Applicant: BASF SE

Inventor： LAUTER MIKHAEL ,  LI YUZHUO ,  NOLLER BASTIAN MARTEN ,  LANGE ROLAND ,  RAJKHARDT ROBERT ,  LAN JONGKING ,  BOJKO VOLODIMIR ,  KRAUS ALEKSANDER ,  SEJERL JOAKHIM VON ,  USMAN IBRAKHIM SHEJK ANSAR ,  ZIBERT MAKS ,  KHARTNAGEL KRISTIN ,  DENGLER JOAKHIM ,  KHILLESKHAJM NINA SYUZANN

IPC: C09G1/18 ,  C09G1/02 ,  C09K3/14

Abstract: Группаизобретенийотноситсяк полимернойхимиии можетбытьиспользованав полупроводниковойпромышленности. Композициядляхимико-механическойполировкисодержит (А) абразивныечастицыдиоксидацерия; (В) одинилиболееполимеров. Каждаямакромолекулаполимеровсодержит (i) однуилиболееанионныхфункциональныхгруппи (ii) однуилиболееструктурныхединиц -(AO)-R. Апредставляетсобой CH, x = 2-4; а = 5-200. R представляетсобойводородилиразветвленнуюилилинейнуюалкильнуюгруппу, имеющуюот 1 до 4 атомовуглерода. Вполимересуммамолярныхмассвсехструктурныхединиц (ii) составляетпоменьшеймере 50% отмолярноймассыуказанногополимера (В). Дляполученияполупроводниковогоустройстваосуществляютхимико-механическуюполировкуподложкив присутствиикомпозициидляхимико-механическойполировки. Полимер (В) применяютдляподавленияагломерациичастиц, содержащихдиоксидцерия, и/илидляустановлениядзета-потенциалачастиц, содержащихдиоксидцерия. Обеспечиваютсяповышениеэффективностиполировки, высокаяскоростьудалениядиоксидакремнияи регулируемаяселективность. 4 н. и 14 з.п. ф-лы, 1 ил., 13 табл.

公开(公告)号：RU2608890C2

公开(公告)日：2017-01-26

申请号：RU2013115236

申请日：2011-09-06

Applicant: BASF SE

Inventor： NOLLER BASTIAN ,  FRANTS DIANA ,  LI YUZHUO ,  USMAN IBRAKHIM SHEJK ANSAR ,  PINDER KHARVI UEJN ,  VENKATARAMAN SHIAM SUNDAR

IPC: C09G1/02 ,  A01N51/00 ,  C09G1/04

Abstract: Изобретениеотноситсяк воднымполирующимкомпозициямдляполированияматериаловподложекэлектрических, высокойточностимеханическихи оптическихустройств. Воднаяполирующаякомпозициясодержит (A) поменьшеймереоднорастворимоев водеилидиспергируемоев водесоединение, выбранноеизсолей N-замещенных N'-гидрокси-диазений-оксидов, и (В) абразивныечастицы, содержащиеоксидцерияилисостоящиеизнего. Описываетсятакжеспособполированияматериаловдодостиженияжелательнойплоскостностис использованиемуказаннойкомпозиции. Предложеннаяполирующаякомпозицияобеспечиваетповышеннуюоксид/нитрид-селективностьи улучшеннуюглобальнуюи локальнуюплоскостностьотполированныхматериаловэлектрических, механическихи оптическихустройств. 3 н. и 6 з. п. ф-лы, 2 табл., 6 пр.

公开(公告)号：RU2577281C2

公开(公告)日：2016-03-10

申请号：RU2013115235

申请日：2011-09-06

Applicant: BASF SE

Inventor： LI JUZHUO ,  CHU DZHEA-DZHU ,  VENKATARAMAN SHIAM SUNDAR ,  USMAN IBRAKHIM SHEJK ANSAR ,  PINDER KHARVI UEJN

IPC: C09G1/04 ,  C09G1/02 ,  C09G1/18 ,  C09K3/14

Abstract: Изобретениенаправленонаводнуюполирующуюкомпозицию, котораяособенноподходитдляполированияматериаловподложекдляэлектрических, механическихи оптическихустройств. Композициясодержит (A) абразивныечастицы, которыеположительнозаряжены, когдадиспергированыв воднойсреде, имеющей pH винтервалеот 3 до 9; (B) водорастворимыеилидиспергируемыев водекомпоненты, выбранныеиз (b1) алифатическихи циклоалифатическихоксикарбоновыхкислот, гдемолярноеотношениегидроксильныхгруппк группамкарбоновыхкислотсоставляетпоменьшеймере 2; (b2) сложныхэфировилилактоновоксикарбоновыхкислот (b1), имеющихпоменьшеймередвегидроксильныегруппы; и (b3) ихсмесей; и (C) водорастворимыеилидиспергируемыев водеполимерныекомпоненты, выбранныеиз (c1) линейныхи разветвленныхполимеровалкиленоксидов; (c2) линейныхи разветвленных, алифатическихи циклоалифатическихполи(N-виниламидных) полимеров; и (c3) катионныхполимерныхфлокулянтов, имеющихсреднемассовуюмолекулярнуюмассуменее 100000 Дальтон. Композициядемонстрируетулучшеннуюоксид/нитридселективностьи обеспечиваетполучениеотполированныхпластин, имеющиххорошуюглобальнуюи локальнуюплоскостность. 4 н. и 9 з.п. ф-лы, 6 табл., 6 пр.